一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115893869A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211173658.3(22)申请日2022.09.26(71)申请人天津北玻玻璃工业技术有限公司地址301800天津市宝坻区经济开发区宝中道20号(72)发明人朱宏刚高琦(74)专利代理机构北京兆君联合知识产权代理事务所(普通合伙)11333专利代理师胡敬红(51)Int.Cl.C03C17/36(2006.01)权利要求书2页说明书14页附图3页(54)发明名称一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃(57)摘要本发明涉及一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀在所述玻璃基片一个表面的膜层，通过在传统双银膜结构中引入致密ZrOx膜层，同时去除ZnAlOx、ZnSnOx等易与酸碱发生反应的镀膜材料。在两层银连接处使用NiCr作为保护层同时利用金属膜层良好的延展性提高膜层内部材料柔韧度降低SiAlNx的膜层应力。本发明设计的膜层结构可以极大程度提高离线双银产品的耐酸碱能力。本发明涉及的双银低辐射镀膜产品可直接与中空结构胶接触无需除膜；同时也可以直接与PVB或SGP接触，不会因为膜层氧化存在脱膜开胶等潜在风险。CN115893869ACN115893869A权利要求书1/2页1.一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀在所述玻璃基片一个表面的膜层，所述膜层自玻璃基片的一侧由里向外依次包括：第一层致密阻挡层、第二层阻挡层、第三层保护层、第四层功能层、第五层保护层、第六层连接层、第七层保护层、第八层功能层、第九层保护层、第十层阻挡层、第十一层致密阻挡层；所述膜层采用真空磁控溅射镀膜方法镀于玻璃基片的一个表面，其中第一层致密阻挡层材料为锆的氧化物或者其它金属氧化物与锆的氧化物形成的组合物；所述第二层阻挡层材料为金属氮化物、硅的氮化物或者金属氮化物与硅的氮化物组合物；所述第三层保护层材料为NiCr，所述第四层功能层材料为Ag，所述第五层保护层材料为NiCr；所述第六层连接层材料为SiAlNx；所述第七层保护层材料为NiCr；所述第八层功能层材料为Ag；所述第九层保护层材料为NiCr；所述第十层阻挡层材料为SiAlNx、所述第十一层致密阻挡层材料为锆的氧化物或者其它金属氧化物与锆的氧化物形成的组合物。2.根据权利要求1所述的一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，所述第一层致密阻挡层材料为ZrOx；所述第二层阻挡层材料为SiAlNx；所述第三层保护层材料为NiCr；所述第四层功能层材料为Ag；所述第五层保护层材料为NiCr；所述第六层连接层材料为SiAlNx；所述第七层保护层材料为NiCr；所述第八层功能层材料为Ag；所述第九层保护层材料为NiCr；所述第十层阻挡层材料为SiAlNx；所述第十一层致密阻挡层材料为ZrOx。3.根据权利要求2所述的一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，所述第一层致密阻挡层厚度为3‑15nm；所述第二层阻挡层厚度为15‑40nm；所述第三层保护层厚度为1‑10nm；所述第四层功能层厚度为5‑20nm；所述第五层保护层厚度为1‑10nm；所述第六层连接层厚度为75‑110nm；所述第七层保护层厚度为1‑10nm；所述第八层厚度为5‑20nm；所述第九层保护层厚度为1‑10nm；所述第十层阻挡层厚度为20‑40nm；所述第十一层致密阻挡层厚度为3‑15nm。4.根据权利要求3所述的一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，所述第一层致密阻挡层厚度为6‑12nm；所述第二层阻挡层厚度为20‑30nm；所述第三层保护层厚度为2‑5nm；所述第四层功能层厚度为8‑15nm；所述第五层保护层厚度为2‑5nm；所述第六层连接层厚度为90‑100nm；所述第七层保护层厚度为2‑5nm；所述第八层厚度为8‑12nm；所述第九层保护层厚度为3‑7nm；所述第十层阻挡层厚度为20‑30nm；所述第十一层致密阻挡层厚度为6‑10nm。5.根据权利要求4所述的一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，所述第一层致密阻挡层厚度10nm；所述第二层阻挡层厚度25nm；所述第三层保护层厚度3nm；所述第四层功能层厚度11.8nm；所述第五层保护层厚度3nm；所述第六层连接层厚度94nm；所述第七层保护层厚度3.5nm；所述第八层厚度9.9nm；所述第九层保护层厚度4.5nm；所述第十层阻挡层厚度26nm；所述第十一层致密阻挡层厚度8nm。6.根据权利要求2‑6任一所述的一种耐酸碱双银低辐射镀膜玻璃，所述第一层和第十一层致密阻挡层ZrOx为陶瓷状态ZrOx，陶瓷靶纯度为99.50％一99.99％；所述第二层、第六层以及第十层阻挡层和连接层均为SiAlNx，硅铝靶为硅铝重量比为5％一15％，硅、铝的纯度均为99.900％—99.999％；所述第三