一种微纳孔阵列的加工装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107877010A(43)申请公布日2018.04.06(21)申请号201711352929.0B23K26/12(2014.01)(22)申请日2017.12.15B23K26/60(2014.01)B23K26/70(2014.01)(71)申请人广东工业大学地址510062广东省广州市越秀区东风东路729号申请人佛山市南海区广工大数控装备协同创新研究院(72)发明人陈云麦锡全陈新高健汪正平杨海东(74)专利代理机构佛山市禾才知识产权代理有限公司44379代理人史亮亮(51)Int.Cl.B23K26/382(2014.01)B23K26/08(2014.01)权利要求书2页说明书6页附图7页(54)发明名称一种微纳孔阵列的加工装置(57)摘要一种微纳孔阵列的加工装置，包括支撑架、激光装置、真空反应装置、磁场装置和操作台；真空反应装置包括反应装置、吸附机构、真空导气管和真空泵；反应装置包括上盖、反应盒体和底盘；反应盒体安装于激光装置的正下方，其侧壁通过真空导气管连接真空泵；底盘安装于反应盒体的底部，其表面开设有环形凹槽，其底部开设有通孔；吸附机构包括吸附底盘和压力调节器；吸附底盘安装于底盘的底部，其顶部接通于通孔；压力调节器一端连接于吸附底盘，另一端连接真空泵；本发明提出的微纳孔阵列的加工装置，通过结构的优化设计，实现能够采用微纳复合结构金属粒子进行微纳米加工的方式，提高加工的稳定性，提高加工质量的可控性。CN107877010ACN107877010A权利要求书1/2页1.一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：包括支撑架、激光装置、真空反应装置、磁场装置和操作台；所述激光装置安装于所述支撑架上；所述真空反应装置包括反应装置、吸附机构、真空导气管和真空泵；所述反应装置包括上盖、反应盒体和底盘；所述上盖盖于所述反应盒体的顶部；反应盒体安装于所述激光装置的正下方，且其侧壁通过所述真空导气管连接真空泵；所述底盘安装于所述反应盒体的底部，并且其表面开设有若干个同心环形凹槽，所述环形凹槽底部均匀开设有通孔；所述吸附机构包括吸附底盘和压力调节器；所述吸附底盘安装于所述底盘的底部，所述吸附底盘的顶部接通于所述通孔；所述压力调节器的一端连接于所述吸附底盘侧边，另一端通过所述真空导气管连接真空泵；所述激光装置、压力调节器、真空泵分别与所述操作台电气连接；所述磁场装置安装于所述反应装置的下方。2.根据权利要求1所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述激光装置包括直驱电机平台、光学系统和激光发生器；所述直驱电机平台包括Z轴导轨、滑动支撑架和直驱电机；所述Z轴导轨竖直安装于所述支撑架上；所述滑动支撑架滑动安装于所述Z轴导轨上，并与所述光学系统连接；所述直驱电机驱动所述滑动支撑架，用以带动所述光学系统沿Z轴导轨方向作上下运动；所述光学系统与所述激光发生器电气连接。3.根据权利要求2所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述光学系统包括隔磁外壳、光学组件和激光出镜罩；所述隔磁外壳安装于滑动支撑架上；所述光学组件安装于所述隔磁外壳的内部；所述激光出镜罩连接于所述隔磁外壳的底部的通口处；所述激光出镜罩的出光口位于反应盒体的正上方。4.根据权利要求3所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述操作台是由可视化的PLC屏幕和集成PLC控制系统组成的集成控制平台；所述激光发生器包括平面激光脉冲器和激光束产生装置；所述激光束产生装置产生的激光束的波长为：350～2000nm；所述激光束的能量为1～5MW/cm2；所述光学组件为全反射镜、扩束镜、整形镜片和扫描振镜。5.根据权利要求1所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述反应盒体内的侧壁设置有加热贴片，所述加热贴片的加热温度范围为20～70℃，精度为±1℃。6.根据权利要求1所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述反应盒体内部设置有检测调节装置，并通过电气连接于所述操作台；所述检测调节装置包括真空度检测器、恒温调节器和磁场强度检测器；三者沿轴中心对称安装于所述反应应盒体的内壁上，并且相互间隔分布。7.根据权利要求1所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述上盖的中部为玻璃透明材料，其外围设置有第一密封垫；所述底盘与所述吸附底盘之间设置有第二密封垫。8.根据权利要求1所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述磁场装置包括磁场发生器、传动装置和旋转电机；所述磁场发生器安装于所述反应装置的下方，所述旋转电机通过所述传送装置带动所述磁场发生器绕轴承作旋转运动；所述磁场发生器产生的磁场梯度为2～6kG/cm。9.根据权利要求8所述的一种微纳孔阵列的加工装置，其特征在于：所述磁场发生器包括磁芯、支撑