纳米压印胶的雾化喷涂结构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114345588A(43)申请公布日2022.04.15(21)申请号202210033515.6(22)申请日2022.01.12(71)申请人罗刚地址江苏省苏州市工业园区雪棠街芭菲国际公寓D栋302(72)发明人罗刚(74)专利代理机构苏州三英知识产权代理有限公司32412代理人席勇(51)Int.Cl.B05B13/02(2006.01)B05B15/00(2018.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称纳米压印胶的雾化喷涂结构(57)摘要本发明公开了一种纳米压印胶的雾化喷涂结构，包括腔体、雾化喷淋装置、样品夹具和支撑杆。所述雾化喷淋装置设置在所述腔体的顶端，用于喷射压印胶的雾化气体。所述样品夹具设置在雾化喷淋装置的下方，该样品夹具用于固定待喷涂压印胶的样品。所述支撑杆的一端固定至所述样品夹具，所述支撑杆能够被驱动旋转，以带动所述样品夹具旋转。其中所述雾化喷涂结构整体与水平方向呈第一角度倾斜设置。根据本发明的纳米压印胶的雾化喷涂结构，整个结构倾斜设置，待喷胶的样品能够在支撑杆的作用下进行转动，有利于排出气体。CN114345588ACN114345588A权利要求书1/1页1.一种纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，包括：腔体；雾化喷淋装置，设置在所述腔体的顶部，用于喷射压印胶的雾化气体；样品夹具，设置在所述雾化喷淋装置的下方，该样品夹具用于固定待喷涂压印胶的样品；以及支撑杆，一端固定至所述样品夹具，所述支撑杆能够被驱动旋转，以带动所述样品夹具旋转；其中所述雾化喷涂结构整体与水平方向呈第一角度倾斜设置。2.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括导轨，设置在所述腔体的底部，所述支撑杆的另一端设于所述导轨上，且该支撑杆能够沿着导轨滑动。3.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括超音速喷管阵列，设置在所述雾化喷淋装置和所述样品夹具之间，该超音速喷管阵列用于喷射高速气流。4.如权利要求3所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述超音速喷管阵列包括多根喷管组成的同心圆环形结构，每根喷管上沿着该喷管的周向方向布置有多个喷口。5.如权利要求4所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，每个喷口沿着同一方向倾斜，该倾斜角度介于9°～11°之间。6.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述腔体为密封腔体，且腔体内的气压小于大气压。7.如权利要求3所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述超音速喷管阵列设有多个高速气体入口，分别设置在该阵列的两端。8.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，所述第一角度介于30°～45°之间。9.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括设置在腔体底部的出气口。10.如权利要求1所述的纳米压印胶的雾化喷涂结构，其特征在于，还包括喷淋头进口，设置在所述雾化喷淋装置的顶部。2CN114345588A说明书1/3页纳米压印胶的雾化喷涂结构技术领域[0001]本发明是关于纳米压印技术，具体是关于纳米压印胶的雾化喷涂结构。背景技术[0002]纳米压印技术是通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该压印技术主要分为三步，第一步是模板的加工。一般使用电子束刻蚀等手段，在硅或其他衬底上加工出所需要的结构作为模板。第二步是图样的转移。在待加工的材料表面涂上压印光刻胶，然后将模板压在其表面，采用加压的方式使图案转移到光刻胶上。第三步是衬底的加工。用紫外光使光刻胶固化，然后使用化学刻蚀的方法进行加工，完成后去除全部光刻胶，最终得到高精度加工的材料。[0003]在做转移模板以及压印过程中，都要用到涂胶等工艺。现有的涂胶工艺中，第一种是旋涂，主要工艺是在样品表面滴胶液，采用高速旋转，将样品表面多余胶液甩出样品。第二种是喷涂，主要是采用微射流，通过微射流喷嘴等，在样品表面喷涂微胶液，形成薄膜。[0004]旋涂技术的缺点，就是受样品边缘边界条件的影响，临近边界区域胶膜质量差，厚度与中心处厚度不一致，微射流工艺的缺陷在于雾化喷膜很难保证均匀性。[0005]进一步地，做转移模板时，或者在有凹槽结构的模板中，经常会产生气体缝隙，降低压印质量。如何将压印胶充分雾化以便均匀地喷涂在纳米压印模板上是本领域技术人员迄待解决的技术难题。[0006]公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。发明内容[0007]本发明的目的在于提供一种纳米压印胶的雾化喷涂结构，其能够在喷胶过程中，有效地去除待喷胶样品表面的气体。[0008