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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109220674A(43)申请公布日2019.01.18(21)申请号201710373225.5(22)申请日2017.05.24(71)申请人贵州春禄农业有限公司地址558200贵州省黔南布依族苗族自治州独山县贵州独山经济开发区创业园(72)发明人潘文春(74)专利代理机构北京联创佳为专利事务所(普通合伙)11362代理人张梅(51)Int.Cl.A01G22/30(2018.01)A01G24/28(2018.01)A01G24/10(2018.01)权利要求书1页说明书2页(54)发明名称一种苔藓结皮培育方法(57)摘要本发明公开了一种苔藓结皮培育方法。按下述步骤进行:a、选择半阴半阳坡地建设藓圃;b、植藓前,在藓圃中放置经过精整的细土壤,之后在土壤上铺设一层5cm厚的腐质黑土,铺设后,再铺设一层1-2cm的稀黄泥;c、将野外采集的苔藓植层摊薄至1-2cm,之后切分成16cm*16cm的切块,贴覆在稀泥上;d、向切块喷洒水,保持适度在80%-85%;e、向切块喷洒激素;f、白天保持培养温度在20-25℃,夜间保持培养温度在12-14℃;g、使用光照强度为1800Lux的照射10小时/天,持续照射8-12周,苔藓连片生长。本发明生长周期短,生长速度快。CN109220674ACN109220674A权利要求书1/1页1.一种苔藓结皮培育方法,其特征在于,按下述步骤进行:a、选择半阴半阳坡地建设藓圃;b、植藓前,在藓圃中放置经过精整的细土壤,之后在土壤上铺设一层5cm厚的腐质黑土,铺设后,再铺设一层1-2cm的稀黄泥;c、将野外采集的苔藓植层摊薄至1-2cm,之后切分成16cm*16cm的切块,贴覆在稀泥上;d、向切块喷洒水,保持适度在80%-85%;e、向切块喷洒激素;f、白天保持培养温度在20-25℃,夜间保持培养温度在12-14℃;g、使用光照强度为1800Lux的照射10小时/天,持续照射8-12周,苔藓连片生长。2.根据权利要求1所述的苔藓结皮培育方法,其特征在于,所述的步骤d中,喷洒对的激素为赤霉素、细胞分裂素或植物生长素中的一种或几种。3.根据权利要求2所述的苔藓结皮培育方法,其特征在于,所述的赤霉素为0.02-0.025g/L。4.根据权利要求3所述的苔藓结皮培育方法,其特征在于,所述的细胞分裂素为0.015-0.02g/L。5.根据权利要求4所述的苔藓结皮培育方法,其特征在于,所述的植物生长素为0.015-0.025g/L。6.根据权利要求1或2所述的苔藓结皮培育方法,其特征在于,所述的步骤f中,白天保持培养温度在22℃,夜间保持培养温度在13℃。2CN109220674A说明书1/2页一种苔藓结皮培育方法技术领域[0001]本发明涉及苔藓种植领域,特别是一种苔藓结皮培育方法。背景技术[0002]苔藓植物是一种小型的绿色植物,结构简单,仅包含茎和叶两部分,有时只有扁平的叶状体,没有真正的根苔藓和维管束。苔藓植物喜欢有一定阳光及潮湿的环境,一般生长在裸露的石壁上,或潮湿的森林和沼泽地。通常,苔藓类主要作为园艺材料人工地在自然环境下栽培。这是由于对于苔藓类的需求规模相对较小,在自然环境下的栽培可以足够满足需求。现有技术由于生长缓慢,要花费4~6月的时间才能连片(即结皮)生长。发明内容[0003]本发明的目的,是提供一种苔藓结皮培育方法,本发明生长周期短,生长速度快。[0004]本发明是这样实现的。[0005]一种苔藓结皮培育方法,按下述步骤进行:a、选择半阴半阳坡地建设藓圃;b、植藓前,在藓圃中放置经过精整的细土壤,之后在土壤上铺设一层5cm厚的腐质黑土,铺设后,再铺设一层1-2cm的稀黄泥;c、将野外采集的苔藓植层摊薄至1-2cm,之后切分成16cm*16cm的切块,贴覆在稀泥上;d、向切块喷洒水,保持适度在80%-85%;e、向切块喷洒激素;f、白天保持培养温度在20-25℃,夜间保持培养温度在12-14℃;g、使用光照强度为1800Lux的照射10小时/天,持续照射8-12周,苔藓连片生长。[0006]前述的苔藓结皮培育方法所述的步骤d中,喷洒对的激素为赤霉素、细胞分裂素或植物生长素中的一种或几种。[0007]前述的苔藓结皮培育方法中,所述的赤霉素为0.02-0.025g/L。[0008]前述的苔藓结皮培育方法中,所述的细胞分裂素为0.015-0.02g/L。[0009]前述的苔藓结皮培育方法中,所述的植物生长素为0.015-0.025g/L。[0010]前述的苔藓结皮培育方法所述的步骤f中,白天保持培养温度在22℃,夜间保持培养温度在13℃。[0011]与现有技术相比,本发明在半阴半阳坡地建设藓圃,能够有效增加通风效果;本