防水膜及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102776477A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102776477A(43)申请公布日2012.11.14(21)申请号201210245450.8(22)申请日2012.07.16(71)申请人福州阿石创光电子材料有限公司地址350200福建省福州市长乐市航城街道琴江村太平里168号(72)发明人陈钦忠陈本宋郑棋山(74)专利代理机构福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙)35212代理人翁素华(51)Int.Cl.C23C14/12(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书权利要求书11页页说明书说明书33页页(54)发明名称防水膜及其制备方法(57)摘要本发明涉及一种防水膜及其制备方法，该防水膜适用于光学镜片、手机面板、触摸屏等产品的表面。包括：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um；将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，制得防水膜。CN102764ACN102776477A权利要求书1/1页1.防水膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤1：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；步骤2：将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；步骤3：将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；步骤4：在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um；步骤5：将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，制得防水膜。2.如权利要求1所述的防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤1中氧化物原料载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。3.如权利要求1或2所述的防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤2中的胶黏剂包括水、或乙醇、或丙三醇中的一种。4.如权利要求1所述的防水膜的制备方法所制得的防水膜，其特征在于：包括多孔氧化物载体、及其置于所述多孔氧化物载体的孔中的有机氟硅化合物溶液。5.如权利要求4所述的防水膜，其特征在于：所述氧化物载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。2CN102776477A说明书1/3页防水膜及其制备方法【技术领域】[0001]本发明涉及一种防水膜及其制备方法，该防水膜适用于光学镜片、手机面板、触摸屏等产品的表面。【背景技术】[0002]现在随着光学应用领域的不断发展，光电产品的应用范围越来越广，对产品的要求也越来越高。现有技术中，为满足光学镜片、眼镜镜片、触摸屏、手机面板等产品的需求，通过真空镀膜机，使用五氧化二钽、五氧化三钛、二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡等无机材料，在基片的表面蒸镀增透膜或导电膜，达到所需求的光学或导电性能指标要求。[0003]在真空镀膜时，无机材料在电阻加热或电子枪高能轰击下，成为蒸汽在基片表面冷却沉积。由于蒸汽在沉积时形成的膜层，在微观结构上是不平坦的，而且存在大量的毛细空隙，使镜片表面易吸附各种灰尘、水、油污等，容易刮伤产品的表面，影响产品的光学性能，为克服这一缺陷，一般在产品的表面除了蒸镀增透膜或导电膜外，还需蒸镀一层防水膜，保护产品的基片。[0004]目前市面上使用的防水膜一般使用铜基底载体和铜坩埚铁丝载体，主要缺点在于：一是在真空镀膜时有可能将金属材料蒸镀上去，影响产品的性能；二是制作成本较高、制作工艺比较繁琐；三是现今各国对环保方面要求越来越高，尤其是欧盟等先进国家对这方面有着更为苛刻的要求，已经开始逐渐限制防水膜所需的铜金属制品材料的进口，这将严重阻碍防水膜等真空镀膜材料的应用和发展。[0005]因此，有必要开发一种新的成本较低、性能较高、不影响环境的防水膜，这将具有良好的市场前景。【发明内容】[0006]本发明所要解决的技术问题在于提供一种防水膜及其制备方法，制作方法简便，制得的防水膜用于产品表面且不会影响其光学性能及导电性能。[0007]本发明采用以下技术方案解决上述技术问题：[0008]防水膜的制备方法，包括如下步骤：[0009]步骤1：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；[0010]步骤2：将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；[0011]步骤3：将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；[0012]步骤4：在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um