一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112876617A(43)申请公布日2021.06.01(21)申请号202110075870.5B01J20/26(2006.01)(22)申请日2021.01.20B01J20/30(2006.01)C08L51/08(2006.01)(71)申请人西北大学地址710127陕西省西安市长安区郭杜教育科技产业区学府大道1号(72)发明人陈方方孙敏张靖婧吕成凯(74)专利代理机构西安利泽明知识产权代理有限公司61222代理人贾晓玲(51)Int.Cl.C08F283/00(2006.01)C08F220/06(2006.01)C08F222/20(2006.01)C08G83/00(2006.01)C08J9/28(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图4页(54)发明名称一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法(57)摘要本发明公开了一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，制备过程如下：(1)制备A2(双(2‑丙烯酰氧基乙基)二硫酯)单体；(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物；(3)沉淀聚合；(4)除去模板分子；(5)得到多孔分子印迹缓释材料。利用双硫键还原敏感断裂的性质，裂解去除超支化聚合物从而在MIPs中形成多孔结构，有利于模板分子与有效结合位点的传质吸附，是一种温和地制备多孔分子印迹材料的化学方法。所制备多孔MIPs具有材料体系的新颖性，所制备材料具有多孔性和选择性吸附性，预计在药物缓释方面具有良好的潜在应用价值。CN112876617ACN112876617A权利要求书1/1页1.一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，制备过程如下：(1)制备A2单体：用含二硫键结构的双二硫醚和含端双键的丙烯酰氯，制备末端双键、含可逆二硫键结构的A2单体；(2)制备含二硫键结构的超支化聚合物：将步骤(1)合成的所述A2单体，加入B3单体，通过迈克尔加成反应合成末端为双键的含二硫键结构的超支化聚合物；(3)沉淀聚合：将步骤(2)合成的所述超支化聚合物作为反应基质，盐酸硫胺素作为模板分子，甲基丙烯酸作为功能单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯作为交联剂，偶氮二异丁腈作为热引发剂，在乙腈中进行沉淀聚合，得到印聚迹合物；(4)除去模板分子：将步骤(3)中所述印迹聚合物加入甲醇‑乙酸‑水溶液洗涤以除去模板分子；(5)得到多孔分子印迹缓释材料。2.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，在制备所述A2单体前，对反应体系进行无水无氧处理。3.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述步骤(1)中，所述A2与所述B3的摩尔比为2:1‑3:1。4.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述步骤(2)中，所述A2与所述B3在2‑8mL氯仿中45℃温度下反应2天。5.如权利要求4所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述氯仿单体浓度0.4‑1.8mol/L。6.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述(3)过程为鼓泡除氧15min，在60℃的油浴中反应24h。7.如权利要求1所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述(4)过程为过滤后放入滤纸中密封，放入索氏提取器中，加入所述甲醇、水、冰乙酸混合溶剂，在110℃冲洗3天。8.如权利要求7所述的多孔分子印迹缓释材料的制备方法，其特征在与，所述甲醇、水、冰乙酸混合溶剂体积比为60:30:10。2CN112876617A说明书1/5页一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法技术领域[0001]本发明属于分子化学领域，具体涉及一种多孔分子印迹缓释材料的制备方法。背景技术[0002]分子印迹材料(molecularimprintingpolymers，MIPs)主要由模板分子、具有结构互补的功能单体及交联剂共聚而成，在空间结构和位点上与模板分子完全匹配，通常通过氢键、静电作用、疏水作用以及其它非共价的相互作用，使功能单体和模板分子以结构互补的有序状态排布起来，具有构效预定性、特异识别性和广泛适用性。传统的MIPs通过本体聚合方法制备而来，通过印迹交联干燥后将聚合物研磨、破碎、筛分得到一定粒径的MIPs，洗脱除去模板分子后加以应用。虽然本体聚合过程比较简单，但此制备方法存在反复研磨费时、费力、产率低，所得的颗粒形状不规则，粒径高度分散等问题。因此，研究人员对MIPs的制备方法不断进行改进，已从本体聚合改进到悬浮聚合、分散聚合、原位聚合、沉淀聚合、表面印迹等方法。为了实现药物在体内更好的转运与吸收，提高药物对靶组织的针对性，聚合物药物载体体系得到了广泛的关注，采用聚合物材料控释体系能够提高药物的持续性和专一性，有效而简便的提高现有药物