一种真空设备的角度调节装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112853298A(43)申请公布日2021.05.28(21)申请号201911100410.2(22)申请日2019.11.12(71)申请人中国科学院微电子研究所地址100029北京市朝阳区北土城西路3号(72)发明人郭晓龙张庆钊(74)专利代理机构北京华沛德权律师事务所11302代理人房德权(51)Int.Cl.C23C14/50(2006.01)C23C16/458(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图1页(54)发明名称一种真空设备的角度调节装置(57)摘要本发明公开了一种真空设备的角度调节装置，所述装置包括：底板法兰；固定杆；联轴器，所述联轴器与所述固定杆的另一端连接，且所述联轴器与样片台连接；支撑架；支撑法兰；丝杆法兰；滑块，所述滑块设置在丝杆法兰上，且所述滑块与丝杆连接；手轮，所述手轮设置在所述支撑法兰上，且所述手轮穿过所述轴承与所述丝杆的一端连接；波纹管，所述波纹管设置在所述底板法兰的下表面，且所述波纹管与所述丝杠法兰同轴连接；连杆，所述连杆的一端与所述波纹管连接，且所述连杆的另一端与所述样品台连接，实现了在不破坏腔室内真空条件下进行角度调节，减少开腔带来的污染，角度调节准确率高的技术效果。CN112853298ACN112853298A权利要求书1/1页1.一种真空设备的角度调节装置，其特征在于，所述装置包括：底板法兰；固定杆，所述固定杆的一端与所述底板法兰的下表面垂直连接；联轴器，所述联轴器与所述固定杆的另一端连接，且所述联轴器与样片台连接；支撑架，所述支撑架设置在所述底板法兰的上表面；支撑法兰，所述支撑法兰设置在所述支撑架的顶端，且在所述支撑法兰内连接一轴承；丝杆法兰，所述丝杆法兰与所述支撑法兰连接，且所述丝杆法兰内设置所述丝杆；滑块，所述滑块设置在所述丝杆法兰上，且所述滑块与所述丝杆连接；手轮，所述手轮设置在所述支撑法兰上，且所述手轮穿过所述轴承与所述丝杆的一端连接，其中，所述手轮转动带动所述丝杆旋转，且所述丝杆旋转带动所述滑块上下运动；波纹管，所述波纹管设置在所述底板法兰的下表面，且所述波纹管与所述丝杠法兰同轴连接；连杆，所述连杆的一端与所述波纹管连接，且所述连杆的另一端与所述样品台连接。2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述滑块上下运动带动所述丝杆法兰运动，且所述丝杆法兰运动带动所述波纹管伸缩。3.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述波纹管伸缩带动所述连杆连接的所述样品台以所述联轴器的转轴为中心旋转。4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述丝杠的运动长度大于所述波纹管的伸缩长度。5.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述丝杠与所述波纹管具有同一中心轴，且所述丝杠与所述固定杆平行设置。6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述底板法兰的下表面采用光滑面。7.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述波纹管采用焊接波纹管。2CN112853298A说明书1/4页一种真空设备的角度调节装置技术领域[0001]本发明涉及微电子技术领域，特别涉及一种真空设备的角度调节装置。背景技术[0002]真空设备是产生、改善和(或)维持真空的装置，包括真空应用设备和真空获得设备。目前真空设备快速发展，在微电子领域广泛使用，对真空结构设计提出更高要求。[0003]由于现有技术中开腔手动调节真空设备内的角度，造成破坏腔室内真空环境，带来腔室内污染，增加工作时间，降低生产效率的技术问题。发明内容[0004]本发明实施例提供了一种真空设备的角度调节装置，用以解决现有技术中开腔手动调节真空设备内的角度，造成破坏腔室内真空环境，带来腔室内污染，增加工作时间，降低生产效率的技术问题，实现了在不破坏腔室内真空条件下进行角度调节，减少开腔带来的污染，角度调节准确率高的技术效果。[0005]为了解决上述问题，本发明实施例提供了一种真空设备的角度调节装置，所述装置包括：底板法兰；固定杆，所述固定杆的一端与所述底板法兰的下表面垂直连接；联轴器，所述联轴器与所述固定杆的另一端连接，且所述联轴器与样片台连接；支撑架，所述支撑架设置在所述底板法兰的上表面；支撑法兰，所述支撑法兰设置在所述支撑架的顶端，且在所述支撑法兰内连接一轴承；丝杆法兰，所述丝杆法兰与所述支撑法兰连接，且所述丝杆法兰内设置所述丝杆；滑块，所述滑块设置在所述丝杆法兰上，且所述滑块与所述丝杆连接；手轮，所述手轮设置在所述支撑法兰上，且所述手轮穿过所述轴承与所述丝杆的一端连接，其中，所述手轮转动带动所述丝杆旋转，且所述丝杆旋转带动所述滑块上下运动；波纹管，所述波纹管设置在所述底板法兰的下表面，且所述波纹管与所述丝杠法兰同轴连接；连杆，所述连杆的一端与所述波纹管连接，且所述连杆的另一