

晶硅电池扩散低表面深结工艺用扩散炉.pdf
俊凤****bb
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晶硅电池扩散低表面深结工艺用扩散炉.pdf
本发明提供了一种晶硅电池扩散低表面深结工艺用扩散炉,包括扩散炉主体,扩散炉主体的前侧设有两左右对称设置的炉口组,炉口组包括圆形炉口,圆形炉口的外侧配合安装有炉盖,炉盖与扩散炉主体铰接,通过第一搭扣与扩散炉主体活动连接,炉口组的外侧还配合安装有统一封盖组件,统一封盖组件包括封盖板,封盖板与扩散炉主体铰接,通过搭扣组与扩散炉主体活动连接,封盖板上均布有炉盖口,炉盖口与炉盖外形相适配,并与封盖板远离扩散炉主体中部的一侧连通,封盖板的前侧外自上而下均布有与炉盖口数量相同且位置相对应的炉盖卡扣组件。本发明在保留原有
一种实现深结低表面浓度的晶体硅扩散工艺.pdf
本发明公开了一种实现深结低表面浓度的晶体硅扩散工艺,包括如下步骤:(1)将硅片送入扩散炉;(2)升温过程;(3)恒温过程(可根据设备调整为多步恒温);(4)第一次扩散(低温沉积);(5)第一次低温分布;(6)第一次升温再分布;(7)第一次恒温再分布(可根据设备调整为多步恒温);(8)第一次降温再分布;(9)第二次恒温再分布;(10)第二次扩散;(11)第二次降温再分布;(12)取出硅片。该工艺能够有效的改善因为温度浓度差异导致的掺杂不均匀而出现的晶体硅太阳能电池转换效率不稳定的问题,提高晶体硅太阳能电池的
一种实现深结低表面浓度的晶体硅扩散工艺.pdf
本发明公开了一种实现深结低表面浓度的晶体硅扩散工艺,该扩散工艺是在扩散炉中对晶体硅进行掺杂处理,包括如下流程:充气—恒压—放舟—升温过程—恒温过程—氧化—预扩散—升温分布—第一次恒温分布—扩散—第二次恒温分布—降温—再次充气—取舟,本发明的扩散工艺,它不仅能很好的解决扩散的分布不均匀度,还可以更好的做出低表面浓度深结,做出较高的方阻,有效的改善修复表面损伤,提升电性能。
太阳能晶硅电池扩散工艺.pdf
本发明涉及太阳能电池生产领域,具体是一种太阳能晶硅电池扩散工艺。步骤一、扩散,将硅片放入扩散炉中,保持载舟温度为700-780℃,以2-10℃/min的速率升温至720-790℃进行扩散,按照氮气流量10L/min、三氯氧磷流量1400ml/min、氧气流量180ml/min的标准进行扩散,时间为8min;步骤二、推进一,以787℃为基础温度,按照6℃/min的速率升温至847℃,开始推进工艺,保持氮气流量为15L/min,推进10min;步骤三、推进二,以847℃为基础温度,以6℃/min的速率降温至7
用于晶体硅扩散的匀流板及其晶体硅扩散工艺炉.pdf
本发明公开了用于晶体硅扩散的匀流板及其晶体硅扩散工艺炉,用于晶体硅扩散的匀流板,包括匀流板本体,匀流板本体按照区域划分为炉顶板区域和炉底板区域,炉顶板区域内开有若干匀流通孔,炉底板区域为密封板体。本发明的有益效果为:1.在改善炉体内气流均匀性的同时,降低更换成本和维护时间,达到降本增效的效果。2.降低因匀流管被腐蚀断裂而造成的方块电阻异常等风险。3.进一步起到匀流气体的作用,改善扩散后方块电阻的均匀性。