一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107365054A(43)申请公布日2017.11.21(21)申请号201710625104.5(22)申请日2017.07.27(71)申请人彩虹(合肥)液晶玻璃有限公司地址230011安徽省合肥市新站平板显示工业园万罗山路(72)发明人吴国天江可孙钢智侯宏荣孙绪(74)专利代理机构西安通大专利代理有限责任公司61200代理人陆万寿(51)Int.Cl.C03B5/235(2006.01)C03B5/185(2006.01)C03B5/027(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置(57)摘要本发明公开了一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，通过在池底竖直均布多个钼棒电极结合窑炉池壁侧壁燃枪形成电气共同加热，从而解决玻璃窑炉玻璃液中温度不均匀的问题，在窑炉中靠近钼棒电极附近的温度较高，特别是钼棒电极顶端，因为钼棒电极附近能量密度较高，会使附近玻璃液体获得较高的能量，导致钼棒电极附近单位质量的玻璃液温度升高，玻璃液沿电极表面上涌，然后沿中心或较冷区域运动，较冷区域的玻璃液则由于静压的变化向热区回流，液流首先从表面开始，遇到钼棒电极顶端上涌的液流又使它改变速度和方向，甚至折回，自然流动和强制流动方向互成角度，会形成适合与玻璃均化的螺旋状合流，更有利于玻璃溶液中的温度均匀。CN107365054ACN107365054A权利要求书1/1页1.一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，包括用于玻璃液(5)盛放熔融的窑炉(2)，窑炉(2)包括窑炉池壁(4)和池底(6)，窑炉池壁(4)侧壁设有燃枪(3)，池底(6)竖直均布有多个钼棒电极(1)。2.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，其中靠近窑炉池壁(4)的一圈钼棒电极高于其他钼棒电极，靠近窑炉池壁(4)的一圈钼棒电极低于玻璃液(5)液面。3.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，窑炉池壁(4)和池底(6)均由耐火材制成。4.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，池底(6)为多层结构。5.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，池底(6)呈阵列分布均布有多个钼棒电极。6.根据权利要求5所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，相邻两列钼棒电极中心距为500mm，相邻两行钼棒电极中心距为1350mm。7.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，具体的池底(6)呈4*5阵列分布有20个钼棒电极。8.根据权利要求1所述的一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，其特征在于，钼棒电极(1)表面涂覆有铂合金层。2CN107365054A说明书1/3页一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置技术领域[0001]本发明涉及玻璃加热熔融技术领域，具体涉及一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置。背景技术[0002]在平板显示玻璃窑炉中，由于玻璃成分主要是无碱型硅酸盐，玻璃液电阻较大，玻璃窑炉结构一般选电气混合窑炉。玻璃窑炉中的玻璃液一般通过水平插入方式的锡电极加热，氧化锡电极虽然化学稳定性好，耐火度高，热膨胀系数小等优点，但热冲击性差，在温度高于1500℃时，挥发速度加大，且和玻璃液是非浸润界面，在高温玻璃冲刷侵蚀下所产生的磨损颗粒会滞留在玻璃液中污染玻璃液。在工业生产中，虽然使用水平侧插电极可方便安装，但电极端部的电流密度大大高于其他部位，造成玻璃窑炉中玻璃液温度分布不均匀，且电极易腐蚀。发明内容[0003]本发明的目的在于提供一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，以克服现有技术的不足。[0004]为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：[0005]一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，包括用于玻璃液盛放熔融的窑炉，窑炉包括窑炉池壁和池底，窑炉池壁侧壁设有燃枪，池底竖直均布有多个钼棒电极。[0006]进一步的，其中靠近窑炉池壁的一圈钼棒电极高于其他钼棒电极，靠近窑炉池壁的一圈钼棒电极低于玻璃液液面。[0007]进一步的，窑炉池壁和池底均由耐火材制成。[0008]进一步的，池底为多层结构。[0009]进一步的，池底呈阵列分布均布有多个钼棒电极。[0010]进一步的，相邻两列钼棒电极中心距为500mm，相邻两行钼棒电极中心距为1350mm。[0011]进一步的，池底呈4*5阵列分布有20个钼棒电极。[0012]进一步的，钼棒电极表面涂覆有铂合金层。[0013]与现有技术相比，本发明具有以下有益的技术效果：[0014]本发明一种用于玻璃熔融加热的窑炉装置，包括用于玻璃液盛放熔融的窑炉，窑炉包括窑炉池壁和池底，窑炉池壁侧壁设有燃枪，池底竖直均布有多个钼棒电极，通过在池底竖直均布多个钼棒