一种齿轮轮廓的抛光机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110253091A(43)申请公布日2019.09.20(21)申请号201910569701.X(22)申请日2019.06.27(71)申请人苏州辰晟优机电科技有限公司地址215163江苏省苏州市高新区科灵路78号7号楼601室(72)发明人单德芳(51)Int.Cl.B23F19/00(2006.01)B23F19/02(2006.01)B23F23/00(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图8页(54)发明名称一种齿轮轮廓的抛光机构(57)摘要公开了一种齿轮轮廓的抛光机构，本发明解决了不能对齿轮轮廓进行精加工抛光的难题，该齿轮轮廓的抛光机构包括底座，底座上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统，能够加工出具有超光滑表面,它利用梯度磁场使抛光工具和齿轮轮廓表面之间的磁流变液体的流变性能发生变化,使轮廓表面与磁流变液接触的区域产生较大的剪切力,以此来去除齿轮轮廓表面材料,同时不会对齿轮工件产生亚表层的破坏，该机构不仅可以确定性地对齿轮元件的面形进行修正,而且还可以获得较高的抛光效率和表面粗糙度。CN110253091ACN110253091A权利要求书1/2页1.一种齿轮轮廓的抛光机构，所述的齿轮轮廓的抛光机构包括底座（1），所述的底座（1）上分别设有抛光系统、调整系统和支持系统；其特征在于，所述的抛光系统包括位于所述的底座（1）上的滑动基板（2），所述的滑动基板（2）上设有抛光夹具（3），所述的抛光夹具（3）包括与所述的滑动基板（2）滑动配合的底板和位于底板上的左立板和右立板，所述的左立板和右立板平行间隔设置，所述的左立板上设有驱动孔，所述的右立板上与所述的驱动孔的对应位置处设有承载孔，所述的驱动孔和所述的承载孔之间架设有实心转动磁芯（4），所述的实心转动磁芯（4）穿出所述的右立板，所述的左立板上并且位于所述的驱动孔的正下方设有电机孔，所述的伺服电机的驱动轴穿过所述的电机孔与主动带轮连接，所述的主动带轮通过同步带与位于所述的实心转动磁芯（4）上的从动带轮连接，所述的实心转动磁芯（4）上穿设有绕线筒，所述的绕线筒位于所述的左立板和右立板之间，所述的绕线筒上缠绕有电磁线圈，所述的电磁线圈外套接有冷却套，所述的冷却套上设有冷却嘴口，所述的实心转动磁芯的端部设有抛光工具（5），所述的抛光工具（5）能够与被抛光齿轮进行抛光操作并且所述的抛光工具（5）与所述的被抛光齿轮的轮齿间具有工作间隙，所述的工作间隙充有MR抛光液；所述的调整系统包括位于所述的底座（1）上的调整座（6），所述的调整座（6）上设有调整立柱（7），所述的调整立柱（7）的上部设有穿孔，所述的穿孔中穿设有调整轴，所述的调整轴的一端设有调整柄，所述的调整轴的另一端设有传动件；所述的支持系统包括分度夹具（8），所述的分度夹具（8）包括位于所述的底座（1）上的夹具基底，所述的夹具基底上设有夹具支持体，所述的夹具支持体上设有两个间隔设置的夹具轴套，两个所述的夹具轴套穿设有从动转杆，所述的从动转杆的一端与所述的传动件配合，所述的从动转杆的另一端连接有所述的被抛光齿轮，所述的从动转杆上设有分度齿轮，所述的分度齿轮位于所述的轴套和所述的调整轴之间。2.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的MR抛光液中均匀分布有铁颗粒和SiC磨料颗粒，所述的工作间隙中的磁通密度决定了所述的MR抛光液中铁颗粒的偶极子，所述的铁颗粒的偶极子彼此吸引并在磁通密度区域中形成链结构，所述的链结构的屈服强度在抛光过程期间将活性磨粒保持在所述的抛光工具（5）的表面处。3.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的MR抛光液中的铁颗粒和SiC磨料颗粒形成立方体单元型结构，其中，两个所述的SiC磨料颗粒与一个所述的铁颗粒相互作用而对角放置于立方体中，所述的铁颗粒位于立方体的中心，每个所述的SiC磨料颗粒分别相切于立方体的三个平面。4.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，有效磨料颗粒区域位于被抛光齿轮的齿轮齿廓的有效磁化表面上，所述的有效磨料颗粒区域的面积随所述的抛光工具（5）的旋转和往复运动的变化而变化。5.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的有效磨料颗粒区域是由外部磁场以及所述的抛光工具（5）的外廓表面和所述的MR抛光液共同形成。6.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的抛光工具（5）为圆环形抛光刀具，所述的圆环形抛光刀具与所述的实心转动磁芯（4）同心设置。7.根据权利要求1所述的一种齿轮轮廓的抛光机构，其特征在于，所述的左立板的内侧还设置有定位板，所述的定位板上设有定位孔，所述的定位孔与所述的电机孔同心。2CN1102