感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及配线板的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN104303106104303106A(43)申请公布日2015.01.21(21)申请号201380024877.8(22)申请日2013.05.28(30)优先权数据2012-1255162012.05.31JP(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.11.12(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0647822013.05.28(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/180131JA2013.12.05(71)申请人日立化成株式会社地址日本东京都(72)发明人板垣胜俊进藤正则(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人钟晶於毓桢(51)Int.Cl.G03F7/004(2006.01)权权利要求书1页利要求书1页说明书24页说明书24页附图1页附图1页(54)发明名称感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及配线板的制造方法(57)摘要一种含有粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、光聚合引发剂、苯并三唑化合物以及碳原子数8～30的脂肪族二胺化合物的感光性树脂组合物。CN104303106ACN10436ACN104303106A权利要求书1/1页1.一种感光性树脂组合物，其含有：粘合剂聚合物、具有乙烯性不饱和基团的光聚合性化合物、光聚合引发剂、苯并三唑化合物、和碳原子数8～30的脂肪族二胺化合物。2.根据权利要求1所述的感光性树脂组合物，进一步含有从由三唑化合物和四唑化合物所组成的组中选择的至少1种。3.一种感光性元件，其具有支撑体和设置于所述支撑体上的、作为权利要求1或者权利要求2所述的感光性树脂组合物的涂膜的感光层。4.一种抗蚀图案的形成方法，包含如下工序：在基板上赋予权利要求1或者权利要求2所述的感光性树脂组合物而形成感光层的感光层形成工序；对所述感光层的至少一部分区域照射活性光线而在所述感光层上形成光固化部的曝光工序；以及将所述光固化部以外的区域除去的显影工序。5.一种抗蚀图案的形成方法，包含如下工序：在基板上按照所述感光层面向所述基板的方式层叠权利要求3所述的感光性元件的层叠工序；对所述感光层的至少一部分区域照射活性光线而在所述感光层上形成光固化部的曝光工序；以及将所述光固化部以外的区域除去的显影工序。6.一种配线板的制造方法，其包含：对通过权利要求4或者权利要求5所述的抗蚀图案的形成方法形成了抗蚀图案的基板进行蚀刻处理或者镀敷处理的工序。2CN104303106A说明书1/24页感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及配线板的制造方法技术领域[0001]本发明涉及感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及配线板的制造方法。背景技术[0002]在配线板的制造领域中，作为用于蚀刻处理或者镀敷处理的抗蚀材料，广泛使用感光性树脂组合物。感光性树脂组合物多数用作具有支撑膜和在上述支撑膜上使用感光性树脂组合物形成的层(以下，也称为“感光层”)的感光性元件(层叠体)。[0003]配线板例如如下操作进行制造。首先，在基板的导体层上层叠(层压)感光性元件的感光层(层叠工序)。接着，剥离支撑膜，然后对感光层的规定部分照射活性光线而使曝光部固化(曝光工序)。之后，将未曝光部从基板上除去(显影)，从而在基板上形成由感光性树脂组合物的固化物构成的抗蚀图案(显影工序)。将所得的抗蚀图案作为掩模，对基板实施蚀刻处理或者镀敷处理而在基板上形成电路后(电路形成工序)，最后剥离除去抗蚀剂而制造配线板(剥离工序)。[0004]在上述配线板的制造方法中，以前存在如下问题：在显影工序中在基板的导体层上产生氧化皮膜而使基板变色，因此在下一个工序的蚀刻工序或者镀敷工序中，有时产生加工不良状况。[0005]为了解决上述变色的问题，研究了如下方法：添加具有特定取代基的氨基甲基羧基苯并三唑化合物，或者添加辛酸、异硬脂酸等脂肪族羧酸；苯甲酸、间苯二甲酸等芳香族羧酸等(例如，参照国际公开第06/016658号小册子和国际公开第08/015754号小册子)。发明内容[0006]发明要解决的问题[0007]然而，国际公开第06/016658号小册子所记载的感光性树脂组合物虽然防止基板变色的效果优异，但存在如下问题：在镀敷工序中有时引起镀浴污染。如果产生镀浴污染，则发生在镀敷工序中无法在必要位置析出镀敷，电路无法正常形成的情况，因此有时镀浴的更换频率变高。[0008]本发明是鉴于这样的情况而作出的发明，课题是提供一种能够兼顾防止基板变色和降低镀浴污染的感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法以及配线板的制造方法。[0009]解决问题的方法[0010]本发明人等首先使用国际