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(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102066862A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102066862A(43)申请公布日2011.05.18(21)申请号201080001914.X(51)Int.Cl.(22)申请日2010.05.25F27B9/04(2006.01)F27B9/02(2006.01)(30)优先权数据F27B9/28(2006.01)2009-1283652009.05.28JPF27B9/36(2006.01)(85)PCT申请进入国家阶段日F27B9/40(2006.01)2010.12.21F27D7/02(2006.01)F27D7/06(2006.01)(86)PCT申请的申请数据F27D19/00(2006.01)PCT/JP2010/0034742010.05.25(87)PCT申请的公布数据WO2010/137286JA2010.12.02(71)申请人松下电器产业株式会社地址日本大阪府(72)发明人领木直矢松田直子中裕之有元真司(74)专利代理机构上海专利商标事务所有限公司31100代理人张鑫胡烨权利要求书3页说明书13页附图6页按照条约第19条的修改3页(54)发明名称烧成装置(57)摘要本发明的课题在于提供一种可在抑制烧成不均的同时、实现生产性的提高的烧成装置。本发明的烧成装置的特征为,包括:炉体(13),该炉体(13)具有内部空间且在该内部空间中对粉体状或粒体状的被处理物(11)进行烧成;气体喷出部(21),该气体喷出部(21)具有从在所述炉体(13)的内部空间中进行传送的所述被处理物(11)的上方喷出气氛气体的开口;气体提供部(18),该气体提供部(18)从所述炉体(13)的侧壁(13c)向所述气体喷出部(21)提供所述气氛气体;及加热部(24a、24b),该加热部(24a、24b)控制所述炉体(13)的内部空间的温度分布。CN10268ACCNN110206686202066872A权利要求书1/3页1.一种烧成装置,其特征在于,包括:炉体,该炉体具有内部空间且在该内部空间中对粉体状或粒体状的被处理物进行烧成;气体喷出部,该气体喷出部具有从在所述炉体的内部空间中进行传送的所述被处理物的上方喷出气氛气体的开口;气体提供部,该气体提供部从所述炉体的侧壁向所述气体喷出部提供所述气氛气体;及加热部,该加热部控制所述炉体的内部空间的温度分布。2.如权利要求1所述的烧成装置,其特征在于,与在所述炉体的内部空间中进行传送的粉体状或粒体状的被处理物的表层面相同高度的假想面和所述气体喷出部之间的距离为300[mm]以下。3.如权利要求1或2所述的烧成装置,其特征在于,所述烧成装置采用下述结构:将所述气体喷出部的面积设为S[mm2],将从所述气体喷出部喷出的所述气氛气体的流量设为Q[mm3/s],将与在所述炉体的内部空间中进行传送的粉体状或粒体状的被处理物的表层面高度相同的假想面和所述气体喷出部之间的距离设为H[mm],将所述假想面的垂线和所述气氛气体的喷出方向所成的角度设为θ[°],将所述气氛气体的喷出方向的延长线上的在所述假想面上的所述气氛气体的流速设为U[mm/s],将所述被处理物发生飞溅的临界摩擦速度设为Uc[mm/s],此时,满足以下的条件1~条件4的某一条件:(条件1)U=0.0315×S-0.5×QH/cosθ≤80U<Uc(条件2)U=(1.694+0.0105×H/cosθ)×S-0.5×Q×cosθ/H80<H/cosθ≤150U<Uc(条件3)U=(5.476-0.0142×H/cosθ)×S-0.5×Q×cosθ/H150<H/cosθ≤300U<Uc(条件4)U=S-0.5×Q×cosθ/HH/cosθ>300U<Uc。4.如权利要求3所述的烧成装置,其特征在于,将与在所述炉体的内部空间中进行传送的粉体状或粒体状的被处理物在烧成前的表层面高度相同的基准假想面和所述气体喷出部之间的基准距离设为Ho[mm],将与所述被处理物在烧成中途的表层面高度相同的变动假想面和所述气体喷出部之间的变动距离设为H’[mm],将因所述被处理物在烧成中途的体积变化所引起的所述变动距离的变动幅度设为2CCNN110206686202066872A权利要求书2/3页ΔH[mm],将烧成中途的所述被处理物发生飞溅的临界摩擦速度设为Uc’[mm/s],此时,在所述条件1~条件4的某一条件中,与所述被处理物的表层面高度相同的所述假想面和所述气体喷出部之间的距离H[mm]、及从所述气体喷出部喷出的所述气氛气体的喷出方向的延长线上的在所述假想面上的所述气氛气体的流速U[mm/s]满足如下关系:H=H’=Ho+ΔHU<Uc’。5.如权利要求1至4的任一项所述的烧成装置,其特征在于,在与被