用于直接还原工艺的密封气体优化系统和方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115916355A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202080102311.2(51)Int.Cl.(22)申请日2020.06.23A62D3/36(2006.01)B01J10/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日C02F1/66(2006.01)2022.12.21C21B13/00(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2020/0390422020.06.23(87)PCT国际申请的公布数据WO2021/262145EN2021.12.30(71)申请人米德雷克斯技术公司地址美国北卡罗来纳州(72)发明人法伊察尔·芬努切大卫·奥斯瓦尔德(74)专利代理机构中科专利商标代理有限责任公司11021专利代理师吴胜周柳春琦权利要求书2页说明书8页附图3页(54)发明名称用于直接还原工艺的密封气体优化系统和方法(57)摘要一种用于操作在直接还原工艺中利用的密封气体压缩机的方法和系统，其包括：监测在密封气体压缩机中使用的水流的pH水平，其中所述水流的pH水平受到与所述水流接触的重整炉烟道气流的影响，其中监测步骤在所述密封气体压缩机的上游和所述压缩机的下游中的一个或多个处进行；以及基于来自所述监测步骤的反馈对所述水流的pH水平进行调节以将所述水流的pH水平保持在预定范围内。所述方法包括将所述密封气体压缩机上游的水流的pH水平保持在7.5至10的范围内并且将所述密封气体压缩机下游的水流的pH水平保持在7.8至9.5的范围内。CN115916355ACN115916355A权利要求书1/2页1.一种用于操作在直接还原工艺中利用的密封气体压缩机的方法，所述方法包括：监测在所述密封气体压缩机中使用的水流的pH水平，其中所述水流的pH水平受到与所述水流接触的重整炉烟道气流的影响，其中所述监测步骤在所述密封气体压缩机的上游和所述压缩机的下游中的一个或多个处进行；以及基于来自所述监测步骤的反馈对所述水流的pH水平进行调节以将所述水流的pH水平保持在预定范围内。2.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括将在所述密封气体压缩机的上游的所述水流的pH水平保持在7.5至10的范围内。3.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括将在所述密封气体压缩机的下游的所述水流的pH水平保持在7.8至9.5的范围内。4.根据权利要求1所述的方法，其中对所述水流的pH水平进行调节包括基于来自所述监测步骤的反馈将pH调节化学品注入到所述水流中。5.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：监测在所述密封气体压缩机中使用的所述水流的腐蚀性，其中所述水流的腐蚀性受到与所述水流接触的所述重整炉烟道气流的影响，以及基于来自所述监测步骤的反馈对所述水流的腐蚀性进行调节以将所述水流的腐蚀性保持在预定范围内。6.根据权利要求5所述的方法，所述方法还包括将所述水流的腐蚀性保持在低于2.0mpy的范围内。7.一种用于操作在直接还原工艺中利用的密封气体压缩机的系统，所述系统包括：分布式控制系统；一个或多个pH探头，所述一个或多个pH探头与所述分布式控制系统耦接并且可操作用于监测在所述密封气体压缩机中使用的水流的pH水平，其中所述水流的pH水平受到与所述水流接触的重整炉烟道气流的影响，其中所述监测在所述密封气体压缩机的上游和所述压缩机的下游中的一个或多个处进行；以及pH调节化学品注入器，所述pH调节化学品注入器与所述分布式控制系统耦接并且可操作用于在所述分布式控制系统的指导下基于来自所述一个或多个pH探头的反馈对所述水流的pH水平进行调节以将所述水流的pH水平保持在预定范围内。8.根据权利要求7所述的系统，所述系统还包括将在所述密封气体压缩机的上游的所述水流的pH水平保持在7.5至10的范围内。9.根据权利要求7所述的系统，所述系统还包括将在所述密封气体压缩机的下游的所述水流的pH水平保持在7.8至9.5的范围内。10.根据权利要求7所述的系统，所述系统还包括：腐蚀计探头，所述腐蚀计探头与所述分布式控制系统耦接并且可操作用于监测在所述密封气体压缩机中使用的所述水流的腐蚀性，其中所述水流的腐蚀性受到与所述水流接触的所述重整炉烟道气流的影响，以及腐蚀性化学品注入器，所述腐蚀性化学品注入器与所述分布式控制系统耦接并且可操作用于基于来自所述监测步骤的反馈对所述水流的腐蚀性进行调节以将所述水流的腐蚀性保持在预定范围内。2CN115916355A权利要求书2/2页11.根据权利要求10所述的系统，所述系统包括将所述水流的腐蚀性保持低于2.0mpy。12.根据权利要求10所述的系统，其中所述腐蚀性化学品注入器可操作用于将成膜、气相和电化学腐蚀处理程序中的一种或多种递送到所述水