一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112614738A(43)申请公布日2021.04.06(21)申请号202011464756.3(22)申请日2020.12.14(71)申请人华中科技大学地址430074湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号(72)发明人袁召何俊磊潘垣陈立学(74)专利代理机构武汉华之喻知识产权代理有限公司42267代理人廖盈春曹葆青(51)Int.Cl.H01H33/664(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图4页(54)发明名称一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头(57)摘要本发明公开了一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头，包括触头片、触头托、触头杯、支撑架、铁磁柱和导电杆；触头片和触头托上均匀开有沿径向的槽，其中一半为大槽，一半为小槽；触头杯上的开槽沿杯壁旋转90°形成杯指；支撑架固定在杯腔中心，主要起支撑作用；圆柱形的铁磁材料固定在支撑架和触头杯内壁之间，分布在靠近触头杯槽口处，其下端面通过杯腔底部的均匀分布的圆柱槽定位，上端面与触头托的下表面接触。该触头结构能改善真空灭弧室杯状纵磁触头的磁场分布，开距较小时触头边缘纵向磁场强度大于中心区域，开距较大时纵向磁场分布相对均匀，电流过零后剩余磁场较小，具有开断能力强、强度高、结构简单等优点。CN112614738ACN112614738A权利要求书1/1页1.一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，包括：触头片(1)、触头托(2)、支撑架(3)、触头杯(4)、导电杆(5)和铁磁柱(7)；所述触头片(1)、触头托(2)、支撑架(3)、触头杯(4)和导电杆(5)从上到下依次设置，且各个接触面均通过高电导率的焊料连接；所述触头托(2)与所述触头杯(4)形成杯腔，所述支撑架(3)位于杯腔中心，所述铁磁柱(7)均匀分布在所述支撑架(3)与杯腔内壁之间，所述支撑架(3)的下端面和所述铁磁柱(7)的下端面均通过定位槽与杯腔底部接触，所述支撑架(3)的上端面和所述铁磁柱(7)的上端面均连接所述触头托(2)；所述导电杆(5)设置在触头杯(4)的底部，用于连接触头和真空灭弧室，传导电流。2.如权利要求1所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头片(1)上沿径向均匀设置有多个第一槽，所述第一槽用于减小触头片(1)中的涡流，从而减小燃弧期间磁场的滞后和电流过零时刻的剩余磁场。3.如权利要求2所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头片(1)上沿径向均匀设置有多个第二槽，且所述第二槽设置在相邻两个第一槽之间，所述第二槽的长度小于所述第一槽的长度，所述第二槽的宽度小于所述第一槽的宽度；所述第二槽用于进一步减小触头片(1)中的涡流，同时保障燃弧期间阴极斑点的运动路径。4.如权利要求1‑3任一项所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头托(2)上均匀设置有沿径向的第三槽，所述第三槽用于减小触头托(2)中的涡流，减小燃弧期间磁场的滞后和电流过零时刻的剩余磁场；且所述第三槽的位置与所述第一槽的位置相同。5.如权利要求4所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头托(2)上沿径向均匀设置有多个第四槽，且所述第四槽设置在相邻两个第三槽之间，所述第四槽的长度小于所述第三槽的长度，所述第四槽的宽度小于所述第三槽的宽度；所述第四槽的位置与所述第二槽的位置相同；所述第四槽用于进一步减小触头托(2)中的涡流。6.如权利要求5所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述第一槽的数量与所述第三槽的数量相同，所述第二槽的数量与所述第四槽的数量相同；且所述第一槽的数量与所述触头杯(4)的杯指数量相同。7.如权利要求1‑6任一项所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述支撑架(3)的材料为不锈钢材料。8.如权利要求1所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，在所述触头杯(4)上开槽且沿杯壁旋转90°形成杯指，所述触头杯(4)上的槽口与所述触头托(2)上的第三槽对应。9.如权利要求8所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述铁磁柱(7)固定在所述支撑架(3)和所述触头杯(4)内壁之间，所述铁磁柱(7)的数量与所述触头杯(4)的杯指数量相同，多个所述铁磁柱(7)均匀分布在所述触头托(2)的所述第三槽对应的直径方向，所述铁磁柱(7)的下端面通过杯腔底部均匀设置于定位槽，所述铁磁柱(7)的上端面与触头托的下表面接触。10.如权利要求9所述的真空灭弧室纵磁触头，其特征在于，所述铁磁柱(7)为圆柱形，所述定位槽为圆柱形。2CN112614738A说明书1/4页一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头技术领域[0001]本发明属于真空灭弧室技术领域，更具体地，涉及一种基于铁磁材料的真空灭弧室纵磁触头。背景技术[0002]在高压直流输电系统中，直流断路器作