人脸图像处理方法及装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105354793A(43)申请公布日2016.02.24(21)申请号201510834545.7(22)申请日2015.11.25(71)申请人小米科技有限责任公司地址100085北京市海淀区清河中街68号华润五彩城购物中心二期13层(72)发明人王百超龙飞张涛(74)专利代理机构北京尚伦律师事务所11477代理人代治国(51)Int.Cl.G06T3/00(2006.01)G06K9/00(2006.01)权利要求书2页说明书10页附图4页(54)发明名称人脸图像处理方法及装置(57)摘要本公开是关于人脸图像处理方法及装置，其中，该方法包括：检测人脸图像中的肤色区域和关键部位；根据所述肤色区域和关键部位，构造与所述人脸图像对应的掩模，所述掩模用于暴露所述肤色区域中的去除所述关键部位后的区域；以所述掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波。本公开中，终端设备仅对人脸中掩模暴露的区域进行线性滤波，由于掩模中仅暴露肤色区域中要处理的部分，不包括例如五官等具有细节的图像以及五官轮廓、脸部轮廓等线条的关键部位，因此，通过使用简单的掩模和线性滤波，就能达到非线性滤波的效果。CN105354793ACN105354793A权利要求书1/2页1.一种人脸图像处理方法，其特征在于，所述方法包括：检测人脸图像中的肤色区域和关键部位；根据所述肤色区域和关键部位，构造与所述人脸图像对应的掩模，所述掩模用于暴露所述肤色区域中的去除所述关键部位后的区域；以所述掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以所述掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波，包括：以所述掩模为权重图，按以下公式对所述人脸图像进行线性滤波：其中，res表示滤波后的输出，im表示所述人脸图像，M表示所述掩模，·表示矩阵点乘，表示卷积，X表示线性滤波模板。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测人脸图像中的肤色区域和关键部位，包括：将所述人脸图像转换为YUV格式；在YUV格式的人脸图像的U、V空间检测人脸图像中的肤色区域和关键部位。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述在U、V空间检测人脸图像中的肤色区域，包括：当像素的U、V值满足预设条件时，将所述像素确认为肤色区域；或者，在U、V空间使用肤色模型检测人脸图像中的肤色区域。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述肤色区域和关键部位构造掩模，包括：构造与所述人脸图像对应的第一掩模，所述第一掩模中，与所述人脸图像的所述肤色区域所对应的位置的值为1，所述第一掩模中的其余位置的值为0；将所述第一掩模中与所述关键部位所对应的位置的值置为0，而所述第一掩模中其余位置的值保持不变得到第二掩模；所述以所述掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波，包括：以所述第二掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述检测人脸图像中的关键部位，包括：检测人脸图像中的包括五官区域和线条区域的关键部位。7.一种人脸图像处理装置，其特征在于，包括：检测模块，用于检测人脸图像中的肤色区域和关键部位；构造模块，用于根据所述检测模块所检测的所述肤色区域和关键部位，构造与所述人脸图像对应的掩模，所述掩模用于暴露所述肤色区域中的去除所述关键部位后的区域；处理模块，用于以所述构造模块构造的所述掩模为权重图对所述人脸图像进行线性滤波。8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述处理模块，用于：以所述掩模为权重图，按以下公式对所述人脸图像进行线性滤波：2CN105354793A权利要求书2/2页其中，res表示滤波后的输出，im表示所述人脸图像，M表示所述掩模，·表示矩阵点乘，表示卷积，X表示线性滤波模板。9.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述检测模块，包括：转换子模块，用于将所述人脸图像转换为YUV格式；检测子模块，用于在YUV格式的人脸图像的U、V空间检测人脸图像中的肤色区域和关键部位。10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，所述检测子模块，用于：当像素的U、V值满足预设条件时，将所述像素确认为肤色区域；或者，在U、V空间使用肤色模型检测人脸图像中的肤色区域。11.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述构造模块，包括：第一构造子模块，用于构造与所述人脸图像对应的第一掩模，在所述第一掩模中，与所述人脸图像的所述检测模块得到的所述肤色区域对应的位置的值为1，所述第一掩模中的其余位置的值为0；第二构造子模块，用于将所述第一构造子模块得到的第一掩模中与所述检测模块得到的所述关键部位对应的位置的值置为0，而所述第一掩模中的其余位置的值保持不变得到第二掩模；所述处理模块，用于以所述第二