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多晶硅还原炉.pdf
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还原炉底盘及多晶硅还原炉.pdf
本发明涉及多晶硅生产技术领域，尤其是涉及一种还原炉底盘及多晶硅还原炉。还原炉底盘包括底盘主体，底盘主体上安装有多圈电极组；底盘主体包括相对间隔设置的第一底盘、第二底盘和第三底盘，以及位于第二底盘和第一底盘之间的多个导流环板；第三底盘上开设有进气孔，用于向进气腔室内通气；导流环板形成环形的导流通道且导流通道的两端分别与进气腔室和还原炉相连通；多个导流环板呈同心间隔分布于任意相邻的两圈电极组之间。原料气体经由环形的导流通道均匀地进入到还原炉内，从而在一定程度上提高原料气体在还原炉内的流场分布及温度分布，原料气
2023-06-16
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多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉，包括：底盘和炉体，所述炉体连接在所述底盘上且在所述炉体与所述底盘之间限定出反应腔室；六十对电极，所述六十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第八圈上，所述第一至第八圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的八个同心正六边形；进气系统，所述进气系统包括设在所述底盘中部的多个喷嘴；和排气系统，所述排气系统包括多个排气口，所述排气口设在所述底盘上且位于所述第八圈与所述底盘的外周沿之间。根据本发明实施例的多晶硅还原炉，所述六十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第八圈上，由此，
2023-06-20
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多晶硅还原炉.pdf
本发明多晶硅还原炉，主要由底盘、炉体、电极、混合气进气管、混合气出气管、炉体冷却水进水管、炉体冷却水出水管、底盘冷却水进水管、底盘冷却水出水管及硅棒组成。本发明因混合气进气管均设置在由电极组成的正多边形的中心，使得工艺气体能够均匀的扩散到位于多边形顶点的硅棒表面上。电极采用正多边形分布，各电极之间互相辐射的能量基本持平，硅棒之间互相吸收散失的能量，硅棒的温度更容易得到维持与控制。由于硅棒互相吸收热辐射，平均每根硅棒被炉体内表面吸收的热辐射大大减少，由于电极数量增加到36对，单台还原炉的产量也大幅度提升。每
2023-06-20
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多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉，该多晶硅还原炉包括炉架，炉架上安装有炉体，炉架与炉体之间安装有底盘，炉体与底盘配合构成一中空的腔室，底盘上安装有若干电极，电极上安装有石墨件，硅芯棒位于腔室内且与石墨件连接，其中，多晶硅还原炉还包括隔热底板与隔热罩，且隔热底板与隔热罩均位于腔室内，隔热底板安装于底盘上，炉体的内壁上固定安装有若干卡扣支撑板，隔热罩安装于卡扣支撑板上，隔热罩与隔热底板一起围成中空的反应室，且硅芯棒位于反应室内。本发明的多晶硅还原炉有效防止反应室内的热量被冷却水带走，提高了反应室的储热能力，减少了
2023-06-20
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多晶硅还原炉.pdf
本发明公开了一种多晶硅还原炉，包括：底盘和炉体，所述炉体连接在所述底盘上且在所述炉体与所述底盘之间限定出反应腔室；三十对电极，所述三十对电极设在所述底盘上且分别分布在第一至第六圈上，所述第一至第六圈为以所述底盘中心为中心且由内向外依次增大的六个同心正五边形；进气系统，所述进气系统包括设在所述底盘中部的多个喷嘴；和排气系统，所述排气系统包括多个排气口，所述排气口设在所述底盘上且位于所述第五圈与所述底盘的之间。根据本发明实施例的多晶硅还原炉，可以合理利用热能，同时也可以避免炉体内侧壁带走过多热量，可以降低热量
2023-06-20
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