一种高反射多层隔热窗膜及其制备方法.docx
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高PID抗性的单晶多层钝化减反射膜及其制备方法.pdf
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本发明涉及一种高PID抗性的多晶多层钝化减反射膜及其制备方法,包括刻蚀后多晶硅片进入PECVD炉体后,先通氧气或空气等含氧气体后,再沉积多层钝化减反射膜层,多晶硅片衬底正表面自下而上依次设置且折射率递减的底层SiN
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