一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108372201A(43)申请公布日2018.08.07(21)申请号201810256659.1(22)申请日2018.03.27(71)申请人中交天航环保工程有限公司地址300461天津市滨海新区自贸区（东疆保税港区）洛阳道601号海丰物流园8-1-2-107(72)发明人王琦杨健郎呼呼(74)专利代理机构天津市鼎和专利商标代理有限公司12101代理人李凤(51)Int.Cl.B09C1/08(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图1页(54)发明名称一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法(57)摘要本发明涉及一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法。本发明属于土壤修复技术领域。有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法：1)场地平整：采用机械设备进行有机污染场地平整；2)止水帷幕施工：打设一圈水泥搅拌桩止水帷幕；3)钻孔加药点位布置：有机污染场地布置钻孔加药点位；4)定点钻孔：将三重管高压旋喷设备移至钻孔点位，下钻至对应点位的设计深度；5)高压旋喷加药：钻杆下沉，停止钻进，启动喷药泵进行活化过硫酸钠溶液喷药，然后边喷药边旋转提升钻杆，将活化过硫酸钠溶液注入到污染区域；6)养护：场地进行封场养护25d-40d。本发明具有修复深度大、修复效果好、工艺流程简单、修复成本低、易于工程化应用等优点。CN108372201ACN108372201A权利要求书1/1页1.一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法包括以下工艺过程：1)场地平整：采用机械设备进行有机污染场地平整；2)止水帷幕施工：有机污染场地边界外5m-10m打设一圈水泥搅拌桩止水帷幕；3)钻孔加药点位布置：止水帷幕范围内有机污染场地，布置钻孔加药点位；4)定点钻孔：将三重管高压旋喷设备移至钻孔点位，启动钻机、空气压缩泵和高压水泵，下钻至对应点位的设计深度；5)高压旋喷加药：钻杆下沉，停止钻进，启动喷药泵进行活化过硫酸钠溶液喷药，然后边喷药边旋转提升钻杆，将活化过硫酸钠溶液注入到污染区域；6)养护：待所有钻孔加药点位施工完毕后，将场地进行封场养护25d-40d，完成有机污染场地的达标修复。2.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：高压旋喷加药时，启动喷药泵进行活化过硫酸钠溶液喷药20s-40s后，再边喷药边旋转提升钻杆。3.根据权利要求1或2所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：活化过硫酸钠溶液采用双氧水和过硫酸钠配制，置于药剂溶液储存罐中，三重管高压旋喷设备的喷药管连接至药剂溶液储存罐。4.根据权利要求3所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：活化过硫酸钠溶液中的过硫酸钠浓度为100g/L-300g/L、双氧水浓度为2g/L-40g/L。5.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：水泥搅拌桩止水帷幕的桩底位于污染土壤下方第一层隔水层的顶板以下1.5m-3m，止水帷幕的渗透系数≤10E-6cm/s。6.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：钻孔加药点位布置时，相邻钻孔加药点位的间距为2m-4m。7.根据权利要求1所述的有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法，其特征是：高压旋喷加药时，喷药管的压力为15MPa-35MPa，喷药流量为100L/min-200L/min，钻杆旋转速度为10r/min-20r/min，钻杆提升速度为15cm/min-30cm/min。2CN108372201A说明书1/5页一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法技术领域[0001]本发明属于土壤修复技术领域，特别是涉及一种有机污染场地原位高压旋喷加药氧化修复方法。背景技术[0002]伴随城市布局调整和产业结构升级，大量化工、石油、塑料、炼焦、热电、钢铁等重污染企业搬迁或关停，遗留大量的有机污染场地，严重阻碍城市建设和地方经济发展。有机污染物在自然环境中难以降解，对土壤、地下水形成长期污染，极大威胁人类健康。因此，有机污染土壤修复已成为土壤修复行业的热点问题。原位化学氧化修复法因不需要开挖污染土壤，且具有成本低、效果好、处理周期短等优点，已成为有机污染土壤修复的优选方法，备受行业推崇。[0003]中国发明专利(201510108244.6)公开了一种有机污染土壤的化学氧化修复方法，包括土壤pH值调节、钻孔、喷药工序。该发明未在污染场地周边设置止水帷幕，易导致污染扩散。此外，该发明需要向土壤中添加硫酸、盐酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化钙或石灰，以调节土壤的pH值，该工序对土壤碱度有较大影响，可能导致土质恶化。加