一种多晶硅炉盘干式清洗机.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109226104A(43)申请公布日2019.01.18(21)申请号201811200940.X(22)申请日2018.10.10(71)申请人北京德高洁清洁设备有限公司地址100013北京市东城区北三环东路37号华世隆国际公寓B座302室(72)发明人李毅光赵禹涵(51)Int.Cl.B08B7/00(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图3页(54)发明名称一种多晶硅炉盘干式清洗机(57)摘要本发明公开了一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组，与干冰机组相连设有干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置，所述清洗装置，是在一支架上设有旋转伺服机构，伺服机构下设有直线模块，直线模块下设有清洗机头，清洗机头下设有喷头和喷嘴，喷头上连接有喷头升降气缸。本发明创造性地将干冰清洗应用于多晶硅炉盘，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。将干冰机组、干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统进行进一步整合成组合体，放置在可独立移动的平板车上，使用方便灵活。CN109226104ACN109226104A权利要求书1/1页1.一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组，其特征是：与干冰机组相连设有干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置，所述清洗装置，是在一支架上设有旋转伺服机构，伺服机构下设有直线模块，直线模块下设有清洗机头，清洗机头下设有喷头和喷嘴，喷头上连接有喷头升降气缸。2.如权利要求1所述的一种多晶硅炉盘干式清洗机，其特征是：所述供冰组合体放置在可独立移动的平板车上。3.如权利要求1所述的一种多晶硅炉盘干式清洗机，其特征是：所述的清洗装置设有1-4个清洗机头、1-8个喷嘴。4.如权利要求3所述的一种多晶硅炉盘干式清洗机，其特征是：所述的喷嘴包括直线喷嘴和弯头喷嘴，所述的弯头喷嘴为＞0-90°。2CN109226104A说明书1/2页一种多晶硅炉盘干式清洗机技术领域[0001]本发明涉及一种多晶硅炉盘干式清洗机，用于对多晶硅还原炉盘面及电极的清理。属于机械设备领域。背景技术[0002]多晶硅还原炉在生成多晶硅棒的过程中，会在电极和炉盘上逐渐形成坚硬的垢层。它们的存在会导致绝缘等级降低甚至破坏、反射面反射效率降低等问题，必须及时清理。目前主要靠人工手动清理，由于作业时炉盘会有各种有毒有害气体溢出，给清理人员带来健康和安全风险。同时由于生产车间防爆等级很高，为消除隐患，一般电动工具很难排上用场，因此坚硬的垢层很难找到快速、有效的方法清理，清理时间至少都在2-3小时以上，而且清理并不彻底，时间长了甚至会导致绝缘破坏，危及生产安全；清理后的粉尘又会污染十万级净化车间。发明内容[0003]为了克服现有技术的不足，本发明提供一种多晶硅炉盘干式清洗机，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。[0004]为了达到上述目的，本发明的技术方案是，一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组，其特征是：与干冰机组相连设有干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统，构成一个供冰组合体，此组合体与防爆清洗系统管道相连；所述防爆清洗系统是在外罩内设有清洗装置，所述清洗装置，是在一支架上设有旋转伺服机构，伺服机构下设有直线模块，直线模块下设有清洗机头，清洗机头下设有喷头和喷嘴，喷头上连接有喷头升降气缸。[0005]所述供冰组合体放置在可独立移动的平板车上。[0006]所述的清洗装置设有1-4个清洗机头、1-8个喷嘴。[0007]所述的喷嘴包括直线喷嘴和弯头喷嘴，所述的弯头喷嘴＞0-90°。[0008]本发明创造性地将干冰清洗应用于多晶硅炉盘，它安全高效、干净快捷，且不会产生二次污染。将干冰机组、干冰供料系统、防爆除尘系统、防爆电控系统进行进一步整合成组合体，放置在可独立移动的平板车上，使用方便灵活。附图说明[0009]图1为本发明主视示意图。[0010]图2为本发明俯视示意图。[0011]图3为本发明清洗装置示意图。[0012]图4为本发明清洗机头立体示意图。[0013]图5为本发明清洗机头示意图。[0014]图中，1干冰机组，2干冰供料系统，3防爆除尘系统，4防爆电控系统，5防爆清洗系统，6清洗装置、61支架、62旋转伺服机构，63直线模块、64清洗机头，65、喷头升降气缸、66喷3CN109226104A说明书2/2页嘴，7平板车。具体实施方式[0015]以下结合附图和实施例，对本发明进一步说明。[0016]如图1至图5所示，本发明公开了一种多晶硅炉盘干式清洗机，包括干冰机组1，与干冰机组相连设有干