一种陶瓷壁电离喷釉装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115890883A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211608745.7(22)申请日2022.12.14(71)申请人侯宵奇地址054000河北省邢台市襄都区大梁庄乡开元北路四季花城6号楼(72)发明人侯宵奇(51)Int.Cl.B28B11/04(2006.01)H05F7/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图6页(54)发明名称一种陶瓷壁电离喷釉装置(57)摘要本发明公开了一种陶瓷壁电离喷釉装置，所述壳体的上端一侧开设有凹槽一，所述凹槽一的下端设置有驱动装置，所述驱动装置包电机一、支撑机构、静电机构和重力机构，所述凹槽一内嵌设有电机一，所述电机一的外轴连接有支撑机构，所述支撑机构内设置有用静电机构和重力机构，所述凹槽一的一侧设置有喷涂装置，所述凹槽一的开口处铰接有箱门。有益效果：通过设置的支撑机构可以对青瓷进行支撑，而设置的静电机构则会使青瓷的表面带有静电，增加电离喷釉时的喷涂效果，使釉液的吸附效果更好，喷涂更加均匀，而设置的重力机构则可以通过检测青瓷的重量预估青瓷的大小，从而调节喷涂装置的喷涂量。CN115890883ACN115890883A权利要求书1/2页1.一种陶瓷壁电离喷釉装置，包括壳体(1)、驱动装置(2)和喷涂装置(3)，其特征在于，所述壳体(1)的上端一侧开设有凹槽一(4)，所述凹槽一(4)的下端设置有驱动装置(2)，所述驱动装置(2)包电机一(5)、支撑机构(6)、静电机构(7)和重力机构(8)，所述凹槽一(4)内嵌设有电机一(5)，所述电机一(5)的外轴连接有支撑机构(6)，所述支撑机构(6)内设置有用静电机构(7)和重力机构(8)，所述凹槽一(4)的一侧设置有喷涂装置(3)，所述凹槽一(4)的开口处铰接有箱门。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷壁电离喷釉装置，其特征在于，所述支撑机构(6)包括转盘(9)和支撑台(10)，所述电机一(5)的外轴固定连接有转盘(9)，所述转盘(9)的上端开设有滑槽一(11)且滑动套设有滑块一(12)，所述滑块一(12)的上端固定连接有支撑台(10)，所述滑槽一(11)的外侧开设有弹簧槽(13)，所述弹簧槽(13)内固定连接有弹簧一(14)，所述弹簧一(14)的上端与所述支撑台(10)固定连接，所述支撑台(10)的下端固定连接有若干个支撑柱(15)，所述转盘(9)的上端开设有若干个与所述支撑柱(15)相配合的滑槽二(16)。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷壁电离喷釉装置，其特征在于，所述重力机构(8)包括轴套(17)、电阻管(18)和拨片(19)，所述转盘(9)的上端一侧开设有滑槽三(20)，所述滑槽三(20)内固定连接有电阻管(18)，所述滑槽三(20)内活动套设有轴套(17)，所述轴套(17)内通过拨片(19)与所述电阻管(18)接触，所述轴套(17)的上端与所述支撑台(10)固定连接。4.根据权利要求2所述的一种陶瓷壁电离喷釉装置，其特征在于，所述静电机构(7)包括线圈(21)、永磁体(22)、接电管一(23)和接电管二(24)，所述转盘(9)的外壁开设有若干个凹槽二(25)，所述凹槽二(25)内均固定连接有线圈(21)，所述凹槽一(4)靠近所述凹槽二(25)的一侧均设置有若干个与所述线圈(21)相配合的永磁体(22)，所述转盘(9)的上端一侧嵌设有连接件(26)，所述连接件(26)的上端开设有圆槽一(27)，所述圆槽一(27)内活动设置有接电管一(23)，所述接电管一(23)的下端与所述圆槽一(27)的内壁之间固定连接有弹簧二(28)，所述支撑台(10)的下端固定连接有与所述接电管一(23)相配合的接电管二(24)，所述转盘(9)内嵌设有稳流器(29)且与所述线圈(21)、接电管一(23)和接电管二(24)电性连接。5.根据权利要求1所述的一种陶瓷壁电离喷釉装置，其特征在于，所述喷涂装置(3)包括电离喷涂枪(30)、集料箱(31)、动力机构(32)和调节机构(33)，所述壳体(1)的一侧外壁嵌有集料箱(31)，所述集料箱(31)的下端开设有连通槽(34)且连接有泵体(35)，所述凹槽一(4)的一侧开设有滑槽四(36)，所述滑槽四(36)活动设置有动力机构(32)，所述动力机构(32)的一侧连接有电离喷涂枪(30)，所述本体的一侧通过连接管(37)与所述电离喷涂枪(30)连通，所述电离喷涂枪(30)的一侧设置有调节机构(33)且与所述动力机构(32)连接。6.根据权利要求5所述的一种陶瓷壁电离喷釉装置，其特征在于，所述动力机构(32)包括电机二(38)、丝杆(39)和滑块二(40)，所述壳体(1)的上端嵌设有电机二(38)，所述电机二(38)的外轴固定连接有丝杆