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提供能够以高生产率制造具有高杨氏模量和低相对介电常数的进行了图案形成的层间绝缘膜的层间绝缘膜制造用涂布组合物、及层间绝缘膜的制造方法、以及具有该层间绝缘膜的半导体元件。具体而言,一种层间绝缘膜制造用涂布组合物,其含有聚合性化合物(A)和光聚合引发剂(B),所述聚合性化合物(A)为具有2个以上聚合性基团的聚合性硅化合物,前述2个以上聚合性基团中的至少1个为*?O?R?Y所示的聚合性基团Q(*表示对硅原子的键合,R表示单键、任选包含杂原子的非取代或取代的碳数1~12的亚烷基、或亚苯基,Y表示聚合性基团)。