图像处理方法、装置、存储介质及设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115439914A(43)申请公布日2022.12.06(21)申请号202211169314.5(22)申请日2022.09.21(71)申请人支付宝（杭州）信息技术有限公司地址310000浙江省杭州市西湖区西溪路556号8层B段801-11(72)发明人朱军(74)专利代理机构北京恒博知识产权代理有限公司11528专利代理师侯世俭(51)Int.Cl.G06V40/16(2022.01)G06V10/774(2022.01)G06V10/82(2022.01)权利要求书2页说明书13页附图4页(54)发明名称图像处理方法、装置、存储介质及设备(57)摘要本说明书实施例公开了一种图像处理方法、装置、存储介质及设备，其中，该方法包括：获取参考人脸图像；生成与参考人脸图像对应的阴阳脸掩膜，该阴阳脸掩膜包括阴脸掩膜区域和阳脸掩膜区域；将阴阳脸掩膜与参考人脸图像进行叠加处理，生成阴阳脸样本图像，该阴阳脸样本图像的阴脸区域与阴脸掩膜区域对应，该阴阳脸样本图像的阳脸区域与阳脸掩膜区域对应。CN115439914ACN115439914A权利要求书1/2页1.一种图像处理方法，包括：获取参考人脸图像；生成与所述参考人脸图像对应的阴阳脸掩膜，所述阴阳脸掩膜包括阴脸掩膜区域和阳脸掩膜区域；将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理，生成阴阳脸样本图像，所述阴阳脸样本图像的阴脸区域与所述阴脸掩膜区域对应，所述阴阳脸样本图像的阳脸区域与所述阳脸掩膜区域对应。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理之前，所述方法还包括：对所述阴阳脸掩膜的所述阴脸掩膜区域和所述阳脸掩膜区域的边界进行边界处理，得到边界处理后的所述阴阳脸掩膜。3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述对所述阴阳脸掩膜的所述阴脸掩膜区域和所述阳脸掩膜区域的边界进行边界处理，包括：通过预定卷积核对所述阴阳脸掩膜的所述阴脸掩膜区域和所述阳脸掩膜区域的边界进行滑动窗口的卷积处理，或者，通过预定结构元素对所述阴阳脸掩膜的所述阴脸掩膜区域和所述阳脸掩膜区域的边界进行腐蚀处理，得到腐蚀处理后的所述阴阳脸掩膜。4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述参考人脸图像包括多个通道，所述方法还包括：对所述边界处理后的阴阳脸掩膜进行通道复制，生成与所述多个通道的各个通道对应的阴阳脸掩膜；对各个通道对应的阴阳脸掩膜进行通道叠加，生成所述多个通道的阴阳脸掩膜。5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理，生成阴阳脸样本图像，包括：分别获取同一通道的所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像的对应位置的第一像素值和第二像素值；将所述第一像素值与所述第二像素值进行相加运算，得到所述同一通道的阴阳脸样本图像，或者，将所述第一像素值与所述第二像素值进行相减运算，得到所述同一通道的阴阳脸样本图像；将各个通道的所述阴阳脸样本图像进行通道叠加，得到所述阴阳脸样本图像。6.根据权利要求2所述的方法，其中，所述生成与所述参考人脸图像对应的阴阳脸掩膜，包括：确定所述阴脸掩膜区域和所述阳脸掩膜区域的区域大小比例；基于所述区域大小比例，生成与所述参考人脸图像对应的阴阳脸掩膜。7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述阴脸掩膜区域的像素的像素值为0，所述阳脸掩膜区域的像素的像素值为1。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理之前，所述方法还包括：2CN115439914A权利要求书2/2页确定所述阴阳脸掩膜的旋转中心；基于所述旋转中心，按照预定旋转因子对所述阴阳脸掩膜进行旋转处理。9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中，在将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理之前，所述方法还包括：将所述阴阳脸掩膜的各个像素的像素值乘上预定光源亮度值。10.一种图像处理装置，包括：参考图像获取模块，用于获取参考人脸图像；阴阳脸掩膜生成模块，用于生成与所述参考人脸图像对应的阴阳脸掩膜，所述阴阳脸掩膜包括阴脸掩膜区域和阳脸掩膜区域；图像叠加模块，用于将所述阴阳脸掩膜与所述参考人脸图像进行叠加处理，生成阴阳脸样本图像，所述阴阳脸样本图像的阴脸区域与所述阴脸掩膜区域对应，所述阴阳脸样本图像的阳脸区域与所述阳脸掩膜区域对应。11.一种计算机存储介质，所述计算机存储介质存储有多条指令，所述指令适于由处理器加载并执行如权利要求1～9任一项所述方法的步骤。12.一种电子设备，包括：处理器和存储器；其中，所述存储器存储有计算机程序，所述计算机程序适于由所述处理器加载并执行如权利要求1～9任一项所述方法的步骤。13.一种包含指令的计算机程序产品，当所述计算机程序产品在