一种微纳结构及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115903396A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211425238.X(22)申请日2022.11.15(71)申请人江苏华兴激光科技有限公司地址221000江苏省徐州市邳州经济开发区辽河西路北侧、华山北路西侧申请人无锡华兴光电研究有限公司(72)发明人王岩徐鹏飞(74)专利代理机构江苏长德知识产权代理有限公司32478专利代理师王金华(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)G03F7/16(2006.01)G03F7/30(2006.01)G03F7/42(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图3页(54)发明名称一种微纳结构及其制备方法(57)摘要本发明公开了一种微纳结构及其制备方法，涉及微纳光学技术领域，目的在于提供一种简化光刻工艺中各步骤的实现方式、提高光刻效率和抗蚀液去除效果的微纳结构及其制备方法，其技术要点是涉及该微纳结构制备方法的制造设备，制造设备包括用于加热晶圆片的加热系统、用于刻蚀电路图案的光照系统、用于清洗抗蚀剂的显影腔和用于带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动的传动系统，且承片台进入显影腔清洗时，晶圆片的光刻面朝下，技术效果是通过设置传动系统，带动承片台在加热系统、光照系统和显影腔之间移动，改变现有光刻工艺中各步骤的实现方式，无需单独设置机械臂来安装烘干设备，承片台转动进入显影腔，简化晶圆片的清洗方法。CN115903396ACN115903396A权利要求书1/2页1.一种微纳结构，包括晶圆片(17)，晶圆片(17)上设有多个芯片(20)，其特征在于：芯片(20)上设有由光刻技术刻蚀形成的电路图案。2.一种微纳结构的制备方法，应用于权利要求1所述的一种微纳结构，其特征在于，包括以下步骤：S1、将抗蚀剂液体喷涂至晶圆片(17)上，控制晶圆片(17)高速旋转，使液体均匀分布至晶圆片(17)上；S2、加热涂覆有抗蚀剂的晶圆片(17)以固化抗蚀剂；S3、用光照射抗蚀剂使其反应，完成曝光刻蚀；S4、将曝光的晶圆片(17)浸入显影液中，然后去除多余的抗蚀剂，使电路图案显现；S5、通过加热方式除去附着的冲洗液；其中涉及该微纳结构制备方法的制造设备，制造设备包括用于加热晶圆片(17)的加热系统、用于刻蚀电路图案的光照系统、用于清洗抗蚀剂的显影腔(21)和用于带动承片台(18)在加热系统、光照系统和显影腔(21)之间移动的传动系统，且承片台(18)进入显影腔(21)清洗时，晶圆片(17)的光刻面朝下。3.根据权利要求2所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：在进行步骤S1之前，将晶圆片(17)安装在承片台(18)上，承片台(18)通过传动系统调控，传动系统带动承片台(18)沿着X轴移动。4.根据权利要求3所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：承片台(18)与晶圆片(17)的接触面为陶瓷材料，承片台(18)与晶圆片(17)之间通过半导体陶瓷凝胶粘接固定。5.根据权利要求4所述的一种微纳结构的制备方法，其特征在于：加热系统包括烘干箱(2)，烘干箱(2)的内部固定安装有加热丝(3)，烘干箱(2)的侧壁开设有用于晶圆片(17)进出的进出口(4)；光照系统包括驱动组件和光照组件，驱动组件用于带动光照组件沿着Y轴移动，光照组件包括光源(5)、分光镜(6)、反光镜(7)和曝光镜头(8)，曝光镜头(8)下方设有掩模版(9)，光源(5)发出光线，光线依次穿过分光镜(6)、反光镜(7)后和曝光镜头(8)，曝光镜头(8)射出的光束穿过掩模版(9)后刻蚀图案；传动系统包括传动电机(10)、传动螺杆(11)、限位杆(12)、传动气缸(23)、传动台(13)和转动电机(14)，传动电机(10)在机座(1)的外壁上固定安装，传动电机(10)的输出轴驱动连接传动螺杆(11)，传动螺杆(11)与机座(1)的内壁转动连接，传动气缸(23)在机座(1)的外壁上固定安装，传动气缸(23)的伸缩端固定安装限位杆(12)，传动台(13)与传动螺杆(11)螺纹套接、并与限位杆(12)滑动套接；烘干箱(2)在机座(1)顶面固定安装，机座(1)的内腔固定安装分隔板(22)，分隔板(22)的侧壁与机座(1)的侧壁固定连接，且分隔板(22)的一侧与机座(1)之间形成显影腔(21)，机座(1)上开设有传动孔(15)和清洗入口(16)，转动电机(14)在传动台(13)上固定安装，转动电机(14)的输出轴穿过传动孔(15)并与承片台(18)固定连接，传动系统带动承片台(18)穿过清洗入口(16)进入显影腔(21)，且当承片台(18)的中心与清洗入口(16)的中心重合时，传动台(13)与限位杆(12)分离。6.根据权利要求5所述的一种微纳结构的制备方法