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本发明公开了一种光伏玻璃基高增透薄膜,包括光伏玻璃衬底以及采用磁控溅射工艺制备的镀层,且镀层结构自光伏玻璃衬底由下而上依次为:第一Nb2O5层、第二SiO2层、第三Nb2O5层和第四TiO2层。本发明还公开了该制备方法,依次包括如下步骤:S1以光伏玻璃为衬底,沉积厚度12~18nm的Nb2O5层,S2沉积厚度100nm~120nm的SiO2层,S3沉积厚度20~26nm的Nb2O5层,S4沉积厚度80~100nm的TiO2层。本发明采用磁控溅射工艺,生产过程安全环保,在可见光波段,透光率较之同样规格无镀层玻璃提高6%,且材料附着力高,耐磨、耐腐蚀性好,使得晶体材料对入射光的吸收增强,有利于提高光电转换效率,可广泛用光伏玻璃。