可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法.pdf
雨星****萌娃
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相关资料
可显影底部抗反射涂层组合物以及使用其的图案形成方法.pdf
该本发明涉及可显影底部抗反射涂层(BARC)组合物以及使用该BARC组合物形成图案的方法。该BARC组合物包括第一聚合物,其具有第一羧酸组成部分、含羟基的脂环族组成部分、以及第一发色团组成部分;第二聚合物,其包含第二羧酸组成部分、含羟基的无环状组成部分、以及第二发色团组成部分;交联剂;以及辐射敏感的酸产生剂。第一以及第二发色团组成部分各自吸收光波长为100nm-400nm。在图案形成方法中,BARC组合物BARC层上形成光致抗蚀剂层。在曝光以后,光致抗蚀剂层以及该BARC层未曝光区域通过显影剂有选择地被除
可显影的底部抗反射涂层形成用组合物.pdf
本发明提供了一种底部抗反射涂层形成用组合物,并且还提供了一种采用所述组合物的光致抗蚀剂图案形成方法。所述组合物提供了在制造半导体器件的光刻工艺中使用的底部抗反射涂层,并且所述涂层可以使用光致抗蚀剂用显影液进行显影。所述组合物含有溶剂、具有稠合多环芳香族基团的聚合物以及具有马来酰亚胺衍生物或马来酸酐衍生物的化合物。所述组合物可以进一步含有光酸产生剂或交联剂。
能显影的底部抗反射涂层.pdf
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上层膜形成用组合物以及使用其的抗蚀图案形成方法.pdf
本发明提供一种上层膜形成用组合物以及使用该组合物的图案形成方法,所述上层膜形成用组合物在基于超紫外线曝光的图案形成方法中,可形成粗糙度、图案形状优异的图案。一种上层膜形成用组合物,其特征在于包含具有亲水性基团的富勒烯衍生物以及溶剂;以及,一种通过将该组合物涂布于抗蚀层表面并且进行曝光显影而形成图案的方法。该组合物也可进一步包含聚合物。
底部抗反射涂层组合物及其制备方法.pdf
本发明适用于光刻胶技术领域,提供了一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法,其包括以下质量百分比的原料:含芳基的甘脲类低聚物溶液5?15%、主体树脂0.5?15%、热敏酸0.1?1%,余量为有机溶剂。本发明通过在底部抗反射涂层组合物中添加了可进行交联且芳基比例可调节的甘脲类低聚物,从而快速的调整底部抗反射涂层的n/k值,大大降低底部抗反射涂层在n/k值方面的调整难度,减少了光刻胶底部界面出现反射和诸如驻波等问题,提高光刻工艺中线宽解析度。