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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111280010A(43)申请公布日2020.06.16(21)申请号202010221157.2C05G3/00(2020.01)(22)申请日2020.03.26C05G1/00(2006.01)(71)申请人湖州师范学院地址313000浙江省湖州市二环东路759号(72)发明人刘骕骦刘燕敏李阳(74)专利代理机构北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙)11531代理人邢文月(51)Int.Cl.A01G22/40(2018.01)A01C21/00(2006.01)A01B79/02(2006.01)A01C1/08(2006.01)A01C1/00(2006.01)C05G3/80(2020.01)权利要求书1页说明书5页(54)发明名称一种高产春大豆的种植方法(57)摘要本发明公开了一种高产春大豆的种植方法,包括如下步骤:步骤一,农田处理:秋收后对稻田进行深耕翻地,养土,来年进行浅耕细耙、灭茬和起垄;步骤二,种子处理:对大豆种子进行消毒,温水浸泡和阴干;步骤三,播种种植:土壤开穴,播种覆土,撒入基肥并进行浇水;步骤四,田间管理:出苗后补苗,定期追肥,杀虫。本发明能有效通过农田处理改善土壤结构,提高土地生产力,能有效通过种子处理减少豆源虫害,提高豆种的根瘤菌含量,提高豆种对土壤营养的吸收率,能有效通过播种种植改善豆苗生长的营养基础,促使豆苗茁长成长,能有效通过田间管理促进豆苗稳定生长,从而提升了大豆的品质,提高了大豆的产量。CN111280010ACN111280010A权利要求书1/1页1.一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,包括如下步骤:步骤一,农田处理:每年秋收后对稻田进行深耕翻地,翻地深度为25~30cm,并在翻地后铺撒有机肥和砂质壤土进行养土,再于第二年开春后对稻田进行浅耕细耙和灭茬,灭茬深度为10~15cm,灭茬后对稻田进行起垄,垄高20~25cm,垄间距为25~30cm;步骤二,种子处理:选择颗粒饱满、无破损、无虫眼、无霉病的春大豆种子放入盐水中进行消毒1~2h,消毒过程中缓慢搅拌,再将消毒后的大豆种子放入20~25℃的温水中浸泡18~20h,浸泡完成后在水中添加适量根瘤菌剂并进行缓慢搅拌,搅拌时间为30~60min,最后将处理完成的大豆种子阴干4~6h;步骤三,播种种植:当日渐平均气温超过15℃后,在起垄后的土壤中进行开穴,穴深2~3cm,每穴间距20~30cm,再将阴干后的大豆种子以每穴3~4粒进行播种,边播种边覆盖土壤,盖土厚度为1~2cm,最后在每穴上撒入适量基肥并进行浇水;步骤四,田间管理:在大豆出苗后进行查苗,缺苗补苗,待豆苗长出1叶1心后,进行间苗、定苗,每15~20天追一次肥,每月杀一次虫,直至豆苗开花结荚后杀一次虫,每8~10天补一次肥,整个苗期中耕3次,中耕深度按浅-深-浅的原则实施。2.根据权利要求1所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,步骤一中所述有机肥的施肥量为每亩地1000~1500kg,且砂质壤土的铺撒厚度为0.5~1cm。3.根据权利要求2所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,所述有机肥为草木灰、植物落叶、秸秆碎和鸡粪混合发酵后的产物配以适量根瘤菌剂制备而成,且草木灰、植物落叶、秸秆碎和鸡粪的重量比为5:0.5:3:1.5,根瘤菌剂的用量为每亩地1~2kg,所述秸秆碎可采用往年收割剩余的大豆秸秆破碎而成。4.根据权利要求1所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,步骤二中所述根瘤菌剂、温水和大豆种子的重量比为1:1.2:20。5.根据权利要求1所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,步骤三中所述基肥采用氮肥和磷肥混合物,且氮肥和磷肥的重量比为7:3。6.根据权利要求1所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,步骤四中所述定苗期间追肥采用肥料为氮肥,且氮肥的施肥量为每亩地6000kg,所述豆苗开花结荚后补追的肥料为尿素复合肥以及磷钾微肥,且尿素复合肥需每亩地用5~10kg兑水稀释后穴施,磷钾微肥需每亩地用100g兑水50kg稀释后均匀喷洒在叶片正反面2次;所述定苗期间采用的杀虫剂为稀释1000~1500倍的40%氧化乐果乳剂,且豆苗结荚后采用的杀虫剂为稀释1500倍的乙酰甲胺磷。7.根据权利要求6所述的一种高产春大豆的种植方法,其特征在于,所述豆苗开花结荚后,晴好天间隔1~2天浇一次水,阴雨天后间隔3~5天再浇一次水。2CN111280010A说明书1/5页一种高产春大豆的种植方法技术领域[0001]本发明涉及农业种植技术领域,具体的涉及一种高产春大豆的种植方法。背景技术[0002]大豆通称黄豆,为双子叶植物纲,豆科。大豆是中国重要的经济作物和粮饲兼用作物,已有五千年栽培历史。