用于烤炉的烤盘.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104023541104023541A(43)申请公布日2014.09.03(21)申请号201280040272.3(51)Int.Cl.(22)申请日2012.08.17A21B3/13(2006.01)A21B3/15(2006.01)(30)优先权数据A21B5/02(2006.01)A1190/20112011.08.18AT(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.02.18(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2012/0660882012.08.17(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/024152DE2013.02.21(71)申请人哈斯食品设备有限责任公司地址奥地利维也纳(72)发明人A.雷哈特J.哈亚斯J.哈亚斯S.吉拉斯辰克M.里奇特沙伊德F.奧博迈尔(74)专利代理机构中国专利代理(香港)有限公司72001代理人陈浩然杨国治权权利要求书2页利要求书2页说明书6页说明书6页附图8页附图8页(54)发明名称用于烤炉的烤盘(57)摘要本发明涉及一种用于产生烘烤产品、如软华夫饼、松脆的华夫饼、煎饼等的烤炉用的烤盘，其特征在于，烤盘(9,10)具有支承板(11,12)和布置在其处的一个或多个烘烤附件(25)，其构造用于容纳待烘烤的面团，并且烘烤附件(25)由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。CN104023541ACN104235ACN104023541A权利要求书1/2页1.一种用于产生烘烤产品、如软华夫饼、松脆的华夫饼、煎饼等的烤炉用的烤盘，其特征在于，所述烤盘(9,10)具有支承板(11,12)和布置在所述支承板(11,12)处的一个或多个烘烤嵌件(25)，其构造用于容纳待烘烤的面团，并且所述烘烤嵌件(25)由带有较高韧性和较小热膨胀的烧结陶瓷来形成。2.根据权利要求1所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件插入所述支承板(11,12)的嵌件凹口(24)中并且所述支承板(11,12)由材料、优选地金属、特别优选地灰口铸铁来形成，其热膨胀等于或大于所述烘烤嵌件(25)的热膨胀。3.根据权利要求1或2所述的烤盘，其特征在于，所述支承板(11,12)是烤钳(3)的部分，所述烤钳(3)具有下部的和上部的烤盘(9,10)，并且其中，所述支承板(11,12)与所述烤钳(3)能够移动通过输入工位(19)、加热的烘烤腔(21)和输出工位(18)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的烤盘，其特征在于，对于温度范围20至200℃，所述烘烤嵌件(25)具有热膨胀系数α<9[10-6×K-1]而所述支承板具有热膨胀系数α>9。5.根据权利要求1至4中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)具有大约3.2的热膨胀系数而所述支承板具有大约12.5的热膨胀系数。6.根据权利要求1至5中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)由氮化硅或碳化硅、优选地由AI/Y类型的气体压力烧结的氮化硅来形成。7.根据权利要求1至6中任一项所述的烤盘，其特征在于，在所述承载板(11,12)中的所述嵌件凹口(24)构造用于以较小间隙容纳所述烘烤嵌件(25)，使得所述烘烤嵌件能够精确匹配地插入且又能够取出。8.根据权利要求1至7中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)在烘烤面侧(33)处设有对于所述烘烤产品所期望的表面造型和环绕的密封肋(26)以及环绕的侧边(27)。9.根据权利要求1至8中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烘烤嵌件(25)通过接片(28)固定在所述嵌件凹口(24)中，所述接片(28)与所述支承板(11,12)固定地、优选地通过螺栓(29)相连接并且搭接所述烘烤嵌件(25)的侧边(27)地来布置。10.根据权利要求1至9中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述侧边(27)对于每个接片(28)具有边缘凹口(30)。11.根据权利要求1至10中任一项所述的烤盘，其特征在于，对于每个烘烤嵌件(25)设置有至少两个、优选地三个或四个接片(28)和边缘凹口(30)。12.根据权利要求1至11中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述接片(28)由金属、优选地由不锈钢来形成。13.根据权利要求1至12中任一项所述的烤盘，其特征在于，每个嵌件凹口(24)具有通风孔(32)。14.根据权利要求1至13中任一项所述的烤盘，其特征在于，烤钳(3)的烤盘(9,10)各布置在支架(12,13)中并且下部的和上部的所述支架经由铰链(15)相互连接。15.根据权利要求1至14中任一项所述的烤盘，其特征在于，所述烤盘(9,10)是烤盘钳的一部分，所述烤盘钳具有下部的和上部的烤盘，其中，其烘烤嵌件(25)彼此相对而置，使得在所述烤钳