一种显示面板及其制备方法、显示装置.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115942833A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202211678506.9(22)申请日2022.12.26(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号(72)发明人温向敏李彦松樊燕高昊汪顺韩城吴启晓李旭王艳明(74)专利代理机构北京聿宏知识产权代理有限公司11372专利代理师陈超德吴昊(51)Int.Cl.H10K59/50(2023.01)H10K59/12(2023.01)权利要求书2页说明书10页附图5页(54)发明名称一种显示面板及其制备方法、显示装置(57)摘要本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置，显示面板包括：阵列排布的多个发光单元、围绕各发光单元的像素定义结构、位于多个发光单元和像素定义结构一侧的第一封装层；多个发光单元至少包括：多个目标发光单元，目标发光单元用于发出目标颜色的光；显示面板还包括：在像素定义结构之上，围绕目标发光单元且与第一封装层同层的调制结构；调制结构具有预设的透过光谱。本申请实施例利用在目标发光单元的周围上方的调制结构，对目标发光单元在大视角下的斜射光进行调制，改善目标发光单元的斜射光的色偏问题，以此提高显示面板在大视角下的色彩准确度。CN115942833ACN115942833A权利要求书1/2页1.一种显示面板，其特征在于，包括：阵列排布的多个发光单元、围绕各所述发光单元的像素定义结构、位于多个所述发光单元和所述像素定义结构一侧的第一封装层；多个所述发光单元至少包括：多个目标发光单元，所述目标发光单元用于发出目标颜色的光；所述显示面板还包括：在所述像素定义结构之上，围绕所述目标发光单元且与所述第一封装层同层的调制结构；所述调制结构具有预设的透过光谱。2.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述调制结构包括：金属微纳粒子。3.根据权利要求2所述的一种显示面板，其特征在于，所述金属微纳粒子包括：球形金纳米粒子，所述球形金纳米粒子的直径包括15纳米至45纳米中的任一值。4.根据权利要求2所述的一种显示面板，其特征在于，所述调制结构还包括：无机介质；所述无机介质与所述第一封装层的材质相同；其中，所述金属微纳粒子分散在所述无机介质中。5.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，还包括：位于所述第一封装层之上的第二封装层；所述调制结构向上延伸至与所述第二封装层同层。6.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，所述目标发光单元用于发出蓝色的光。7.根据权利要求6所述的一种显示面板，其特征在于，所述目标发光单元的发光材料的本征光谱的波长峰值包括457纳米至463纳米中的任一值，并且，所述目标发光单元的发光材料的本征光谱的半峰宽包括16纳米至30纳米中的任一值。8.根据权利要求7所述的一种显示面板，其特征在于，所述目标发光单元的发光材料的本征光谱的波长峰值为460纳米，并且，所述目标发光单元的发光材料的本征光谱的半峰宽为24纳米。9.根据权利要求1所述的一种显示面板，其特征在于，各所述发光单元包括：上下层叠的至少两个发光层。10.根据权利要求9所述的一种显示面板，其特征在于，所述目标发光单元中的任一所述发光层包括至少两种发光材料，任一所述发光层的发光材料发出的光谱加和满足设定的本征光谱；其中，任一所述发光层是通过混蒸或者叠层蒸镀获得的。11.根据权利要求9所述的一种显示面板，其特征在于，各所述发光单元还包括：在距离所述第一封装层最远的发光层下方的阳极；所述目标发光单元还包括：在所述阳极远离所述发光层一侧的金属反射层；所述金属反射层的表面电子浓度包括5E26m‑3至5E28m‑3中的任一值，并且，所述金属反射层的上表面的消光系数大于3。12.根据权利要求11所述的一种显示面板，其特征在于，所述金属反射层为铝质金属反射层或者铬质金属反射层。13.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：获得像素定义结构；获得被所述像素定义结构围绕的阵列排布的多个发光单元，多个所述发光单元至少包2CN115942833A权利要求书2/2页括：多个目标发光单元，所述目标发光单元用于发出目标颜色的光；在多个所述发光单元和所述像素定义结构的一侧，获得第一封装层；在所述像素定义结构之上，获得围绕所述目标发光单元且与所述第一封装层同层的调制结构；所述调制结构具有预设的透过光谱。14.根据权利要求13所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在多个所述发光单元和所述像素定义结构的一侧，获得第一封装层的方法，包括：获得位于多个所述发光单元和所述像素定义结构一侧的初始封装层；对所述初始封装层刻蚀，得到围绕所述目标发光单元的凹槽；所述在所述像素定义结构之上，获得围绕所述目标发光单