用于结构光的光源、结构光投影设备和系统.pdf
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用于结构光的光源、结构光投影设备和系统.pdf
一种用于结构光的光源,所述光源包括布置成阵列的多个光源元件,其中所述光源元件被配置成在以下两种模式下驱动:‑校准模式,其中仅光源元件的一部分适合于被驱动;以及‑正常模式,其中其余所述光源元件适合于被驱动。
光源装置、光路结构设计方法及投影系统.pdf
本发明提供了一种光源装置、光路结构设计方法及投影系统,涉及光学技术领域,该光源装置在沿光的传播方向上包括:阵列光源、第一缩束结构和波长转换装置;第一缩束结构用于对阵列光源输出的激发光束进行激发光束垂直投影的长轴方向上的缩束;缩束前,激发光束垂直投影的长轴长度是激发光束垂直投影的短轴长度的第一预设倍数;缩束后,经第一缩束结构缩束得到的缩束后光束垂直投影的长轴长度是缩束后光束垂直投影的短轴长度的第二预设倍数,第二预设倍数小于第一预设倍数。这样通过第一缩束结构实现了激发光束形状的改变。
用于影响光传播方向的方法和结构.pdf
本发明涉及一种用于影响多个相邻的自发光和/或被照明的面(F1、F2、...)的光传播方向的方法,这些面在光出射侧包括自身的或共同的透明的基板(1),所述基板布置在自发光或被照明的面(F1、F2、…)的发光层的上方,所述方法包括步骤:a)在光出射侧分别将可切换的吸收体(2)布置在至少具有多个面(F1、F2、…)的相应的基板(1)的一个或多个分面上,其中,这些可切换的吸收体(2)的空间主传播方向在不计公差的情况下,平行于一个或多个基板(1)的光出射面而置;b)限制从每个单独的面(F1、F2、…)发出的光的光传
用于影响光传播方向的方法和结构.pdf
本发明涉及一种用于影响多个相邻的自发光和/或被照明的面(F1、F2、...)的光传播方向的方法,这些面在光出射侧包括自身的或共同的透明的基板(1),所述基板布置在自发光或被照明的面(F1、F2、…)的发光层的上方,所述方法包括步骤:a)在光出射侧分别将可切换的吸收体(2)布置在至少具有多个面(F1、F2、…)的相应的基板(1)的一个或多个分面上,其中,这些可切换的吸收体(2)的空间主传播方向在不计公差的情况下,平行于一个或多个基板(1)的光出射面而置;b)限制从每个单独的面(F1、F2、…)发出的光的光传
一种投影设备及其光机结构.pdf
本实用新型公开了一种投影设备及其光机结构,光机结构包括壳体和盖设于壳体上的盖体,壳体的内腔中设置有分光棱镜;盖体包括第一盖体和第二盖体,第一盖体与第二盖体之间具有间隙,在间隙内充填隔热件;分光棱镜布置在第一盖体覆盖区域内,第一盖体上还设置有朝向内腔延伸并用于遮挡并吸收分光棱镜射出的OFF光线的遮光件。遮光件设置在第一盖体覆盖区域内,镜片组件中对温度耐受度较低的镜片布置在第二盖体覆盖区域内,第一盖体和第二盖体被隔热件隔开,可有效避免第一盖体的热量传递到第二盖体,避免影响到第二盖体覆盖区域内对温度的耐受度较低