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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110683766A(43)申请公布日2020.01.14(21)申请号201911156929.2C04B41/89(2006.01)(22)申请日2019.11.22(71)申请人重庆唯美陶瓷有限公司地址402460重庆市荣昌区广顺工业园区申请人江西和美陶瓷有限公司东莞市唯美陶瓷工业园有限公司(72)发明人沈荣伟邓兴智曾绍雄许超王志军(74)专利代理机构深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268代理人王永文刘文求(51)Int.Cl.C03C8/16(2006.01)C03C8/04(2006.01)C03C8/00(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图1页(54)发明名称一种全抛釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法(57)摘要本发明公开了一种全抛釉及其制备方法、黑色喷墨陶瓷砖及其制造方法,全抛釉包括高温A釉和低温B釉,且高温A釉和低温B釉的质量比之和为1;其中,高温A釉以质量分数计,包括高岭土6份、TH-1236熔块33份、1212熔块23份、石英粉12份、方解石16份、硅灰石7份、氧化锌3份;低温B釉以质量分数计,包括高岭土6份、TH-1236熔块12份、1212熔块45份、石英粉6份、方解石20份、硅灰石7份、氧化锌4份。在稳定坯体吸水率时而调节窑炉温度,在调整所述全抛釉中的高温A釉和低温B釉组分比例,实现调节全抛釉的熔融温度,保证了全抛釉烧成后外观一致性。CN110683766ACN110683766A权利要求书1/2页1.一种全抛釉,其特征在于,包括:高温A釉和低温B釉,且所述高温A釉和低温B釉的质量比之和为1;其中,所述高温A釉以质量分数计,包括高岭土6份、TH-1236熔块33份、1212熔块23份、石英粉12份、方解石16份、硅灰石7份、氧化锌3份;所述低温B釉以质量分数计,包括高岭土6份、TH-1236熔块12份、1212熔块45份、石英粉6份、方解石20份、硅灰石7份、氧化锌4份。2.根据权利要求1所述的全抛釉,其特征在于,所述TH-1236熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO249.94%,Al2O319.88%,Fe2O30.13%,CaO8.40%,MgO6.23%,K2O0.34%,Na2O3.16%,ZnO2.21%,B2O30.79%,BaO4.49%,烧失量4.43%。3.根据权利要求1所述的全抛釉,其特征在于,所述1212熔块中的原料组成以质量百分数计,包括:SiO258.22%,Al2O37.51%,Fe2O30.12%,CaO9.82%,MgO1.02%,K2O4.48%,Na2O0.65%,ZnO15.00%,B2O31.96%,BaO0.07%,烧失量1.15%。4.根据权利要求1-3任一项所述的全抛釉,其特征在于,所述全抛釉以质量百分数计,包括:高温A釉80%,低温B釉20%。5.一种全抛釉的制备方法,其特征在于,称取高温A釉和低温B釉原料,并控制所述高温A釉和低温B釉重量比为80%:20%;并加入原料重量的CMC0.15%、三聚磷酸钠0.5%和防腐剂0.05%;并按重量比为料:球:水=1:2:0.4,将球磨后的釉浆过325目筛,且筛余为0.2%-0.4%。6.一种黑色喷墨陶瓷砖,其特征在于,所述黑色喷墨陶瓷砖包括如权利要求1-4任一项所述的全抛釉。7.一种黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,包括:将粉料压制成型并经干燥窑烘干,得到坯体;对坯体进行吹尘,以78±2g/m2的喷水量进行喷水,并按照施釉量530±2g/m2淋底釉,获得砖坯;对淋底釉后的砖坯进行喷墨印花装饰;对喷墨印花装饰后的砖坯淋如权利要求1-4任一项所述的全抛釉,施釉量为310±2g/m2;将淋全抛釉后的砖坯置入窑烧成,在氧化气氛下烧制70±5min,得到黑色喷墨陶瓷砖半成品;将所述黑色喷墨陶瓷砖半成品依次进行抛光、打蜡、磨边和贴膜,得到黑色喷墨陶瓷砖成品。8.根据权利要求7所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述底釉原料以质量分数计,包括:高岭土7份,钾长石33份,钠长石33份,石英粉13份,硅酸锆8份,煅烧土1份,硅灰石2份,氧化锌3份。9.根据权利要求8所述的黑色喷墨陶瓷砖制造方法,其特征在于,所述底釉的制备方法包括:称取底釉的原料,并将各组分混合,得到底釉原料混合料;按照底釉原料混合料的重量比,分别称取CMC0.12%、三聚磷酸钠0.4%和防腐剂0.05%,与底釉原料混合料进行混合,获得底釉球磨前料;按照重量比为底釉球磨前料:球:水=1:2:0.4,对所述底釉球磨前料进行湿球磨加工,2CN110683766A权利要求书2/2页并控制球磨后的釉浆过325目筛筛余0.1%-0.3%,获得底釉。10