增强薄膜、带增强薄膜的装置及其制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN116018265A(43)申请公布日2023.04.25(21)申请号202180054679.0(74)专利代理机构北京林达刘知识产权代理事(22)申请日2021.08.10务所(普通合伙)11277专利代理师刘新宇韩平(30)优先权数据2020-1485792020.09.03JP(51)Int.Cl.B32B27/00(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2023.03.03(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2021/0295552021.08.10(87)PCT国际申请的公布数据WO2022/050009JA2022.03.10(71)申请人日东电工株式会社地址日本大阪府(72)发明人片冈贤一权利要求书2页说明书19页附图1页(54)发明名称增强薄膜、带增强薄膜的装置及其制造方法(57)摘要本发明提供一种增强薄膜，其刚与被粘物贴合后容易剥离，在与被粘物贴合后通过对粘合剂进行光固化而可以与被粘物牢固地粘接，且不易发生由弯曲试验引起的剥离。增强薄膜(10)具备固着层叠于薄膜基材(1)的一个主面上的粘合剂层(2)。粘合剂层由含有具有交联结构的丙烯酸系基础聚合物和光固化剂的光固化性组合物形成。粘合剂层优选在光固化后的‑20℃下的剪切储能模量为1.0×104～5.0×105Pa、在25℃下的剪切储能模量为8.0×103～5.0×105Pa。CN116018265ACN116018265A权利要求书1/2页1.一种增强薄膜，其具备薄膜基材以及固着层叠于所述薄膜基材的一个主面上的粘合剂层，所述粘合剂层由含有丙烯酸系基础聚合物和光固化剂的光固化性组合物形成，所述丙烯酸系基础聚合物作为单体单元含有选自由含羟基单体和含羧基单体组成的组中的1种以上，在所述丙烯酸系基础聚合物中导入有交联结构，所述粘合剂层在光固化后的‑20℃下的剪切储能模量为1.0×104～5.0×105Pa、在25℃下的剪切储能模量为8.0×103～1.5×105Pa。2.根据权利要求1所述的增强薄膜，其中，所述丙烯酸系基础聚合物的玻璃化转变温度为‑45℃以下。3.根据权利要求1或2所述的增强薄膜，其中，所述光固化性组合物相对于100重量份所述丙烯酸系基础聚合物含有3～30重量份的所述光固化剂。4.根据权利要求1～3中的任一项所述的增强薄膜，其含有多官能(甲基)丙烯酸酯作为所述光固化剂。5.根据权利要求1～3中的任一项所述的增强薄膜，其含有环氧烷改性多官能(甲基)丙烯酸酯作为所述光固化剂。6.根据权利要求1～5中的任一项所述的增强薄膜，其中，所述光固化剂的官能团当量为80～300g/eq。7.根据权利要求1～6中的任一项所述的增强薄膜，其中，所述丙烯酸系基础聚合物为使用交联剂导入了交联结构的交联聚合物，所述交联剂相对于聚合物100重量份使用0.05～1重量份。8.根据权利要求7所述的增强薄膜，其中，所述交联剂为异氰酸酯系交联剂或环氧系交联剂。9.根据权利要求1～8中的任一项所述的增强薄膜，其中，所述粘合剂层在光固化前的‑20℃下的剪切储能模量为1.0×104～5.0×105Pa、在25℃下的剪切储能模量为5.0×103～1.0×105Pa。10.根据权利要求1～9中的任一项所述的增强薄膜，其中，所述粘合剂层的光固化后的25℃下的剪切储能模量为光固化前的25℃下的剪切储能模量的1.2～7倍。11.根据权利要求1～10中的任一项所述的增强薄膜，其中，所述粘合剂层的光固化后的‑20℃下的剪切储能模量为光固化前的‑20℃下的剪切储能模量的1.2～7倍。12.一种带增强薄膜的装置，其在可弯曲的装置的表面贴设有增强薄膜，所述增强薄膜具备薄膜基材以及固着层叠于所述薄膜基材的一个主面上的粘合剂层，所述粘合剂层贴合于装置表面，所述粘合剂层由光固化物形成，所述光固化物是使含有丙烯酸系基础聚合物和光固化剂的光固化性粘合剂组合物光固化而得到的，所述丙烯酸系基础聚合物作为单体单元含有选自由含羟基单体和含羧基单体组成的组中的1种以上，在所述丙烯酸系基础聚合物中导入有交联结构，所述粘合剂层的‑20℃下的剪切储能模量为1.0×104～5.0×105Pa、在25℃下的剪切储能模量为8.0×103～1.5×105Pa。13.一种带增强薄膜的装置的制造方法，其是在可弯曲的装置的表面贴设有增强薄膜2CN116018265A权利要求书2/2页的带增强薄膜的装置的制造方法，其中，在可弯曲的装置的表面贴合权利要求1～11中的任一项所述的增强薄膜的所述粘合剂层，对所述粘合剂层进行光固化。3CN116018265A说明书1/19页增强薄膜、带增强薄膜的装置及其制造方法技术领域[0001]本发明涉及贴设于装置表面的增强薄膜。进而，本发