铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法及铜或铜基合金.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN103160844A*(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103160844103160844A(43)申请公布日2013.06.19(21)申请号201210532399.9(51)Int.Cl.(22)申请日2012.12.11C23G1/36(2006.01)C25C1/12(2006.01)(30)优先权数据C23G1/10(2006.01)2011-2747192011.12.15JP2012-0391902012.02.24JP2012-0992742012.04.24JP(71)申请人三菱综合材料株式会社地址日本东京(72)发明人熊谷淳一樽谷圭荣中山宏明冈田健志加藤直树久保田贤治(74)专利代理机构北京德琦知识产权代理有限公司11018代理人康泉王珍仙权权利要求书1页利要求书1页说明书10页说明书10页附图1页附图1页(54)发明名称铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法及铜或铜基合金(57)摘要一种铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，在酸洗池中浸渍铜或铜基合金以去除氧化皮膜后，将其酸洗液电解，高效地回收高纯度的铜或铜基合金，可将电解后的酸洗液送回到酸洗池中再利用。该方法使用含有：50~400g/L的硫酸；1~100g/L的选自硝酸、过氧化氢、过二硫酸根离子和三价铁离子中的至少一种氧化剂；0.01~10g/L的选自芳香族磺酸、芳香族磺酸盐、烷基胺、芳香族羧酸和芳香族羧酸盐中的至少一种添加剂；0.005~10g/L的选自烷基苯磺酸和烷基苯磺酸盐中的至少一种表面活性剂；和10~300g/L的硫酸铜的酸洗液，在去除氧化覆膜后进行电解，加入与所消耗的分量相当的氧化剂、添加剂和表面活性剂来再利用。CN103160844ACN103684ACN103160844A权利要求书1/1页1.一种铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，为去除铜或铜基合金表面形成的氧化皮膜的方法，其特征在于，在包含酸洗液的酸洗池中，浸渍在表面形成有氧化皮膜的铜或铜基合金以去除所述氧化皮膜后，将包含被去除的氧化皮膜的酸洗液在电解槽中电解以回收所述氧化皮膜中的铜或铜基合金，所述酸洗液含有：50~400g/L的硫酸；1~100g/L的选自硝酸、过氧化氢、过二硫酸根离子和三价铁离子中的至少一种氧化剂；0.01~10g/L的选自芳香族磺酸、芳香族磺酸盐、烷基胺、芳香族羧酸和芳香族羧酸盐中的至少一种添加剂；0.005~10g/L的选自烷基苯磺酸和烷基苯磺酸盐中的至少一种表面活性剂；和10~300g/L的硫酸铜，进一步，在电解后的酸洗液中，加入与所述氧化皮膜去除及所述电解时所消耗的分量相当的所述氧化剂、所述添加剂和所述表面活性剂后，将加入有所述氧化剂、所述添加剂和所述表面活性剂的电解后的酸洗液送回到所述酸洗池中，作为新的酸洗液再利用。2.根据权利要求1所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，其特征在于，所述酸洗液的表面张力为50×10-3N/m以下。3.根据权利要求1所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，其特征在于，在所述电解中，包含所述被去除的氧化皮膜的酸洗液的铜离子浓度为20~60g/L，电流密度为1~25A/dm2，阴极为旋转的圆柱状体，该圆柱状体的圆周速度为0.08~0.48m/S。4.根据权利要求2所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，其特征在于，在所述电解中，包含所述被去除的氧化皮膜的酸洗液的铜离子浓度为20~60g/L，电流密度为1~25A/dm2，阴极为旋转的圆柱状体，该圆柱状体的圆周速度为0.08~0.48m/S。5.根据权利要求3所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，其特征在于，调整向所述电解槽供给的酸洗液的流量及所述电解槽中的电流密度，以使包含所述被去除的氧化皮膜的酸洗液的铜离子浓度为20~60g/L。6.根据权利要求4所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，其特征在于，调整向所述电解槽供给的酸洗液的流量及所述电解槽中的电流密度，以使包含所述被去除的氧化皮膜的酸洗液的铜离子浓度为20~60g/L。7.通过权利要求1~6中的任一项所述的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法所获得的能够用作再生原料的铜或铜基合金。2CN103160844A说明书1/10页铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法及铜或铜基合金技术领域[0001]本发明涉及一种铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法，特别详细而言，涉及一种将表面形成有氧化皮膜的铜或铜基合金浸渍在酸洗池中以去除氧化皮膜后，将包含氧化皮膜的酸洗液在电解槽中电解以回收加工性能良好的高纯度的铜或铜基合金，并将电解后的酸洗液送回到酸洗池中以能够再利用的铜或铜基合金表面的氧化皮膜的去除方法。[0002]本发明基于2011年12