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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102024892A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102024892A(43)申请公布日2011.04.20(21)申请号201010285753.3H01L33/38(2010.01)(22)申请日2010.09.15H01L33/20(2010.01)H01L33/46(2010.01)(30)优先权数据2009-2130922009.09.15JP2010-0640262010.03.19JP2010-0804622010.03.31JP(71)申请人丰田合成株式会社地址日本爱知县(72)发明人上村俊也伊藤润(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人顾晋伟吴鹏章(51)Int.Cl.H01L33/36(2010.01)权利要求书2页说明书20页附图22页(54)发明名称III族氮化物半导体发光器件(57)摘要本发明提供一种光提取性能改善的III族氮化物半导体发光器件,包括导电基底;设置在基底上的p-电极;由III族氮化物半导体形成并依次设置在p-电极上的p-型层、有源层和n-型层;和连接n-型层的n-电极。根据一个实施方案,发光器件包括从p-型层在p-电极侧上的表面延伸到n-型层的第一沟槽;与用作第一沟槽底部的n-型层表面接触但不接触第一沟槽侧壁的辅助电极;和具有透光性并覆盖辅助电极和第一沟槽的底部和侧壁的绝缘膜。根据另一实施方案,发光器件包括第二沟槽,其设置在沿垂直于器件主表面的方向面对部分辅助电极的区域中并从n-型层在p-电极侧的相反侧上的表面延伸到辅助电极;并且n-电极仅由焊盘部分形成并设置在辅助电极的通过第二沟槽暴露的部分上。CN102489ACCNN102024892102024906AA权利要求书1/2页1.一种III族氮化物半导体发光器件,包括:导电基底;设置在所述基底上的p-电极;由III族氮化物半导体形成并设置在所述p-电极上的p-型层;由III族氮化物半导体形成并设置在所述p-型层上的有源层;由III族氮化物半导体形成并设置在所述有源层上的n-型层;与所述n-型层连接的n-电极;第一沟槽,其具有从所述p-型层在所述p-电极侧上的表面延伸到所述n-型层的深度;辅助电极,其与用作所述第一沟槽底部的所述n-型层的表面接触,但是不与所述第一沟槽的侧壁接触;和绝缘膜,其具有透光性并设置为覆盖所述辅助电极和所述第一沟槽的底部和侧壁。2.根据权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述n-电极形成在所述n-型层上,并且所述n-电极的一部分或整体设置为面对所述辅助电极的至少一部分。3.根据权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其还包括第二沟槽,所述第二沟槽设置在沿垂直于所述器件的主表面的方向面对部分所述辅助电极的区域中并且具有从所述n-型层的在所述p-电极侧的相反侧上的表面延伸到所述辅助电极的深度;其中所述n-电极仅由焊盘部形成并且设置在所述辅助电极的通过所述第二沟槽暴露的部分上。4.根据权利要求1所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述基底由陶瓷衬底形成,并且所述器件还包括第三沟槽和p-焊盘电极,所述第三沟槽设置在沿垂直于所述器件的主表面的方向不面对所述辅助电极的区域中并且具有从所述n-型层的在所述p-电极侧的相反侧上的表面延伸到所述p-电极的深度;所述p-焊盘电极设置在所述p-电极的通过所述第三沟槽暴露的部分上。5.根据权利要求3所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述基底由陶瓷衬底形成,并且所述器件还包括第三沟槽和p-焊盘电极,所述第三沟槽设置在沿垂直于所述器件的主表面的方向不面对所述辅助电极的区域中并且具有从所述n-型层的在所述p-电极侧的相反侧上的表面延伸到所述p-电极的深度;所述p-焊盘电极设置在所述p-电极的通过所述第三沟槽暴露的部分上。6.根据权利要求1至5中任一项所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述辅助电极的面积大于所述n-电极的面积。7.根据权利要求1至5中任一项所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述第一沟槽或所述辅助电极具有引线图案。8.根据权利要求1至5中任一项所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述第一沟槽的侧壁是倾斜的,使得平行于所述器件的主表面的所述第一沟槽的水平截面的面积随着所述截面与所述n-型层之间的距离降低而减小。9.根据权利要求1至5中任一项所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述辅助电极或所述第一沟槽的一部分具有围绕发光区域的外周的引线图案。10.根据权利要求1至5中任一项所述的III族氮化物半导体发光器件,其中所述辅助2CCNN102024892102024906AA权利要求书2/2页电极由V/Al、Ti/Al、V/Au、Ti/Au或Ni/Au形成。1