一种微纳结构及其制备方法.pdf
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一种微纳结构及其制备方法.pdf
本发明公开了一种微纳结构及其制备方法,涉及微纳光学技术领域,目的在于提供一种简化光刻工艺中各步骤的实现方式、提高光刻效率和抗蚀液去除效果的微纳结构及其制备方法,其技术要点是涉及该微纳结构制备方法的制造设备,制造设备包括用于加热晶圆片的加热系统、用于刻蚀电路图案的光照系统、用于清洗抗蚀剂的显影腔和用于带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动的传动系统,且承片台进入显影腔清洗时,晶圆片的光刻面朝下,技术效果是通过设置传动系统,带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动,改变现有光刻工艺中各步骤的实现
一种海胆状Zn/ZnO微纳结构电极及其制备方法.pdf
本发明公开了一种染料敏化太阳能电池的海胆状Zn/ZnO微纳结构电极及其制备方法,以氩气为传输保护气体,以锌粉为蒸发源700~800℃热蒸发,在450~410℃低温区F掺SnO2透明导电玻璃上沉积形成金属Zn微球阵列;在马弗炉中450~520℃保温3~5h;最后在0.3mmol/L的N719染料的无水乙醇溶液中浸泡,即形成由粘附在导电玻璃上的Zn微球及从其表面向各个方向发散分布的ZnO纳米线的海胆状Zn/ZnO微纳结构的染料敏化太阳能电池的光阳极。这种微纳结构有效提高Zn球与透明导电基板的粘结度,相比于一维
一种微纳通孔的制备方法及具有微纳通孔的结构.pdf
本发明提供一种微纳通孔的制备方法,包括步骤:提供衬底,自衬底的顶层向上依次形成结构层和牺牲层的叠层,构成第一结构,第一结构的顶层为牺牲层;基于顶层的牺牲层,形成若干分立的牺牲区域;在牺牲区域的顶层、侧壁以及承载牺牲区域的结构的表面形成侧墙膜;去除部分侧墙膜,保留牺牲区域侧壁的侧墙膜,以形成侧墙;去除牺牲区域;去除侧墙的两端,以形成若干间隔分布且独立的墙体;去除结构层和牺牲层至最底层的结构层,保留墙体下方的结构层和牺牲层;填充介质层,并平坦化以露出墙体的顶层;去除墙体两端的介质层至近衬底的顶层;去除牺牲层,
一种石墨烯增强吸收的金属微纳结构及其制备方法.pdf
本发明涉及微纳光学领域,具体涉及一种石墨烯增强吸收的金属微纳结构及其制备方法,金属微纳结构以硅或二氧化硅为基底,从下到上依次蒸镀第一金属层、二氧化硅层、第二金属层和第一石墨烯薄膜层,基底层由硅或二氧化硅材料制成,第一金属层和第二金属层由金或银材料制成,通过加入石墨烯薄膜层和金属层之间的耦合作用增强对于入射光的吸收,解决了金属微纳结构吸收率小的问题,结构简单,制备方便。
一种双层矩形孔微纳结构的制备方法.pdf
本发明涉及微纳光学技术领域,具体涉及一种双层矩形孔微纳结构的制备方法,解决现有技术中存在的双层矩形孔微纳结构两层矩形孔之间位置很难完全校准的问题,本发明提供了一种双层矩形孔微纳结构的制备方法,采用了先涂覆PMMA光刻胶,然后曝光刻蚀设计图形中的实体部分,留下矩形孔形状的PMMA胶柱,在含有胶柱的基底上蒸镀各纳米层,最后再剥离胶柱的制备方法,解决了上下层结构之间矩形孔很难完全校准的问题,达到了简化制备工艺,降低制备难度,提高结构制备精度的效果。