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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103518518103518518A(43)申请公布日2014.01.22(21)申请号201310495097.3(22)申请日2013.10.21(71)申请人盘凤飞地址546100广西壮族自治区来宾市兴宾区北二路190号(72)发明人盘凤飞(74)专利代理机构北京中誉威圣知识产权代理有限公司11279代理人彭晓玲(51)Int.Cl.A01G1/00(2006.01)权利要求书1页权利要求书1页说明书3页说明书3页(54)发明名称一种苦瓜种植方法(57)摘要本发明公开了一种苦瓜种植方法,包含如下操作步骤:(1)整地,在垄上挖小坑;(2)在步骤(1)中挖好的坑中放入肥料并与坑中泥土搅拌混合;(3)将苦瓜苗放入步骤(2)中处理好肥料的坑中,然后用泥土将坑内肥料埋好,苦瓜苗根部培上泥土,淋药水。本发明利用各垄的间距,使苦瓜更易生长,苦瓜开始攀爬瓜棚支架时更易舒展,各枝藤叶间重叠率较低,抑制苦瓜生长的因素降低,枝叶间重叠率少,同时也使得苦瓜的病虫害减少,蝴蝶、蜜蜂授粉率更大,从而促进苦瓜增产;进一步的,瓜棚支架上苦瓜枝藤分部密度减少,抗风性更大,苦瓜收获期就会延长。CN103518518ACN10358ACN103518518A权利要求书1/1页1.一种苦瓜种植方法,其特征在于,包含如下操作步骤:(1)整地,在垄上挖小坑;(2)在步骤(1)中挖好的坑中放入肥料并与坑中泥土搅拌混合;(3)将苦瓜苗放入步骤(2)中处理好肥料的坑中,然后用泥土将坑内肥料埋好,苦瓜苗根部培上泥土,淋药水。2.根据权利要求1中所述苦瓜种植方法,其特征在于,还包含以下操作步骤:将种植好的苦瓜苗用地膜盖好。3.根据权利要求1中所述苦瓜种植方法,其特征在于:步骤(1)中所述的在垄上挖好小坑为:在垄中间单行挖小坑,每小坑的间距为50~70cm。4.根据权利要求3中所述苦瓜种植方法,其特征在于:所述的小坑为宽为3~5cm、高为3~5cm的小坑。5.根据权利要求1中所述苦瓜种植方法,其特征在于:步骤(1)中所述的垄为宽40~60cm,高为10~20cm的垄。6.根据权利要求1中所述苦瓜种植方法,其特征在于:步骤(2)中所述的肥料包含农家肥、磷肥、复合肥中的至少一种。7.根据权利要求1中所述苦瓜种植方法,其特征在于:所述的药水为加入了甲基托布津的水。2CN103518518A说明书1/3页一种苦瓜种植方法技术领域[0001]本发明涉及农产品种植方法,特别涉及一种苦瓜的种植方法。背景技术[0002]苦瓜又名凉瓜,是葫芦科植物,为一年生攀缘草本。茎、枝、叶柄及花梗披有柔毛,腋生卷须。叶子的直径达3至12厘米,有5至7道掌状深裂,裂片呈椭圆形,外沿有锯齿。春夏之交开花,雌雄同株,黄色。果实长椭圆形,表面具有多数不整齐瘤状突起。种子藏于肉质果实之中,成熟时有红色的囊裹着。苦瓜是人们喜爱的一种蔬菜,在南亚、东南亚、中国、和加勒比海群岛均有广泛的种植。特别是我们国家,很多南方城市的主要农作物主要是苦瓜,经济来源也主要是苦瓜。[0003]近年来广西年产苦瓜1000万吨左右,成为促进广西农作物发展的龙头作物之一。目前,极少有相关苦瓜种植的方式,苦瓜传统的种植方法,大多为每垄种植两行瓜苗,这样可以提升每亩苦瓜的产量。但是,因为种植瓜苗目的过大,容易引起更多的病虫害,而且,种植密度过大,限制了瓜苗以及苦瓜的生长,致使苦瓜长势偏小,从而使得每株苦瓜产量减少。[0004]因此,如何使得苦瓜成活率高,苦瓜每亩、每株苦瓜增产,并减少病虫害,降低投资成本,是本领域技术人员亟需解决的问题。发明内容[0005]本发明针对上述技术问题,发明一种能使苦瓜苗成活率高,苦瓜增产并少病虫害、降低投资成本的苦瓜种植方法。[0006]本发明技术方案如下:[0007]一种苦瓜种植方法,包含如下操作步骤:[0008](1)整地,在垄上挖好小坑;[0009](2)在步骤(1)中挖好的坑中放入肥料并与坑中泥土搅拌混合;[0010](3)将苦瓜苗放入步骤(2)中处理好肥料的坑中,然后用泥土将坑内肥料埋好,苦瓜苗根部培上泥土,淋药水。[0011]优选的是,将种植好的苦瓜苗用地膜盖好。[0012]优选的是,步骤(1)中所述的在垄上挖小坑为:在垄中间单行挖小坑,每小坑的间距为50~70cm。[0013]优选的是,所述的小坑为宽为3~5cm、高为3~5cm的小坑。[0014]优选的是,步骤(1)中所述的垄为宽40~60cm,高为10~20cm的垄。[0015]优选的是,步骤(2)中所述的肥料包含农家肥、磷肥、复合肥中的至少一种。[0016]优选的是,所述的药水为加入了甲基托布津的水。[0017]其中,种植苦瓜苗的垄长度就田地大小而定