预览加载中,请您耐心等待几秒...
1/8
2/8
3/8
4/8
5/8
6/8
7/8
8/8

在线预览结束,喜欢就下载吧,查找使用更方便

如果您无法下载资料,请参考说明:

1、部分资料下载需要金币,请确保您的账户上有足够的金币

2、已购买过的文档,再次下载不重复扣费

3、资料包下载后请先用软件解压,在使用对应软件打开

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113957518A(43)申请公布日2022.01.21(21)申请号202111051893.9(22)申请日2021.09.08(71)申请人杭州富加镓业科技有限公司地址311400浙江省杭州市富阳区春江街道江南路68号第23幢301室(72)发明人齐红基陈端阳赛青林(74)专利代理机构深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)44268代理人徐凯凯(51)Int.Cl.C30B15/34(2006.01)C30B29/16(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法(57)摘要本发明公开了一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法,其中,所述氧化镓生长装置包括氧化镓晶体生长炉以及设置在所述氧化镓晶体炉侧边的激光辅助加热器,所述晶体生长方法包括步骤:当观察到晶体生长固液界面处存在挥发物时,通过所述激光辅助加热器发出激光并射在所述挥发物上,使所述挥发物挥发。本发明通过所述激光辅助加热器发出的激光加热并熔化附着在所述固液界面附近的挥发物,效果直接快速,定位精准高效,本发明有效解决了导模法生长氧化镓晶体过程中挥发物极易导致的杂晶、裂纹等缺陷这一技术难题。CN113957518ACN113957518A权利要求书1/1页1.一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法,其特征在于,所述氧化镓生长装置包括氧化镓晶体生长炉以及设置在所述氧化镓晶体炉侧边的激光辅助加热器,所述晶体生长方法包括步骤:当观察到晶体生长固液界面处存在挥发物时,通过所述激光辅助加热器发出激光并射在所述挥发物上,使所述挥发物挥发。2.根据权利要求1所述的晶体生长方法,其特征在于,所述激光辅助加热器发出的激光波长为800‑2000nm。3.根据权利要求1所述的晶体生长方法,其特征在于,所述激光辅助加热器的功率为0.1‑100W。4.根据权利要求1所述的晶体生长方法,其特征在于,所述挥发物为GaO、Ga2O和Ga中的一种或多种。5.根据权利要求1所述的晶体生长方法,其特征在于,所述氧化镓晶体生长炉包括底座、设置在所述底座上的下热场结构,设置在所述下热场结构上的上热场结构,所述上热场结构包括从内至外同心设置的上保温组件和上密封层,所述上保温组件上设置有内外相通用于观察晶体生长的观察孔,所述激光辅助加热器位于所述观察孔的侧边,所述激光辅助加热器发出的激光通过所述观察孔射入所述氧化镓晶体生长炉内部。6.根据权利要求5所述的晶体生长方法,其特征在于,所述晶体生长方法还包括步骤:通过所述观察孔观察所述晶体生长固液界面处是否存在挥发物。7.根据权利要求5所述的晶体生长方法,其特征在于,所述保温组件上设置有1‑4个观察孔,每个观察孔的侧边对应设置有一个激光辅助加热器。8.根据权利要求5所述的晶体生长方法,其特征在于,所述上保温组件的中心沿轴向方向设置有贯穿上下端面且用于插入籽晶杆的通腔。2CN113957518A说明书1/5页一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法技术领域[0001]本发明涉及氧化镓晶体制备技术领域,尤其涉及一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法。背景技术[0002]β‑Ga2O3(氧化镓)是一种直接带隙宽禁带半导体材料,禁带宽度约为4.8~4.9eV。它具有禁带宽度大、饱和电子漂移速度快、热导率高、击穿场强高、化学性质稳定等诸多优点,在高温、高频、大功率电力电子器件领域有着广泛的应用前景。此外还可用于LED芯片,日盲紫外探测、各种传感器元件及摄像元件等。[0003]目前,批量制备大尺寸氧化镓晶体主要采用导模法制备技术。在导模法生长工艺中,氧化镓会发生如下的分解反应:[0004][0005][0006][0007],其中,GaO、Ga2O和Ga等产物易于挥发,挥发物在炉膛内部自由扩散。导模法生长氧化镓晶体是模具口附近的固液界面处持续不断的发生由熔体向固体转变的过程,随着晶体引晶、缩颈、放肩和等宽生长,模具口附近的固液界面宽度先后经历了等宽、收窄、放宽和等宽的变化。在整个晶体生长的过程中,挥发物一旦附着在模具口附近的晶体生长固液界面处,就会导致杂晶、裂纹等缺陷的形成,严重影响生长出来晶体质量和可用范围。[0008]因此,现有技术还有待于改进和发展。发明内容[0009]鉴于上述现有技术的不足,本发明的目的在于提供一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法,旨在解决现有导模法制备β‑Ga2O3单晶过程中因挥发物在晶体生长固液界面处附着,而导致氧化镓晶体出现杂晶、裂纹等缺陷的问题。[0010]本发明的技术方案如下:[0011]一种基于导模法生长装置的氧化镓晶体生长方法,其中,所述氧化镓生长装置包括氧化镓晶体生长炉以及设置在所述氧