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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106229295A(43)申请公布日2016.12.14(21)申请号201610804242.5(22)申请日2016.09.05(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司(72)发明人彭艳召孟维欣郭建陈强任伟李亮黎文秀夏高飞(74)专利代理机构北京天昊联合知识产权代理有限公司11112代理人姜春咸陈源(51)Int.Cl.H01L21/77(2006.01)H01L27/12(2006.01)权利要求书1页说明书4页附图2页(54)发明名称显示面板的减薄方法和显示装置(57)摘要本发明提供一种显示面板的减薄方法,所述显示面板包括对盒设置的阵列基板和对盒基板,所述阵列基板和所述对盒基板相背离的表面上均存在多个凹陷结构,所述减薄方法包括:至少对所述对盒基板进行预处理;利用刻蚀液对所述对盒基板和所述阵列基板相背离的表面进行刻蚀;所述预处理包括:在形成有所述凹陷结构的表面上形成保护层,以使得所述凹陷结构被所述保护层填充;所述保护层由不被所述刻蚀液刻蚀的材料形成;去除所述保护层的位于所述凹陷结构以外的部分,并保留所述保护层的位于凹陷结构内的部分。相应地,本发明还提供一种显示装置。本发明能够在实现显示面板薄形化的同时改善其显示效果。CN106229295ACN106229295A权利要求书1/1页1.一种显示面板的减薄方法,所述显示面板包括对盒设置的阵列基板和对盒基板,其中,所述阵列基板和所述对盒基板相背离的表面上均存在多个凹陷结构;其特征在于,所述减薄方法包括:至少对所述对盒基板进行预处理;利用刻蚀液对所述对盒基板和所述阵列基板相背离的表面进行刻蚀;其中,所述预处理包括:在形成有所述凹陷结构的表面上形成保护层,以使得所述凹陷结构被所述保护层填充;所述保护层由不被所述刻蚀液刻蚀的材料形成;去除所述保护层的位于所述凹陷结构以外的部分,并保留所述保护层的位于凹陷结构内的部分。2.根据权利要求1所述的减薄方法,其特征在于,所述不被刻蚀液刻蚀的材料包括高分子树脂。3.根据权利要求1所述的减薄方法,其特征在于,所述保护层为透明层。4.根据权利要求1所述的减薄方法,其特征在于,所述保护层的厚度为2μm~4μm。5.根据权利要求1至4中任意一项所述的减薄方法,其特征在于,所述去除保护层的位于所述凹陷结构以外的部分,并保留所述保护层的位于凹陷结构内的部分的步骤利用抛光工艺进行。6.根据权利要求1至4中任意一项所述的减薄方法,其特征在于,所述至少对所述对盒基板进行预处理的步骤包括:对所述对盒基板和所述阵列基板均进行所述预处理。7.根据权利要求1至4中任意一项所述的减薄方法,其特征在于,所述利用刻蚀液对所述对盒基板和所述阵列基板相背离的表面进行刻蚀的步骤之后还包括:对刻蚀后的对盒基板的背离所述阵列基板的表面进行抛光。8.根据权利要求7所述的减薄方法,其特征在于,所述对刻蚀后的对盒基板的背离所述阵列基板的表面进行抛光的步骤中,抛光力度为0.4N~0.5N,抛光时间为8min~10min,以使所述对盒基板的厚度减小0.7μm~0.8μm。9.根据权利要求1至4中任意一项所述的减薄方法,其特征在于,所述利用刻蚀液对所述对盒基板和阵列基板相背离的表面进行刻蚀的步骤包括:将所述显示面板浸入所述刻蚀液中,以对所述对盒基板和所述阵列基板同时进行刻蚀。10.一种显示装置,包括显示面板,其特征在于,所述显示面板为利用权利要求1至9中任意一项所述的减薄方法减薄后的显示面板。2CN106229295A说明书1/4页显示面板的减薄方法和显示装置技术领域[0001]本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示面板的减薄方法和显示装置。背景技术[0002]目前在显示装置的生产过程中,通常对显示面板的上下基板进行减薄(slimming)工艺,以得到超薄显示面板,并且,上基板的厚度减薄后还可以扩大视角范围。目前常使用浓硫酸、氢氟酸等刻蚀液与基板反应进行化学减薄。在化学减薄之前的工艺步骤中,基板2表面会产生微小的凹陷结构1(如图1a所示),其开口和深度均为几微米;在后续进行减薄工艺时,凹陷结构1受到刻蚀液的刻蚀后会变大(如图1b所示),这就导致减薄后的显示面板的显示面不平整,影响显示效果,且当凹陷结构1较大时,对实际效果也会有一定的影响。[0003]因此,如何在显示面板的减薄过程中有效地去除显示面板表面的凹陷结构1成为本领域亟待解决的技术问题。发明内容[0004]本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题,提出了一种显示面板的减薄方法和显示装置,以在显示面板的减薄过程中,能够有效去除显示面板表面的凹陷结构,从而获得厚度较小且平整度较高的显