一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105423762A(43)申请公布日2016.03.23(21)申请号201511034739.5(22)申请日2015.12.31(71)申请人天津汇智瑞达科技有限公司地址300384天津市滨海新区高新区华苑产业区华天道3号综合楼A区516单元(72)发明人沈勤(74)专利代理机构天津滨海科纬知识产权代理有限公司12211代理人杨慧玲(51)Int.Cl.F27D5/00(2006.01)权利要求书1页说明书2页附图1页(54)发明名称一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵(57)摘要本发明提供了一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，由匣钵四壁和底部阶梯状的两个及以上圆孔组成。本发明所述的窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，可以使圆片状胎在烧结过程从胎上、下两面均匀加热，避免了受热不均引起的翘边现象以及传统陶瓷烧结过程中陶瓷粉料嵌入胎体的情况。CN105423762ACN105423762A权利要求书1/1页1.一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，其特征在于：由匣钵四壁和底部阶梯状的两个及以上圆孔(1)组成。2.根据权利要求1所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，其特征在于，圆孔(1)均匀分布在匣钵的底部。3.根据权利要求1所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，其特征在于，圆孔(1)内圆半径小于烧结后陶瓷的半径。2CN105423762A说明书1/2页一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵技术领域[0001]本发明属于盛装领域，尤其是涉及一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵。背景技术[0002]在传统的陶瓷制备过程中，烧结是必不可少的工艺程序。整个烧结的过程都是在窑炉中进行。而均匀加热，就成为自古以来烧结陶瓷的一大难题。在烧结圆片状陶瓷时，也遇到了同样的情况。目前一般的处理方法为，普通的匣钵内铺垫一层陶瓷粉料，将要烧结的圆片状胎放在陶瓷粉料上。这样在烧结的过程中，就能大体实现均匀加热。但是此方法的缺点是，胎在烧结以前是柔软的，陶瓷粉料会在烧结过程中嵌入胎中，影响成型后的外观。而且在烧结过程中，陶瓷粉料的铺垫稍厚就会导致受热不均，引起翘边现象。发明内容[0003]有鉴于此，本发明旨在提出一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，以解决圆片状陶瓷杂质嵌入以及翘边的问题。[0004]为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：[0005]一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，由匣钵四壁和底部阶梯状的两个及以上圆孔组成；[0006]进一步的，所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，圆孔均匀分布在匣钵的底部；[0007]进一步的，所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，圆孔内圆半径小于烧结后陶瓷的半径。[0008]相对于现有技术，本发明所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵具有以下优势：[0009]本发明所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，可以使圆片状胎在烧结过程从胎上、下两面均匀加热，避免了受热不均引起的翘边现象以及传统陶瓷烧结过程中陶瓷粉料嵌入胎体的情况。附图说明[0010]构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：[0011]图1为本发明实施例所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵俯视图；[0012]图2为本发明实施例所述的一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵剖视图；[0013]附图标记说明：[0014]1-阶梯状圆孔具体实施方式[0015]需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相3CN105423762A说明书2/2页互组合。[0016]下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。[0017]一种窑炉烧结圆片状陶瓷用匣钵，由匣钵四壁和底部的四个阶梯状圆孔1组成。其阶梯状圆孔内圆半径小于烧结后圆片状陶瓷的半径。使用时，将要烧结的圆片状胎放置在阶梯状圆孔1的阶梯上，将匣钵连同放置在其中的圆片状胎一起放入窑炉中进行烧结。[0018]本发明所述的窑炉烧结用匣钵，在烧结过程中，阶梯状圆孔1上的圆片状胎两面都可以在环境中进行加热，受热均匀，以此尽量减少烧结过程中圆片形胎的形变，极力避免了翘边现象的产生。同时，因为没有应用陶瓷粉末，所以不会有杂质嵌入胎中。[0019]以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。4CN105423762A说明书附图1/1页图1图25