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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106841254A(43)申请公布日2017.06.13(21)申请号201710009606.5(22)申请日2017.01.06(71)申请人中国工程物理研究院核物理与化学研究所地址621999四川省绵阳市919信箱218分箱(72)发明人庞蓓蓓孙光爱李新喜屠小青闫冠云王燕黄朝强龚建(74)专利代理机构中国工程物理研究院专利中心51210代理人翟长明韩志英(51)Int.Cl.G01N23/20(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称一种用于中子散射实验的温度加载装置(57)摘要本发明提供了一种用于中子散射实验的温度加载装置,所述装置包括由炉体腔体、入射窗口板、出射窗口板和水冷管组成的加热炉组件、由伺服电缸、样品台面和样品台底座组成的平移样品台组件、由升降气缸、高位置限位开关、低位置限位开关、活动支架和升降底座组成的气动升降支架组件。本发明的用于中子散射实验的温度加载装置中的加热炉开设样品装入孔,与气动升降支架组件配合使用可完成样品的加热炉的自动装载与卸载,再协调平移样品台组件的走位状态,能够实现在中子散(衍)射实验中对多个样品进行原位温度环境加载和样品间的自动切换,可有效降低实验人员的劳动强度、射线照射风险,缩短样品切换时间。CN106841254ACN106841254A权利要求书1/1页1.一种用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的装置包括加热炉、平移样品台、气动升降支架;所述的加热炉包括炉体腔体(1)、入射窗口板(2)、出射窗口板(3)、水冷管(4),所述的平移样品台包括伺服电缸(5)、样品台面(6)、样品台底座(12),所述的气动升降支架包括升降气缸(7)、高位置限位开关(8)、低位置限位开关(9)、活动支架(10)、升降底座(11);所述的炉体腔体(1)上开设中子入射孔、中子出射孔,底部开设样品装入孔;其连接关系是,入射窗口板(2)、出射窗口板(3)分别固定在炉体腔体(1)的中子入射孔、中子出射孔的外部,水冷管(4)安装在炉体腔体(1)的样品装入孔的外部周边;样品台面(6)固定安装在伺服电缸(5)上,伺服电缸(5)安装在样品台底座(12)上,样品台底座(12)位于地面上;活动支架(10)与升降气缸(7)的活动端连接,高位置限位开关(8)、低位置限位开关(9)从上至下固定安装在升降气缸(7)的行程高位置、低位置,升降气缸(7)安装在升降底座(11)上;炉体腔体(1)上部与活动支架(10)固定连接,升降底座(11)位于伺服电缸(5)侧面的地面上,炉体腔体(1)位于样品台面(6)的正上方。2.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的炉体腔体(1)外形为一长方体,内部铺设加热丝,并填充保温纤维材料。3.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的入射窗口板(2)、出射窗口板(3)的材料采用纯铝或蓝宝石中的一种。4.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的水冷管(4)两端加工有螺纹,通过快接接头与循环水管连接,水冷管(4)选用铜或铝或不锈钢材料中的一种。5.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的样品台面(6)上有N个样品固定支架,相邻样品固定支架的间距L与炉体腔体(1)的宽度W之间的关系满足:L-0.5W≥20mm。6.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的伺服电缸(5)在水平方向平移,平移方向与中子束流垂直,伺服电缸(5)的行程范围S=N×L。7.根据权利要求1所述的用于中子散射实验的温度加载装置,其特征在于:所述的升降气缸(7)为单活塞杆气缸,当压缩气体进入时,升降气缸(7)带动活动支架(10)上升至活动支架(10)触碰到高位置限位开关(8)后停止;压缩气体供给中断后,升降气缸(7)带动活动支架(10)下降至活动支架(10)触碰到低位置限位开关(9)后停止,炉体腔体(1)底部的水冷管(4)位于样品台面(6)上方的1mm处。2CN106841254A说明书1/4页一种用于中子散射实验的温度加载装置技术领域[0001]本发明属于中子散(衍)射应用中的环境加载技术领域,具体涉及一种用于中子散射实验的温度加载装置。背景技术[0002]中子散(衍)射技术具有无损检测和深穿透特性,可对材料的内部微观结构、界面结构、内部缺陷等特性进行直接测量,而材料的很多特性会受到所处温度环境的影响而发生变化,为了研究温度对材料特性的影响,需要利用原位温度加载装置改变被测样品的温度环境,再使用中子散(衍)射谱仪测量材料受温度影响的变化机制。由于中子测量实验现场存在中子、伽玛射线,为了