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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109434683A(43)申请公布日2019.03.08(21)申请号201811435595.8(22)申请日2018.11.28(71)申请人广东工业大学地址510060广东省广州市越秀区东风东路729号大院(72)发明人李年丰姚洪辉王晗邱汉卓少木辛正旭黄松明张嘉荣(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限公司11227代理人罗满(51)Int.Cl.B24B41/04(2006.01)B24B13/00(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称抛光机床及其恒压抛光装置(57)摘要本发明公开一种抛光机床的恒压抛光装置,包括竖直设置的导轨、活动安装于导轨的滑块和固定连接滑块的抛光轴,滑块下端面设置有竖直向上延伸的活塞孔,还包括竖直设置且与导轨相对固定的支撑杆,支撑杆的上端水平设置有活塞平台,活塞平台伸入活塞孔以形成密闭的腔体,滑块能够沿导轨移动以改变腔体的体积,腔体的进气口连通气源,腔体的排气口连通开度控制装置,腔体内设置有气压传感器,开度控制装置能够根据气压传感器的检测结果控制腔体排气口的排气量。实现恒力抛光,提高了工件的抛光工艺,结构简单,控制过程简化。本发明还公开一种包括上述恒压抛光装置的抛光机床。CN109434683ACN109434683A权利要求书1/1页1.一种抛光机床的恒压抛光装置,其特征在于,包括竖直设置的导轨(1)、活动安装于所述导轨(1)的滑块(2)和固定连接所述滑块(2)的抛光轴(3),所述滑块(2)下端面设置有竖直向上延伸的活塞孔,还包括竖直设置且与所述导轨(1)相对固定的支撑杆(4),所述支撑杆(4)的上端水平设置有活塞平台(5),所述活塞平台(5)伸入所述活塞孔以形成密闭的腔体(6),所述滑块(2)能够沿所述导轨(1)移动以改变所述腔体(6)的体积,所述腔体(6)的进气口连通气源(7),所述腔体(6)的排气口连通开度控制装置,所述腔体(6)内设置有气压传感器(8),所述开度控制装置能够根据所述气压传感器(8)的检测结果控制所述腔体(6)排气口的排气量。2.根据权利要求1所述的恒压抛光装置,其特征在于,所述滑块(2)中部设置有与所述导轨(1)形状匹配的竖直通孔,所述通孔套装于所述导轨(1),所述活塞孔具体为围绕所述通孔设置的环形槽,所述环形槽的开口向下,所述活塞平台(5)具体为与所述环形槽形状匹配的环形板,多个所述支撑杆(4)围绕所述导轨(1)设置。3.根据权利要求2所述的恒压抛光装置,其特征在于,所述滑块(2)具体为长方体滑块,包括对应所述长方体滑块四个侧面设置的四个所述支撑杆(4)。4.根据权利要求3所述的恒压抛光装置,其特征在于,所述气压传感器(8)安装于所述活塞平台(5)上表面。5.根据权利要求4所述的恒压抛光装置,其特征在于,包括分别设置于四个所述支撑杆(4)上方的四个所述气压传感器(8)。6.根据权利要求1所述的恒压抛光装置,其特征在于,所述腔体(6)的进气口通过进气管(9)连通所述气源(7),所述腔体(6)的排气口通过排气管(10)连通所述开度控制装置。7.根据权利要求1所述的恒压抛光装置,其特征在于,还包括用于连接抛光机床的支架(11),所述导轨(1)的下端和所述支撑杆(4)的下端固定连接所述支架(11)的底板,所述导轨(1)的上端固定连接所述支架(11)的顶板。8.根据权利要求1至7任意一项所述的恒压抛光装置,在其特征在于,所述开度控制装置包括开度调节阀(12)、伺服电机(13)和控制器,所述开度调节阀(12)连通所述腔体(6)的排气口,所述控制器根据所述气压传感器(8)的检测结果控制所述伺服电机(13)工作,通过所述伺服电机(13)调节所述开度调节阀(12)的开度。9.一种抛光机床,其特征在于,包括恒压抛光装置,所述恒压抛光装置具体为权利要求1至8任意一项所述的恒压抛光装置。10.根据权利要求9所述的抛光机床,其特征在于,所述抛光机床具体为光学曲面镜片精密五轴抛光机床。2CN109434683A说明书1/4页抛光机床及其恒压抛光装置技术领域[0001]本发明涉及加工机床领域,特别是涉及一种抛光机床的恒压抛光装置。此外,本发明还涉及一种包括上述恒压抛光装置的抛光机床。背景技术[0002]目前,各种光学系统在军事、民用等领域都起着不可替代的作用,而日益突出的重要作用使得光学系统对光学元件的精度要求也越来越高。在超精密加工领域,待抛光工件放置于旋转轴,抛光笔与工件接触,旋转轴带动工件旋转进行抛光,因此工件与抛光笔之间压力是否恒定会严重影响工件抛光后的光学性能。[0003]在传统的光学元件加工中,主要是依靠人工操作抛光设备的方式完成表面抛光的,这样不仅会使得成本增高、生产效率变慢