一种二维硫化钼钨合金薄膜的制备方法.pdf
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一种二维硫化钼钨合金薄膜的制备方法.pdf
本发明提供了一种二维硫化钼钨合金薄膜的制备方法,方法包括:使用蓝宝石衬底作为衬底来生长石墨烯;称取三氧化钨、三氧化钼、硫粉分别放入陶瓷舟内,并将陶瓷舟分别放置于管式炉中;管式炉连接真空泵抽真空通入氩气充满整个石英管腔室,加热生长合金;生长结束后,持续通入氩气,直至管式炉冷却至室温。本发明在蓝宝石衬底上反应加上对衬底的处理,更容易得到硫化钼钨合金薄膜,且蓝宝石衬底的处理方法简单便捷。三氧化钼、三氧化钨和硫粉反应生成硫化钼钨合金的方法操作简单便捷,气体流量、生长时间、生长温度等反应条件比较成熟,能够得到大面积
一种二维硫化钨薄膜材料的制备方法.pdf
本发明涉及一种二维硫化钨薄膜材料的制备方法;采用双温场滑轨等离子体PECVD系统,将管式炉充满氩气;将SiO
一种硫化钼薄膜及其制备方法.pdf
本发明属于微纳制造相关技术领域,其公开了硫化钼薄膜及其制备方法,该方法包括以下步骤:(1)在基底上旋涂光刻胶并通过光刻来得到光刻胶图形;(2)采用镀膜工艺在该基底上沉积一层钼源薄膜,该钼源薄膜覆盖该光刻胶图形;(3)去除该基底上的光刻胶及覆盖该光刻胶的钼源薄膜以得到图形化钼源薄膜;(4)将该基底放入高温气氛炉内,并在该图形化钼源薄膜的上方放置衬底,同时该高温气氛炉逐渐升温,待该高温气氛炉内的温度达到钼源升华温度后向该高温气氛炉内通入硫源气体;接着,该高温气氛炉进一步加热到预定温度后保温预定时间,并将制得的
一种二硫化钼薄膜的制备方法及二硫化钼薄膜.pdf
本申请适用半导体材料技术领域,提供了二硫化钼薄膜的制备方法及二硫化钼薄膜,包括:将硫源和钼源置于加热装置内,于常压条件下保持10‑50sccm的惰性气体流量,分别对硫源和钼源进行加热处理2‑20min以进行化学气相沉积反应,得二硫化钼薄膜;其中,硫源放置于刚玉舟内;钼源放置于石英舟上且在石英舟内放置惰性耐高温垫片,并在垫片上方放置玻璃基底。本申请采用惰性耐高温材质作为垫片辅助玻璃衬底生长单晶体二硫化钼或者大尺寸二硫化钼连续膜,能够杜绝多余钼源供给及其他的杂质引入,能极大减小干扰因素,其良好的亲水性亦能极大
化学气相沉积法制备大面积二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜的任务书.docx
化学气相沉积法制备大面积二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜的任务书一、任务背景二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜具有良好的电学、光学和力学性能,可广泛应用于电子器件、太阳电池和化学传感器等领域。其中,二硫化钼薄膜是重要的光电材料,有望用于替代传统半导体材料,以满足绿色能源的需求。与此同时,硫化钼钨合金薄膜因其较高的硬度和强度,也在摩擦学和耐磨领域有着广泛的应用。化学气相沉积法作为制备功能性薄膜的主流方法之一,具有反应条件温和、沉积速率快、薄膜质量高等优点。因此,采用化学气相沉积法制备大面积的二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜具有