可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109985745A(43)申请公布日2019.07.09(21)申请号201910285002.2(22)申请日2019.04.10(71)申请人业成科技（成都）有限公司地址611730四川省成都市高新区西区合作路689号申请人业成光电（深圳）有限公司英特盛科技股份有限公司(72)发明人傅圣皓(74)专利代理机构成都希盛知识产权代理有限公司51226代理人杨冬梅张行知(51)Int.Cl.B05B13/02(2006.01)B05B7/02(2006.01)B05B12/08(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置(57)摘要一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，包括有：一上盖及一底座；其中，该上盖设一支撑架，该支撑架底部设一罐体，该罐体中供置入涂料，该罐体底部设复数个小孔，该等小孔呈同心圆阵列排列；该底座结合于该上盖底部，该底座上端设一倾斜平台，该倾斜平台上设至少三个定位柱，该等定位柱上供承载待喷涂之一曲面物体，该倾斜平台一侧设一把手，令能以该把手控制并固定该曲面物体之喷涂角度，该底座上设一气源口及一电源，其中该气源口与该罐体相接，该气源口可与一气压帮浦相接，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体，使该罐体中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度。CN109985745ACN109985745A权利要求书1/1页1.一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其特征在于，包括：一上盖，该上盖设有一支撑架，该支撑架中央底部设有中空之一罐体，该罐体中供置入涂料，该罐体底部设有复数个小孔，该等小孔呈阵列排列于该罐体底部上；及一底座，该底座结合于该上盖底部，该底座上端对应该等小孔之位置上设有一倾斜平台，该倾斜平台上设有至少三个定位柱，该等定位柱上供承载待喷涂之一曲面物体，该倾斜平台一侧边设有一把手，该把手之外端凸伸出该底座之侧边，该倾斜平台在对应该把手外端之另一侧边设有一枢接端，该枢接端枢设于该底座之另一侧边，令能以该把手之外端控制并固定该倾斜平台上曲面物体之喷涂角度，该底座之底部一侧边设有一气源口及一电源，其中该气源口与该罐体相接，而该电源则提供动作时所需之电力，该气源口可与一气压帮浦相接，令该气压帮浦提供一高压气体予该罐体，使该罐体中之涂料藉由高压气体之推送，可经由该等小孔构成的阵列洒落，而提高喷涂之均匀度。2.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该涂料为二氧化钛。3.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该支撑架之顶面设有镂空之一第一观景窗，而该底座上端外侧并设有镂空之一第二观景窗，使藉由该第一观景窗、该第二观景窗之设置，方便从该上盖、该底座外侧确认喷涂进度，该第一观景窗、该第二观景窗上并装设一透明之热塑式玻璃。4.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该支撑架在该罐体上方设有一喷涂量调节钮，该喷涂量调节钮与该罐体相接，用以供调节喷涂量而控制喷涂速度。5.如申请专利范围第4项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该喷涂量调节钮上设置有一刻度。6.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该等小孔与待喷涂之该曲面物体之间可维持12～20mm之适当距离。7.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该等小孔构成的阵列之间距为5mm。8.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该支撑架、该罐体之材质为铝。9.如申请专利范围第1项所述之可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，其中该底座之材质为铝。2CN109985745A说明书1/3页可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置技术领域[0001]本发明系一种可提高曲面喷涂均匀性之喷涂装置，尤指一种于曲面物体上喷涂二氧化钛(TiO2)，可提高均匀性之喷涂装置。背景技术[0002]按，手机之曲面盖板，于制造过程中，待测手机曲面盖板在使用扫描时，需要以二氧化钛(TiO2)覆盖其表面，以避免机台投射之蓝光直接穿透待测物，而不是反射回两侧的镜头。[0003]目前的方式，是通过喷枪将二氧化钛(TiO2)附着在待测物表面。虽然喷涂时会保持一段距离，让雾化后的涂料可以比较均匀的覆盖，但靠近喷枪口中心的区域，涂料还是较浓的，再加上个人喷涂手法的不同，导致待测物喷涂后的厚度与均匀度有一定程度的差异，也就是说，涂料会集中于喷口中心，若技巧不够好，甚至会差到50um以上，相当不便利。[0004]由此可见，上述习用物品仍有诸多缺失，实非一良善之设计者，而亟待加以改良。发明内容[0005]有鉴于此，本案发明人本于多年从事相关产品之制造开发