一种负压式纳米压印设备.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106990671A(43)申请公布日2017.07.28(21)申请号201710389522.9(22)申请日2017.05.27(71)申请人青岛德微光纳科技有限公司地址266000山东省青岛市高新区竹园路2号世通大厦五楼506室(72)发明人张欣(51)Int.Cl.G03F7/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种负压式纳米压印设备(57)摘要本发明涉及压印技术领域，尤其涉及一种负压式纳米压印设备。其包括外支撑架、支撑座以及纳米压印系统，其中纳米压印系统固定在支撑座上，支撑架架设在纳米压印系统外部，固定在支撑座的上部边缘，而纳米压印系统包括用以灯光照射的UVLED灯、位于UVLED灯下部的压印模板、位于压印模板下方的压印平台，而压印平台通过伺服驱动系统固定在支撑座之上，压印平台自上而下包括涂抹的光刻胶、压印基板以及带抽真空系统的吸盘。本设备在真空腔内压印，相比常压下压印，压印过程不会产生气泡，压印胶在真空的吸附作下能够填充到整个结构，保证模板的结构完全能够转移到基板上。CN106990671ACN106990671A权利要求书1/1页1.一种负压式纳米压印设备，包括外支撑架、支撑座以及纳米压印系统，其中纳米压印系统固定在支撑座上，支撑架架设在纳米压印系统外部，固定在支撑座的上部边缘，而纳米压印系统包括用以灯光照射的UVLED灯、位于UVLED灯下部的压印模板、位于压印模板下方的压印平台，而压印平台通过伺服驱动系统固定在支撑座之上，压印平台自上而下包括涂抹的光刻胶、压印基板以及带抽真空系统的吸盘，其特征在于，所述纳米压印系统还包括用以实现真空状态的压印壳体，分为上压印壳体和下压印壳体，上压印壳体的上端与所述外支撑架的底面之间安装有压印气缸，上压印壳体的上表面设有可视窗口，而所述的UVLED灯固定在上压印壳体的下表面，位于可视窗口下方，上压印壳体的下部内侧通过密封胶固定有石英玻璃，下压印壳体位于上压印壳体的下方，所述的纳米压印系统置于所述下压印壳体的内底部，纳米压印系统的伺服驱动系统穿过下压印壳体的下底与支撑座连接，所述的压印模板位于上压印壳体与下压印壳体之间，其边缘与上压印壳体的下底边和下压印壳体的上顶边相对应，所述下压印壳体的底面与支撑座之间还设有压印壳体支撑座，用以支撑上、下压印壳体，在上压印壳体与下压印壳体的侧面还设有真空调节装置，所述真空调节装置包括压力传感器、真空调节器和正压调节器，其中压力传感器位于压印壳体的一侧面，真空调节器和正压调节器通过管道安装在压印壳体的另一侧面，所述真空调节装置通过真空管道和正压管道与外界的真空泵和正压气源连接，所述上压印壳体与下压印壳体之间还通过柔性真空管道和自动调压阀进行联通。2.根据权利要求1所述的一种负压式纳米压印设备，其特征在于：所述的UVLED灯采用面光源。3.根据权利要求1所述的一种负压式纳米压印设备，其特征在于：所述压印气缸设有四组。4.根据权利要求1所述的一种负压式纳米压印设备，其特征在于：所述上压印壳体和下压印壳体的外侧均设有一组真空调节器和正压调节器。5.根据权利要求4所述的一种负压式纳米压印设备，其特征在于：所述真空调节器通过真空管道与外界的真空泵连接，所述正压调节器通过正压管道接在正压气源上。6.根据权利要求1所述的一种负压式纳米压印设备，其特征在于：所述上压印壳体的下底边与下压印壳体的上顶边均覆盖有硅橡胶密封圈，用以在压印时与所述压印模板之间保持密封。2CN106990671A说明书1/4页一种负压式纳米压印设备技术领域[0001]本发明涉及压印技术领域，尤其涉及一种负压式纳米压印设备。背景技术[0002]随着工业技术的高速发展，微米级以下的精密加工越来越多的应用到各行各业，而现有的机加工很难实现这些超精密加工，自然而然需要一种加工方式替代机加工，而纳米压印是最好的替代方式，通过纳米压印设备，可以加工微米以下的精密零件，这样既解决了机加工的不可实现性，有提高了加工效率和生产成本。[0003]现有的纳米压印设备虽然能够实现高精度的压印，但是非常容易产生气泡，压印胶也难以填充到整个压印结构，降低了模板的压印精度和区域。并且模板和基板的损失率较高。发明内容[0004]本发明要解决的技术问题是如何克服现有技术的不足，提供一种负压式纳米压印设备。[0005]本发明为实现上述目的采用的技术方案是：一种负压式纳米压印设备，包括外支撑架、支撑座以及纳米压印系统，其中纳米压印系统固定在支撑座上，支撑架架设在纳米压印系统外部，固定在支撑座的上部边缘，而纳米压印系统包括用以灯光照射的UVLED灯、位于UVLED灯下部的压印模板、位于压印模板下方的压印平台，而压印平