间歇式热处理炉.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115127344A(43)申请公布日2022.09.30(21)申请号202111626702.7(22)申请日2021.12.28(30)优先权数据2021-0505512021.03.24JP(71)申请人日本碍子株式会社地址日本国爱知县申请人NGK凯伦泰克株式会社(72)发明人丹羽浩平有马和彦中村纪久(74)专利代理机构北京旭知行专利代理事务所(普通合伙)11432专利代理师王轶李伟(51)Int.Cl.F27B17/00(2006.01)F27D3/00(2006.01)F27D5/00(2006.01)权利要求书1页说明书7页附图9页(54)发明名称间歇式热处理炉(57)摘要本发明提供一种间歇式热处理炉，能够避免被处理物与炉体接触。间歇式热处理炉具备：炉体，其具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，其配置成能够相对于升降床进行旋转，且能够供被处理物载放；驱动装置，其设置于升降床，对处理台进行旋转驱动；以及传感器，其对载放于处理台的被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测。升降床能够在将侧壁的下端敞开的第一位置与将侧壁的下端封闭的第二位置之间移动。当升降床位于第二位置时，成为在炉体内处理台的上表面露出的状态。传感器配置成：在升降床位于第一位置时，对载放于处理台的被处理物的偏离进行检测。传感器在升降床位于第一位置且驱动装置使处理台旋转的状态下对被处理物的偏离进行检测。CN115127344ACN115127344A权利要求书1/1页1.一种间歇式热处理炉，其中，具备：炉体，该炉体具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，该处理台配置成能够相对于所述升降床进行旋转，且能够供被处理物载放；驱动装置，该驱动装置设置于所述升降床，对所述处理台进行旋转驱动；以及传感器，该传感器对载放于所述处理台的所述被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测，所述升降床能够在将所述侧壁的下端敞开的第一位置与将所述侧壁的下端封闭的第二位置之间移动，在所述升降床位于所述第二位置时，成为在所述炉体内所述处理台的上表面露出的状态，所述传感器配置成：在所述升降床位于所述第一位置时，对载放于所述处理台的所述被处理物的偏离进行检测，所述传感器在所述升降床位于所述第一位置且所述驱动装置使所述处理台旋转的状态下对所述被处理物的偏离进行检测。2.根据权利要求1所述的间歇式热处理炉，其中，所述处理台具备：第一旋转台，该第一旋转台俯视时具有圆形，并构成为：能够围绕从其中心通过并沿着上下方向延伸的第一轴线进行旋转；以及至少1个第二旋转台，该至少1个第二旋转台在俯视时配置于所述第一旋转台的内侧，并构成为：能够围绕从其中心通过并沿着上下方向延伸的第二轴线进行旋转，在俯视时，所述第二旋转台的中心的位置处于与所述第一旋转台的中心的位置不同的位置，所述驱动装置具备：对所述第一旋转台进行旋转驱动的第一驱动部、以及对所述第二旋转台进行旋转驱动的第二驱动部，所述传感器在所述升降床位于所述第一位置、并且所述第一驱动部使所述第一旋转台旋转且所述第二驱动部使所述第二旋转台旋转的状态下，对载放于所述第二旋转台上的所述被处理物的偏离进行检测。3.根据权利要求1或2所述的间歇式热处理炉，其中，所述被处理物能够以沿着上下方向重叠多个的方式载放于所述处理台。4.根据权利要求1～3中的任一项所述的间歇式热处理炉，其中，所述传感器对俯视所述处理台时所述被处理物与规定位置相比向所述处理台的外周侧发生了偏离进行检测。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的间歇式热处理炉，其中，所述传感器配置成：对高度方向上的规定范围中的所述被处理物的偏离进行检测。2CN115127344A说明书1/7页间歇式热处理炉技术领域[0001]本说明书中公开的技术涉及用于对被处理物(例如：陶瓷电容器、陶瓷压电元件、陶瓷电阻器等层叠陶瓷元器件等)进行热处理的间歇式热处理炉。背景技术[0002]例如，专利文献1中公开一种对被处理物进行热处理的间歇式热处理炉。专利文献1的间歇式热处理炉具备：炉体，其具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，其设置于升降床；以及驱动装置，其对处理台进行旋转驱动。被处理物载放于处理台。升降床能够在将侧壁的下端敞开的第一位置与将侧壁的下端封闭的第二位置之间移动。在间歇式热处理炉内配置被处理物时，首先，使升降床移动到第一位置，并在处理台上载放被处理物。然后，载放有被处理物的处理台(即、升降床)从第一位置向第二位置移动。据此，被处理物被配置于炉体内。[0003]现有技术文献[0004]专利文献[0005]专利文献1：日本特开2005‑77001号公报发明内容[0006]专利文献1的间歇式热处理炉中，在处理台载放有被处理物的状态下，升降床从第一位置向第二位置移动。此时，如果被处理物以相