一种用于紫外光电探测器的MgZnO纳米线阵列的制备方法.pdf
念珊****写意
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一种用于紫外光电探测器的MgZnO纳米线阵列的制备方法.pdf
本发明公开了一种用于紫外光电探测器的MgZnO纳米线阵列的制备方法,包括:采用双温区化学气相沉积管式炉,低温区为镁源,温度为500‑900℃;高温区为锌源,温度为850‑1100℃,锌源为氧化锌和碳粉的混合物;调整双温区化学气相沉积管式炉的升温速率为10℃/min,通入纯度为99.99%的氮气和纯度为99.99%的氧气的混合载气,当低温区、高温区达到各自的温度后,保温20‑30min,关断混合载气,然后抽真空、自然冷却到室温,得到MgZnO纳米线阵列。本发明通过用双温区气相沉积法制备纳米线,不需要提前制备
一种氧化锌纳米线阵列紫外光电探测器的制备方法.pdf
本发明公开了一种基于氧化锌纳米线阵列的紫外光电探测器,属于光电子器件领域。本发明利用化学气相沉积技术,通过调节双温区管式炉装中真空压力等实验参数,在氮化镓衬底上实现氧化锌纳米线阵列的均匀可控生长,然后利用透明导电玻璃直接贴压法,得到对365nm紫外光具有毫秒量级的快速响应和恢复时间的紫外光电探测器。本方法工艺简单,材料成本低廉,在快速紫外光电传感器和短波长光电器件领域有广泛的运用前景。
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MgZnO紫外光电探测器研究MgZnO半导体材料因具有较宽的光学带隙调节范围(3.3eV<sup>7</sup>.8eV)、晶格匹配的单晶衬底、较低的制备温度、资源丰富、较强的抗辐射能力,以及无环境污染等优点,使得该半导体材料在紫外光电探测器方面有着广阔的应用前景。本论文通过射频磁控溅射技术制备高质量MgZnO薄膜,采用紫外曝光和湿法刻蚀的方法制备MSM结构的MgZnO紫外光电探测器,主要研究工作如下:(1)利用射频磁控溅射设备在石英衬底上溅射生长了高质量的不同组分的MgZnO半导体薄膜,实现了MgZnO
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Si纳米线阵列-4H-SiC纳米线阵列、及其制备方法和在紫外光电探测器中的应用.pdf
本发明属于光电技术领域,具体来说是Si纳米线阵列‑4H‑SiC纳米线阵列、及其制备方法和在紫外光电探测器中的应用,紫外光电探测器由下至上分别为金属电极、单晶Si基底、Si纳米线阵列、4H‑SiC纳米线阵列、金属电极,紫外光电探测器的制备包括以下步骤:(1)碳化硅与硅单晶片预处理;(2)碳化硅纳米线阵列的生长与转移;(3)硅纳米线阵列的生长;(4)硅纳米线阵列与碳化硅纳米线阵列的焊接制备紫外光电探测器;本发明的紫外光电探测器制备方法简单,成本低廉,通过Si‑4H‑SiC纳米线阵列形成的pn结结构具备较高的响