上引炉的铜料处理装置以及上引炉.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109048589A(43)申请公布日2018.12.21(21)申请号201810813638.5B24B9/04(2006.01)(22)申请日2018.07.23B24B55/06(2006.01)B08B3/02(2006.01)(71)申请人杭州富通电线电缆有限公司F27B14/08(2006.01)地址311400浙江省杭州市富阳区金秋大F27D1/18(2006.01)道富通科技内F27D7/02(2006.01)(72)发明人杨喜海F27D3/00(2006.01)(74)专利代理机构杭州裕阳联合专利代理有限公司33289代理人姚宇吉(51)Int.Cl.B24B27/00(2006.01)B24B27/033(2006.01)B24B41/00(2006.01)B24B41/06(2012.01)B24B41/02(2006.01)权利要求书2页说明书8页附图8页(54)发明名称上引炉的铜料处理装置以及上引炉(57)摘要本申请公开了上引炉的铜料处理装置以及上引炉，其中铜料处理装置包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。本申请设置上下除杂机构和四边除杂机构能够有效去除铜料外表面沾到的杂质，能够有效提高加工出的铜杆质量。CN109048589ACN109048589A权利要求书1/2页1.一种上引炉的铜料处理装置，其特征在于，包括依次设置的上下除杂机构以及四边除杂机构，所述上下除杂机构用于去除铜料上下表面的杂质，所述四边除杂机构用于去除铜料四个侧边的杂质；所述上下除杂机构包括能够移动的上磨辊和下磨辊，上磨辊用于对铜料的上表面进行打磨，下磨辊用于对铜料的下表面进行打磨。2.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述上下除杂机构还包括：第一机架；多个第一输送辊，转动安装在第一机架上，用于支撑并输送铜料；第一驱动电机，固定在第一机架上，用于驱动第一输送辊转动；竖直轨道，设置在第一机架上；上滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的上方，所述上磨辊转动安装在上滑座上，上滑座上还包括驱动上磨辊转动的第一磨辊电机；第一气缸，安装在第一机架上，第一气缸的活塞杆与上滑座固定，用于驱动所述上滑座上下移动；下滑座，滑动设置在竖直轨道上，上滑座位于相邻的两个第一输送辊之间，且位于第一输送辊的下方，所述下磨辊转动安装在下滑座上，下滑座上还包括驱动下磨辊转动的第二磨辊电机；第二气缸，安装在第一机架上，第二气缸的活塞杆与下滑座固定，用于驱动所述下滑座上下移动。3.如权利要求2所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述机架在第一输送辊两侧的上方转动安装有限位辊，各限位辊竖直设置。4.如权利要求1所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述四边除杂机构包括：第二机架；第二输送辊，转动安装在第二机架上，用于支撑并输送铜料，第二输送辊的上部突出所述第二机架，铜料输送至第二输送辊后，铜料的四个侧边均位于第二机架的外侧；第二驱动电机，固定在第二机架上，用于驱动第二输送辊转动；上定位气缸，位于第二输送辊的上方，上定位气缸的活塞杆上固定有上定位板；下定位气缸，固定在第二机架上，位于第二输送辊的下方，下定位气缸的活塞杆上固定有下定位板，上定位板和下定位板相对设置，且均位于相邻两个第二输送辊之间，上定位气缸和下定位气缸用于在铜料输送到位后，驱动对应的定位板移动，使上定位板和下定位板将铜料压紧定位住；两个分别位于第二机架两侧的侧边打磨组件，侧边打磨组件用于在铜料定位住后，对铜料的侧边进行打磨；转动电机，转动电机的输出轴与第二机架的下端固定，用于在铜料的两个侧边打磨后，驱动第二机架转动90°，使两个侧边打磨组件能够打磨铜料剩下的两个侧边。5.如权利要求4所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述侧边打磨组件包括：水平板，设置在机架的一侧；水平轨道，设置在水平板上；2CN109048589A权利要求书2/2页丝杆，转动安装在水平板上；螺母块，滑动设置在所述水平轨道上，且螺母块与丝杆螺纹配合；丝杆驱动电机，用于驱动所述丝杆转动；侧边打磨辊，转动安装在螺母块上，用于打磨铜料的侧边；侧边打磨电机，用于驱动侧边打磨辊转动；打磨控制气缸，打磨控制气缸的活塞杆与水平板固定，用于驱动水平板靠近和远离第二机架。6.如权利要求5所述的上引炉的铜料处理装置，其特征在于，所述水平轨道为第一梯形槽，所述螺母块上具有与梯形槽相适配的第一滑块。7.如权利要求