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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110184649A(43)申请公布日2019.08.30(21)申请号201910589333.5C30B29/40(2006.01)(22)申请日2019.07.02(71)申请人哈尔滨科友半导体产业装备与技术研究院有限公司地址150000黑龙江省哈尔滨市南岗区哈西大街与学府四道街交汇处第40栋-1-2层12号(72)发明人赵丽丽范国峰张胜涛袁文博刘德超(74)专利代理机构哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙)23209代理人沈丽(51)Int.Cl.C30B23/00(2006.01)C30B29/36(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图3页(54)发明名称一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置(57)摘要一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,涉及单晶体生长设备技术领域,具体包括设备壳体:设备壳体顶端设置有顶温层升降器,顶温层升降器的活动端与顶部保温层固定连接,设备壳体底端设置有一组底温层升降器,低温层升降器与底部保温层固定连接,设备壳体下方还设置有一组坩埚升降器,坩埚升降器穿过底部保温层升降器和底部保温层与坩埚托盘固定连接,坩埚托盘上设置有生长坩埚,生长坩埚周围设置有坩埚加热器,坩埚加热器的外端设置有侧面保温层;本发明操作简单,可以精确的保证在同一炉次同一坩埚位置得到期望的坩埚顶和坩埚底的温差.为工艺研发和调试实验过程节省了大量的时间和成本。CN110184649ACN110184649A权利要求书1/1页1.一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,包括:其特征在于,所述设备壳体(1)顶端设置有顶温层升降器(2),所述顶温层升降器(2)的活动端与顶部保温层(3)固定连接,所述设备壳体(1)底端设置有一组底温层升降器(4),所述底温层升降器(4)与所述底部保温层(5)固定连接,所述设备壳体(1)下方还设置有一组坩埚升降器(6),所述坩埚升降器(6)穿过所述底部保温层(5)升降器和所述底部保温层(5)与坩埚托盘(7)固定连接,所述坩埚托盘(7)上设置有生长坩埚(8),所述生长坩埚(8)周围设置有坩埚加热器(9),所述坩埚加热器(9)的外端设置有侧面保温层(10)。2.根据权利要求1所述的一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,其特征在于,所述底部保温层(5)包括一组水平设置的水平底部保温层(51)和一组倾斜设置的锥形底部保温层(52),所述锥形底部保温层(52)底端固定设置在所述水平底部保温层(51)上。3.根据权利要求1所述的一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,其特征在于,所述顶部保温层(3)、所述底部保温层(5)和所述侧面保温层(10)均为石墨保温层或钨保温层。4.根据权利要求1所述的一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,其特征在于,所述坩埚托盘(7)为石墨坩埚托盘(7)或钨坩埚托盘(7)。5.根据权利要求1所述的一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,其特征在于,所述生长坩埚(8)为石墨生长坩埚或钨生长坩埚。2CN110184649A说明书1/3页一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置技术领域[0001]本发明涉及单晶体生长设备技术领域,尤其涉及一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置。背景技术[0002]在氮化铝或碳化硅晶体生长过程中,保证坩埚底和坩埚顶有较高可控的温度梯度非常重要。目前为止此类晶体生长装置均为移动坩埚达到温度梯度的精确控制。但是这类控温常常有很大的温度控制的局制性。不能保证在坩埚的同一位置,微小的调整坩埚底部和顶部的温度变化.并且在可移动的范围内,也不能保证得到期望确定的温差。发明内容[0003]本发明克服了上述现有技术的不足,提供了一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置。本发明通过在生长坩埚周围设置坩埚加热器,保证单晶体的生长要求,同时,在坩埚的顶部和底部设置可升降的保温层,保证坩埚内单晶体的生长温度调控更加稳定。[0004]本发明的技术方案:[0005]一种新型隔热材料结构PVT单晶体生长装置,包括设备壳体:所述设备壳体顶端设置有顶温层升降器,所述顶温层升降器的活动端与顶部保温层固定连接,所述设备壳体底端设置有一组底温层升降器,所述低温层升降器与所述底部保温层固定连接,所述设备壳体下方还设置有一组坩埚升降器,所述坩埚升降器穿过所述底部保温层升降器和所述底部保温层与坩埚托盘固定连接,所述坩埚托盘上设置有生长坩埚,所述生长坩埚周围设置有坩埚加热器,所述坩埚加热器的外端设置有侧面保温层;所述坩埚加热器为扬中市兴华电器有限公司生产的防爆电加热器。[0006]进一步的,所述底部保温层包括一组水平设置的水平底部保温层和一组倾斜设置的锥形底部保温层,所述锥形底部保温层底端固定设置在所述水平底部保