用于溶液相GAP肽合成的系统和方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108697770A(43)申请公布日2018.10.23(21)申请号201680080750.1(74)专利代理机构北京泛华伟业知识产权代理有限公司1(22)申请日2016.12.211280代理人郭广迅(30)优先权数据62/2704322015.12.21US(51)Int.Cl.A61K38/31(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2018.08.01(86)PCT国际申请的申请数据PCT/US2016/0681122016.12.21(87)PCT国际申请的公布数据WO2017/112809EN2017.06.29(71)申请人得克萨斯技术大学联合体地址美国得克萨斯(72)发明人G·李C·赛弗特权利要求书6页说明书18页附图14页(54)发明名称用于溶液相GAP肽合成的系统和方法(57)摘要公开了用于Fmoc/tBu溶液相肽合成的系统和方法，包括开发新的苄基型GAP保护基团及其相关用途。使用这种新的GAP保护基团代替聚合物载体，促进C至NFmoc肽合成，而无需色谱法、重结晶或聚合物载体。可以高收率添加和去除GAP基团。CN108697770ACN108697770A权利要求书1/6页1.一种用于基团辅助纯化(GAP)肽合成的保护基团，其选自：(1A)(1B)(1C)(1D)和(1E)其中：R选自H、Me和OMe；Y选自O、S和NH；并且X选自O、S和NH。2.一种形成用于C末端保护的保护基团的方法，其包括基于Fmoc-tBu的溶液相肽合成2CN108697770A权利要求书2/6页(SolPPS)。3.根据权利要求2所述的方法，其中保护基团：(1A)是通过以下制备的：4.根据权利要求2所述的方法，其中保护基团：(1B)是通过以下制备的：其中R选自H、Me和OMe；并且其中Y选自S和NH。5.根据权利要求2所述的方法，其中保护基团：3CN108697770A权利要求书3/6页(1C)是通过以下制备的：其中R选自H、Me和OMe；并且其中X选自O、S和NH；并且其中Y选自O、S和NH。6.根据权利要求2所述的方法，其中保护基团：(1D)是通过以下制备的：其中R选自H、Me和OMe。7.根据权利要求2所述的方法，其中保护基团：4CN108697770A权利要求书4/6页(1E)是通过以下制备的：其中R选自H、Me和OMe；并且其中X选自O、S和NH。8.一种将权利要求1的保护基团连接到氨基酸的方法，其中所述方法包括：使权利要求1的保护基团与以下氨基酸化合物反应：9.根据权利要求8所述的方法，其中所述方法包括以下步骤：其中BnDppOH为权利要求1的保护基团；并且其中Pg选自Cbz、Fmoc、Boc、Bn、Fm和tBu；并且其中Z是一般变量。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述保护基团是以下化合物：5CN108697770A权利要求书5/6页(1A)11.根据权利要求8所述的方法，其中所述方法包括以下步骤：其中BnDppYH为权利要求1的保护基团；并且其中Pg选自Cbz、Fmoc、Boc、Bn、Fm和tBu；并且其中Z是一般变量。12.根据权利要求11所述的方法，其中所述保护基团选自：(1B)和(1C)其中R选自H、Me和OMe；并且其中X选自O、S和NH。13.根据权利要求8所述的方法，其中所述方法包括以下步骤：其中BnDppYH是权利要求1的保护基团；并且其中Pg选自Cbz、Fmoc、Boc、Bn、Fm和tBu；并且其中Z是一般变量。14.根据权利要求8所述的方法，其中所述方法包括以下步骤：其中BzDppOH是权利要求1的保护基团；并且6CN108697770A权利要求书6/6页其中Pg选自Cbz、Fmoc、Boc、Bn、Fm和tBu；并且其中Z是一般变量。15.根据权利要求14所述的方法，其中所述保护基团选自包括以下的群组：(1D)和(1E)其中R选自H、Me和OMe；并且其中X选自O、S和NH。16.一种进行基团辅助纯化(GAP)肽合成的方法，其中所述方法包括以下步骤：将权利要求1的保护基团连接到氨基酸，接着对得到的具有连接的保护基团的氨基酸进行基于Fmoc-tBu的溶液相肽合成(SolPPS)偶联反应。17.根据权利要求16所述的方法，其中所述反应在乙酸乙酯中发生。18.根据权利要求16所述的方法，其中所述反应在二氯甲烷中发生。7CN108697770A说明书1/18页用于溶液相GAP肽合成的系统和方法[0001]本申请包含受版权保护的材料。版权所有人不反对任何人对专利公开内容进行传真复制，因为它出现在专利和商标局的文件或记录中，但在其它方面保留所有版权。[0002]相关申请的交叉引用[0003]本申请要求于201