一种C、N共掺杂ZnO纳米结构阵列的制备方法.pdf
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一种C、N共掺杂ZnO纳米结构阵列的制备方法.pdf
一种C、N共掺杂ZnO纳米结构阵列的制备方法,涉及一种ZnO纳米结构阵列的制备方法。是要解决现有的ZnO催化材料难以回收再利用的问题。方法:一、制备种子层溶液;二、在FTO导电基底上制备ZnO种子层;三、C、N共掺杂Zn(OH)F纳米结构阵列的制备;四、煅烧,样品用管式炉烧结,即完成。本发明的C、N共掺杂的ZnO纳米结构阵列通过简单的一步法在玻璃基底上生长,光催化过程中,稳定高效的光催化剂固定在玻璃基片上参与完成催化反应,不会溶解在水体中,不会对水体造成二次污染,便于光催化材料的回收再利用。本发明用于催化
一种共掺杂ZnO纳米材料的制备方法.pdf
本发明涉及半导体纳米光催化材料制备,尤其是一种镧氮共掺杂ZnO纳米材料的制备方法。首先使用一定的摩尔比例六水硝酸锌(Zn(NO3)2·6H2O)、六水硝酸镧(La(NO3)3·6H2O)和碳酸钠(Na2CO3)溶液共沉淀法得到沉淀物,然后加热处理的方法制备镧掺杂的ZnO,再通过在通入氨气的管式炉中退火的方法制备镧氮共掺杂ZnO纳米材料。本发明所述的制备方法工艺较为简单,流程较短,产品质量稳定,易于实现生产及应用。
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本发明涉及ZnO纳米同质p-n结阵列的制备方法,先在衬底上沉积一层(002)取向的ZnO薄膜;然后将Zn粉、ZnO粉、石墨和掺杂源混合作为源材料,放入一端开口的石英舟的密闭端一侧,将衬底置于石英舟的开口端一侧,石英舟放在水平管式炉反应室中,石英舟开口端处于气流的下方向,反应室抽真空,源材料加热到550~650℃,向反应室通入Ar或N2为载气,O2为反应气体,保温生长下层ZnO纳米棒阵列;停止通入气体,继续升温至850~950℃,通入载气和O2,保温生长上层ZnO纳米棒阵列,形成ZnO纳米同质p-n结阵列。
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ZnO纳米棒Al掺杂和Al,N共掺杂的制备技术与光致发光性能一、引言氧化锌(ZnO)作为一种半导体材料,在光学、电学、磁学和生物医学等领域具有广泛的应用前景。其中,ZnO纳米棒因其较大的比表面积与较短的电子传输距离,被广泛应用于光电器件、催化、光致发光(PL)等领域。同时,掺杂和共掺杂技术可以调节半导体材料的导电性和光致性能,进一步拓展其应用范围。本文将简述ZnO纳米棒Al掺杂和Al,N共掺杂制备技术及其光致发光性能的探究。二、ZnO纳米棒的制备技术ZnO纳米棒的制备方法主要包括化学气相沉积法、水热法、氢
ZnO/ZnS异质结构纳米锥阵列的制备方法.pdf
ZnO/ZnS异质结构纳米锥阵列的制备方法,涉及一种ZnO/ZnS异质结构纳米锥阵列的制备方法。是要解决现有特殊形貌结构的纳米材料的开启电场和阈值电场较高,导致场发射性能不理想的问题。方法:一、对单晶硅片进行清洗,然后在单晶硅片上溅射纳米金膜,作为硅衬底;二、将氧化锌粉末和硫化锌粉末混合作为源材料,锗粉作为催化剂,将源材料置于耐高温容器,并置于高温反应炉,将催化剂与硅衬底置于源材料下游;三、将高温反应炉密封,抽真空,通入惰性气体,加热,恒温,自然冷却至室温,停止通入惰性气体,取出硅衬底,获得黄白色粉末,即