一种偏硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106277798A(43)申请公布日2017.01.04(21)申请号201510304854.3(22)申请日2015.06.04(71)申请人深圳爱尔创口腔技术有限公司地址518057广东省深圳市南山区科华路5号珠园大厦五层(72)发明人郑艳春宋国轶王鸿娟(74)专利代理机构北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙)11413代理人刘继富王春伟(51)Int.Cl.C03C10/04(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称一种偏硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法(57)摘要本发明实施例公开了一种偏硅酸锂玻璃陶瓷的制备方法，包括以下步骤：(a)制备基质玻璃液；(b)将基质玻璃液倒入模具中，冷却得到基质玻璃坯体；(c)将基质玻璃坯体放置于加热装置中，进行热处理，热处理的工艺参数包括：以5～20℃/分钟的升温速率，升温至450～600℃，并保温20～150分钟。热处理结束后随炉冷却，得到偏硅酸锂玻璃陶瓷。本发明的技术方案与现有技术相比，所得到的偏硅酸锂玻璃陶瓷中，主晶相偏硅酸锂的晶体形态呈现纳米尺寸并且晶体形态为均匀的球形，晶化程度较低，从而降低了偏硅酸锂玻璃陶瓷的硬度，能够减少加工过程中，对切削车针或打磨工具的磨损，也使得整体加工时间缩短。CN106277798ACN106277798A权利要求书1/2页1.一种偏硅酸锂玻璃陶瓷的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(a)制备包括以下组分的基质玻璃液：SiO2：60.0wt％～74.0wt％，Li2O：10.0wt％～20.0wt％，K2O：0.5wt％～5.0wt％，Al2O3：2.0wt％～5.0wt％，P2O5：2.5wt％～10.0wt％，其中，各组分的重量百分数基于基质玻璃液的总重量；(b)将基质玻璃液倒入模具中，冷却得到基质玻璃坯体；(c)将基质玻璃坯体放置于加热装置中，进行热处理，热处理的工艺参数包括：以5～20℃/分钟的升温速率，升温至450～600℃，并保温20～150分钟；热处理结束后随炉冷却，得到偏硅酸锂玻璃陶瓷。2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，基于基质玻璃液的总重量，基质玻璃液的组分还包括：0wt％～3.5wt％的B2O3、0wt％～10.0wt％的ZrO2、0wt％～5.0wt％的ZnO、0wt％～1.5％wt％的MgO、0wt％～2.0wt％的La2O3、0wt％～2.5wt％Na2O、0wt％～2.0％wt％CaO及0.1wt％～10.0wt％的着色氧化物中的至少一种。3.如权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述着色氧化物选自以下元素氧化物中的至少一种，所述元素为铁、钛、钒、锰、铜、铬、钴、镍、硒及稀土金属。4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，制备基质玻璃液的方法包括以下步骤：根据各组分的重量百分数，称取各组分相应的原料，研磨后混合均匀，制成配合料；将配合料以10～15℃/分钟的加热速率加热至1500～1550℃，并保温0.5～3小时，使其完全熔融并澄清均化，制得基质玻璃液。5.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在步骤(a)制备出基质玻璃液后，还包括：将基质玻璃液进行水淬，得到基质玻璃碎块，然后将所述基质玻璃碎块在100～150℃的条件下烘干1～2h；将烘干后的基质玻璃碎块熔融成基质玻璃液；再进行步骤(b)将基质玻璃液倒入模具中，冷却得到基质玻璃坯体。6.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在将基质玻璃液倒入模具中之前，将模具预热至300～450℃。7.如权利要求1-6中任一权利要求所述的制备方法，其特征在于，热处理的工艺参数包括：升温速率为5～15℃/分钟。8.如权利要求1-6中任一权利要求所述的制备方法，其特征在于，热处理的工艺参数包括：升温至500～600℃，优选升温至560～590℃。9.如权利要求1-6中任一权利要求所述的制备方法，其特征在于，热处理的工艺参数包括：保温60～120分钟。10.如权利要求1-6中任一权利要求所述的制备方法，其特征在于，所得到的偏硅酸锂玻璃陶瓷采用CAD/CAM技术或失蜡法热压铸技术进行成型加工。11.一种由如权利要求1-10中任一权利要求所述的方法制备的偏硅酸锂玻璃陶瓷，其特征在于，偏硅酸锂玻璃陶瓷的晶体形态为球形，晶粒尺寸为30～60nm，晶相含量为20～2CN106277798A权利要求书2/2页40％。3CN106277798A说明书1/8页一种偏硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及陶瓷领域，特别涉及一种偏硅酸锂玻璃陶瓷及其制备方法。背景技术[0002]二硅酸锂玻璃陶瓷由于具有良好的机械性能和突出的美学效果，被广泛应用于牙科修复领域。[0003]但是，二