石英反应池及其加工方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115971984A(43)申请公布日2023.04.18(21)申请号202310197818.6C03B25/00(2006.01)(22)申请日2023.03.03(71)申请人中元汇吉生物技术股份有限公司地址401325重庆市大渡口区建桥工业园C区太康路6号30栋第1-4层(72)发明人罗方伟黄青标(74)专利代理机构重庆航图知识产权代理事务所(普通合伙)50247专利代理师胡小龙(51)Int.Cl.B24B1/00(2006.01)B24B29/02(2006.01)B24B19/22(2006.01)B28D5/04(2006.01)C03B29/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图7页(54)发明名称石英反应池及其加工方法(57)摘要本发明公开了一种石英反应池加工方法，包括如下步骤：步骤一、分解：根据反应池结构模型，将反应池分解为便于切割加工的多个零件；步骤二、切割：利用线切割方式切割得到的各个零件的零件胚；步骤三、磨削：磨削切割得到的零件胚；步骤四、抛光：抛光各个零件胚中所有作为反应腔内表面的所有表面，以及抛光所有在零件胚拼接时的接触表面；步骤五、拼接、钻孔、退火：将所有零件通过键合的方式拼接为反应池产品，在反应池产品上加工通孔，并对反应池产品进行退火处理；步骤六、清洗：清洗反应池产品后烘干。本发明还公开了一种采用上述方法得到的石英反应池。本发明的石英反应池及其加工方法，能够实现采用石英材料实现反应池的工业化生产制造。CN115971984ACN115971984A权利要求书1/2页1.一种石英反应池加工方法，其特征在于：包括如下步骤：步骤一、分解：根据反应池结构模型，将反应池分解为便于切割加工的多个零件；步骤二、切割：利用线切割方式切割石英材料得到的各个零件的零件胚；步骤三、磨削：磨削切割得到的零件胚；步骤四、抛光：抛光各个零件胚中所有作为反应腔内表面的所有表面，以及抛光所有在零件胚拼接时的接触表面；步骤五、拼接、钻孔、退火：将所有零件通过键合的方式拼接为反应池产品，在反应池产品上加工通孔，并对反应池产品进行退火处理；步骤六、清洗：清洗反应池产品后烘干。2.根据权利要求1所述的石英反应池加工方法，其特征在于：所述步骤一中，分解反应池的方法为：11)将反应池分解为池体和池底，所述池体和池底的分解面为反应腔的柱形段与收口段之间的分界面；12)将池体与反应腔的两个透光面对应的部分分解为两个池体透光面零件，两个池体透光面零件之间的部分分解为池体内曲面零件；将池体内曲面零件上的凸起部分解为池体贴片零件。3.根据权利要求2所述的石英反应池加工方法，其特征在于：所述步骤二中，利用线切割方式分别切割得到池底、池体贴片零件、两个池体透光面零件和两个池体内曲面零件的零件胚。4.根据权利要求2所述的石英反应池加工方法，其特征在于：所述步骤四中，抛光的方法为：31)抛光反应腔内表面：采用氢氧火焰抛光机抛光两个池体内曲面零件的内表面、两个池体透光面零件的内表面以及池底上作为反应腔收口段的上表面；而后利用环磨机抛光两个池体透光面零件的内表面，使两个池体透光面零件的内表面的粗糙度达到纳米级；32)抛光接触表面：利用环磨机抛光池底、池体贴片零件、两个池体透光面零件以及两个池体内曲面零件的接触表面，使所有接触表面的粗糙度达到纳米级。5.根据权利要求4所述的石英反应池加工方法，其特征在于：氢氧火焰抛光机的抛光温度为1900‑2000℃，抛光时间2‑4小时。6.根据权利要求2所述的石英反应池加工方法，其特征在于：所述步骤五中，包括如下步骤：51)将两个池体内曲面零件和两个池体透光面零件按序键合得到第一组合体，而后将第一组合体与池底键合得到第二组合体，将第二组合体静置设定时间；52)对第二组合体进行退火处理；53)利用环磨机使第二组合体需要键合池体贴片零件的外表面抛光到纳米级粗糙度；54)将池体贴片零件键合到第二组合体的对应外表面上后得到第三组合体，将第三组合体静置设定时间；55)对第三组合体进行退火处理；56)在第三组合体的设定位置进行钻孔加工，得到反应池产品；57)对反应池产品进行退火处理。2CN115971984A权利要求书2/2页7.根据权利要求6所述的石英反应池加工方法，其特征在于：对第二组合体、第三组合体以及反应池产品进行退火处理的方法为：在退火炉内从200℃开始经14小时均匀升温到1200±100℃后保温4小时，再经过14小时降温至200℃后出炉，冷却至室温。8.一种石英反应池，其特征在于：采用如权利要求1‑7任一项所述石英反应池加工方法加工得到。9.根据权利要求8所述的石英反应池，其特征在于：包括采用石英材料制成的反应池本体，所述反应池本体内设有上端开口